超分辨量子显微镜 (3D磁电流显微镜)
提供一种用于异构集成和封装失效分析的超分辨率量子显微镜系统。该技术利用高灵敏度磁电流成像(MCI)提取多层信息,可深入查看集成电路内芯片堆叠的内部结构。
产品特点:
叠层失效的横向和深度定位
高横向/深度分辨率(分别低至200 nm和1μm)、宽视场(高达4 mm)的3D磁成像能力使我们能够为不同层创建电流图像,识别短路和真正的开路。
样品制备简单
由于磁场可不受影响地穿过cmos材料,因此需要的样品制备只是de-capping。
强大的QD软件
软件利用专门开发的机器学习和后处理算法,可在几分钟内获得结果。
室温、环境条件、稳健运行
无需特别条件即可轻松识别故障。
1. TOP image 显示了一个样品的磁场图,其中3个不同层同时位于不同深度的活动电流。层间距为85μm。
2. Left column(灰色)显示了从总图像中提取的各个单独层。
3. Right column(蓝色)显示了产生磁场的各个层内提取的电流。
参数指标:
系统参数
侧向分辨力(xy) | 达200nm |
深度分辨力(z) | 达1um |
视场范围 | 达4mm×4mm |
基底噪声 | 150nT (DC) (AC可达10nT) |
频率范围 | DC-4GHz (AC) |
灵敏度 | 10 μT/√Hz (DC),1 nT/√Hz (AC) |
测量时间 | 5-10min (type) |
一般规格
系统尺寸(W x L x H) | 0.7 m x 0.7 m x 1.7 m |
系统重量 | ~350kg |
XYZ位移台 | 300mm x 300 mm x 20 mm (行程) |
功耗 | 2 kW (max ) |
制冷方式 | 风冷 |
**具体使用详情,可咨询上海昊量光电设备有限公司。
产品标签:超分辨量子显微镜,磁电流显微镜,磁场显微镜,3D磁场显微镜,立体磁成像显微系统