暗场高光谱显微成像系统
IMATM暗场高光谱一款高速面成像设备，该系统是以显微技术与高光谱相机结合可同时满足对纳米材料的暗场透射模式及明场和暗场反射模式下的超光谱成像，即可获得样品的图像信息也可获得每个像素上样品的光谱信息。该系统在可见-近红外光谱范围进行数据采集。
其中成像部分采用高光谱相机。不同于传统的相机采用红绿蓝三个相对较宽的光谱通道来反应光谱的范围；高光谱相机采用体布拉格光栅带通滤光片，可对较窄的光谱通道单独成像，图像中的每个像素都可获得光谱信息。
我们的高光谱成像相机有几种优势：光谱范围可拓展至1700nm，光谱分辨率达2nm。面成像，不需要移动平台推扫成像，不会有像素偏移的图像问题。
显微镜采用奥林巴斯、尼康或Mitutoty公司提供的正置或倒置显微镜。
暗场照明通常用于分析生物样品中含有明显散射的纳米粒子。当与高光谱结合时，该设备即可获得纳米粒子的成分和位置。由于其独特的成像方式，可以配备高效的暗场聚光器获得高对比度的图像。该设备有以下优势：
1、 可配备干式和油浸聚光器
2、 为色差校正提供了自动聚焦功能，可以使每个波长的图像都聚焦到焦点处，每个波长可获得清晰图像。
3、 配置灵活，可以轻松的在暗场和明场下执行荧光、反射、透射成像。
4、 荧光成像可选配不同激发波长的激光，也可使用100W的汞灯，可配备6个不同波段的滤波器。
应用案例：
产品特点
快速全视野成像
高空间分辨率和光谱分辨率
可定制
无损分析
光谱分为可从400-1700nm
光谱与空间同步表征
多模式显微光谱成像
全视场高通量采集
主要参数：
参数 | VIS | SWIR |
光谱范围 | 400-1000 nm | 900-1620 nm |
光谱分辨率 FWHM | < 2 nm | < 4 nm |
光谱通道 | 连续可调 | 连续可调 |
空间分辨率 | 亚微米，受物镜数值孔径限制 | 亚微米，受物镜数值孔径限制 |
相机 | Photon etc. InGaAs 相机 | |
激发波长 蕞多 3 路激光 | 405、447、532、561、660、730、785、808 nm | 405、447、532、561、660、730、785、808 nm |
显微镜 | 科研级正置或倒置 | 科研级正置或倒置 |
照明选项 | 落射荧光、油式或干式暗场 | 落射荧光、油式或干式暗场 |
波长绝对精度 | FWHM/8 | |
蕞大扫描速度 | 150 ms/波长 | |
手动载物台行程 | X、Y：76 × 52 mm | |
Z 轴分辨率 | 100 nm | |
数据与软件 | HDF5、FITS；PHySpec™ 控制与分析软件，含计算机 | |
尺寸与重量 | 约 150 × 85 × 82 cm；约 80 kg | |
供电 | 120 VAC / 12 A / 60 Hz；230 VAC / 12 A / 50 Hz | |
主要选配 | 10X-100X 物镜、UV 扩展、电动载物台、滤光轮、EL 模块、第二相机端口、绝对光度校准、SWIR 高分辨率模块 | |
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