X射线衍射分析仪 (XRD)
XRD TELLUS 系列是一款兼顾紧凑设计与高性能的台式粉末X射线衍射仪，旨在满足从教育、科研到工业过程控制的多层次需求。TELLUS Pro 是新一代研究级台式X射线衍射仪，专为材料分析而设计。它具备增强的性能和许多功能，可支持薄膜、结构分析和残余应力研究，广泛适用于学术研究和工业环境。
TELLUS PRO专为学术研究工业任务而打造。不仅能完成标准粉末衍射，还支持多种复杂测量，是一台功能全面的科研级设备。
X射线衍射分析仪 (XRD)主要特点
独立的双轴测角仪：配备高精度测角仪，驱动臂独立运动，支持对称和非对称扫描几何，提供灵活的测量方案。
双轴样品台：电动样品台带有两个旋转轴，可进行精确定位和对准，是薄膜和残余应力测量的理想选择。
光学系统：配备戈贝尔镜和平行板准直器，确保在掠入射、反射测量和织构分析中获得高质量数据。
宽广的角度范围：2θ扫描范围宽广（-12°至+160°），兼顾低角度和高角度测量，全面覆盖材料研究需求。
无需外部冷却：高效的内部闭环水冷系统，简化安装，降低维护成本。
多测量模式：原生支持GIXRD、XRR、残余应力、织构分析等专业技术。
X射线衍射分析仪 (XRD)技术参数
| 项目 | 规格指标 |
| X射线发生器 | 40 kV / 30 mA (1200 W) 或 40 kV / 15 mA (600 W) |
| X射线靶材 | Cu（可选：Cr, Co, Fe, Mo） |
| 冷却系统 | 内部水冷（闭环） |
| 测角仪 | 垂直 θ-θ 独立驱动，半径 150-210 mm |
| 2θ扫描范围 | -12° 至 +160° |
| 光源角度范围 | -6° 至 +125° |
| 探测器角度范围 | -6° 至 +145° |
| Min步长 (2θ) | 0.0003° |
| 定位精度 (2θ) | ±0.01° |
| 扫描速度 | 0.01 - 600°/min |
| Max半高宽 (FWHM) | ≤ 0.03° |
| 探测器 | 光子计数硅探测器：ADVACAM MiniPIX TPX3 (2D) 或 DECTRIS MYTHEN2 R (ID) |
| 接口 | USB / 以太网 |
| 计算机 | 配有Windows操作系统 |
| 主机尺寸 (宽×深×高) | 700 mm × 700 mm × 860 mm |
X射线衍射分析仪 (XRD)应用领域
晶体结构测定（包括晶格参数）
多组分样品的物相分析
结构分析
残余应力评估
X射线反射测量（XRR）
掠入射X射线衍射（GIXRD）
变温X射线衍射测量
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