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成像光谱仪

光电流成像系统超紧凑 高光谱成像仪(仅700克)高光谱成像光谱仪高光谱成像仪(400~2300nm) 显示全部
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光电流成像系统

激光共聚焦光电流成像系统,带低温探针台!

所属类别:光谱仪 » 成像光谱仪

所属品牌:韩国Nanobase公司

负责人姓名:邓工(Genii)

电话:186 2116 1670 邮箱:qingtong-deng@auniontech.com


光电流成像系统

激光共聚焦光电流成像系统,带低温探针台

XperRam CONFOCAL RAMAN-PHOTOCURRENT/ EL WITHPROBESTATION, CRYOSTATENVIRONMENT

超高性价比光电流成像系统,同时可用于拉曼光谱成像,荧光光谱成像。
u  独特的激光扫描技术,具有优异的扫描分辨率和重复性
    激光扫描分辨率< 0.02 um & 重复性< 0.1 μm
u  体相全息光栅光谱仪
    光透过率>90%,比反射式光栅高30%,信号传输效率更高
u  具有Raman/PL/光电流等多种测量模式
u  结构紧凑,模块化设计
u  扫描速度快,扫描范围大
200µm x 200µm范围内高速成像 & 2D Mapping (x 40 objective)

探针台,拉曼光谱成像,PL,荧光光谱成像,光电流光谱成像,拉曼 mapping,PL mapping,photocurrent mapping,光电流mapping,荧光mapping

         

韩国Nanobase公司最新推出的激光共聚焦光电流成像系统(光电流mapping)结合了探针台和激光共聚焦成像系统,不仅可以用作探针台,还可以用于光电流成像,同事扩展支持拉曼光谱成像和荧光光谱成像,产品具有如下特点:
• 客制化,可升级设计
• 200µm x 200µm 大面积快速扫描成像 & 2D Mapping (x 40 objective)
• 采用VPHG体相全息光栅,光通过率高。
• 易于使用和维护
• 可升级至拉曼光谱成像和荧光光谱成像

光学参数:

激发光源

445,532,635,808,1530nm等

显微镜(标配)

X40,NA=0.75

光谱范围

750px-1到150000px-1

激光扫描

分辨率< 0.02 um & 重复性< 0.1 μm

FOV200µm x 200µm@40X物镜

激光扫描光谱范围

VIS:450-700nm
  NIR 1:650-1050nm

NIR   2: 1050-1550nm


探针台参数:

探针台

6寸真空吸附卡盘,

光谱范围

750px-1到150000px-1

XY方向移动范围

150 x 150mm, 分辨率5um FOV200µm x 200µm@40X物镜

Z方向移动范围

/10mm, 分辨率1um

探针头

金,钨

高精度定位器

PH-C15, 10fA leakage current 4SET


配备独特的激光扫描装置
 

应用实例:



应用领域:
材料学,功能材料,纳米材料,二维材料(石墨烯,二硫化钼等),铁电陶瓷等
生物医学,细胞成像,疾病检测,皮肤分析等
半导体,太阳能电池和OLED等





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产品标签:探针台,拉曼光谱成像,PL,荧光光谱成像,光电流光谱成像,拉曼 mapping,PL mapping,photocurrent mapping,光电流mapping,荧光mapping

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