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无掩模光刻系统

DMD无掩膜光刻机 显示全部
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DMD无掩膜光刻机

高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机!

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负责人姓名:李工(William)

电话:156 1809 2363 邮箱:wentao-li@auniontech.com


DMD无掩膜光刻机

高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机!

 
AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点。

DMD式无掩膜光刻机无需制造掩膜,采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据,除此之外DMD式无掩膜光刻机还可以读取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式无掩膜光刻机使用365nmLED光源,降低价格的同时实现了稳定的曝光。采用10倍物镜,一次曝光面积可达1mm´0.6mm,曝光时间仅需1s。结合电动移动平台,可实现曝光拼接,分辨率可达到3mm。可通过公司编写的软件完成详细设定,使操作简洁方便。

与传统的光刻机不同,AU-PALET光刻机采用DMD数字掩膜光刻技术,无需制造掩膜。大大降低了时间和成本。无掩膜光刻机可以读取任何创建的CAD文件,直接进行光刻。除了CAD文件,还可以读取丰富的其它格式的数据,例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。



AU-PALET DMD式无掩膜光刻机采用短波段的LED灯为光源,相对于其它的光源,拥有更高的稳定性和更长的寿命,降低价格的同时实现了稳定的曝光。AU-PALET 无掩膜光刻机为面曝光,采用10倍的物镜,一次曝光面积可达到1mm´0.6mm,结合电动平移台可实现曝光拼接,可达到更大的曝光面积。可通过公司编写的软件完成简单操作和详细设定,操作简洁方便。

上海昊量光电设备有限公司推出的DMD式无掩膜光刻机有两种。

①  AU-PALET是一款快速光刻的无掩膜光刻机。本装置采用375nm的LED光源,实现了稳定的曝光,并且拥有更高的稳定性和更长的寿命。采用10´的物镜曝光面积达到1mm´0.6mm,光刻分辨率达到5mm,并在10s 内完成曝光。



 
②AU-PALET­_new 是AU-PALET的升级版本,在光源上采用波长更短的365nm的LED灯作为光源,采用10´的物镜曝光面积达到1mm´0.6mm,光刻分辨率达到3mm,并在1s 内完成曝光。




u  主要特点
l  高速度(1s)
l  广范围(1´0.6mm)
l  365nm LED光源
l  高分辨率 (3mm)
l  成本低

 
u  主要应用
磁性薄膜等的任意形状的图案的形成
传感器,半导体器件的制作
MEMS器件的试制、
光电子,LED的试制
微流体器件的试制
掩膜版制作
细胞分离通道等的制作
光波导路的制作

 
u  主要参数 

型号

参数

AU-PALET

AU-PALET_new

光源

375nm LED

365nm LED

光刻分辨率(使用10倍物镜)

5 mm

3 mm

曝光面积(使用10倍物镜)

1mm´0.6mm

1mm´0.6mm

平台

手动XYZq平台

手动XYZq平台

构成

装置本身,电脑, 软件

装置本身,电脑, 软件

外形尺寸

420(W) x 300(D) x 600(H)

300(W) x 450(D) x430(H)

选项

2x镜头,电动平台等

2x镜头,电动平台等






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产品标签:DMD式无掩膜光刻机,无掩膜光刻机,无掩膜曝光机,Maskless Photo-Lithography,数字掩膜光刻机

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