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无掩模光刻系统

DMD无掩膜光刻机桌面型纳米压印机 显示全部
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DMD无掩膜光刻机

高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机!

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DMD无掩膜光刻机

高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机!



 
AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点。

DMD式无掩膜光刻机无需制造掩膜,采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据,除此之外DMD式无掩膜光刻机还可以读取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式无掩膜光刻机使用365nmLED光源,降低价格的同时实现了稳定的曝光。采用10倍物镜,一次曝光面积可达1mm´0.6mm,曝光时间仅需1s。结合电动移动平台,可实现曝光拼接,分辨率可达到3μm。可通过公司编写的软件完成详细设定,使操作简洁方便。

与传统的光刻机不同,AU-PALET光刻机采用DMD数字掩膜光刻技术,无需制造掩膜。大大降低了时间和成本。无掩膜光刻机可以读取任何创建的CAD文件,直接进行光刻。除了CAD文件,还可以读取丰富的其它格式的数据,例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。


AU-PALET DMD式无掩膜光刻机采用短波段的LED灯为光源,相对于其它的光源,拥有更高的稳定性和更长的寿命,降低价格的同时实现了稳定的曝光。AU-PALET 无掩膜光刻机为面曝光,采用10倍的物镜,一次曝光面积可达到1mm´0.6mm,结合电动平移台可实现曝光拼接,可达到更大的曝光面积。可通过公司编写的软件完成简单操作和详细设定,操作简洁方便。
上海昊量光电推出的DMD无掩膜光刻机光源采用波长为365nm的LED灯作为光源,相比于激光或者汞灯,LED光源具有更长的使用寿命稳定性。LED光源的使用寿命可达到10000小时。采用10´的物镜曝光面积达到1mm´0.6mm,光刻分辨率达到3mm,并在1s 内完成曝光。若配备电动平移台,可完成套刻和光刻拼接,拼接面积可达25mm * 25mm, 并且电动平移台拥有,自动聚焦和对准功能,使拼接误差优于0.5μm。


  • 主要特点
    高速度(1s)
    广范围(1´0.6mm)
    365nm LED光源
    高分辨率 (3μm)
    成本低


  • 主要应用
    磁性薄膜等的任意形状的图案的形成
    传感器,半导体器件的制作
    MEMS器件的试制、
    光电子,LED的试制
    微流体器件的试制
    掩膜版制作
    细胞分离通道等的制作
    光波导路的制作


  • 主要参数 

型号

AU-PALET_new

光源

365nm LED

光刻分辨率(使用10倍物镜)

3 mm

曝光面积(使用10倍物镜)

1mm´0.6mm

平台

手动XYZq平台

构成

装置本身,电脑, 软件

外形尺寸

300(W) x 450(D) x430(H)

选项

2x镜头,电动平台等






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产品标签:DMD式无掩膜光刻机,无掩膜光刻机,无掩膜曝光机,Maskless Photo-Lithography,数字掩膜光刻机

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