超高速分光干涉膜厚仪
非接触式高速、高精度、高再现性小型化机身分光干涉膜厚分析系统
超高速分光干涉膜厚仪产品简介
超高速分光干涉膜厚仪（SF-3）是一款基于光的干涉原理进行膜厚测量的系统，当光照射到测量对象（基板），表面反射的光和底部反射的光相互形成干涉（多重反射）。光的相位一致则强度加强，相位存在偏差则强度减弱。随着波长的变化，可以观测到反射强度变化的干涉条纹波形，通过解析这种波形求得膜厚。SF-3膜厚解析主要采用周波数解析法，结合专有的折射率n的波长分散性进行解析，可得到高精度、接近真实的膜厚值。
SF-3可应用于多种测量场景，搭载约 20μm 微小测量光斑，可应对带图案晶圆、界面粗糙、涂层不均、粒子分散等复杂被测样品，无需制作检量线，支持多层膜同步解析。同时SF-3能够在穿透窗材中进行长距离测量，也可以在水中透过水膜测量。
SF-3具有小型化机身，便于安装和移动；测量厚度范围广，光学厚度测量范围可达15 μm ~ 4500 μm；实时测量速度快，采样周期（MIN）可达 5kHz，测定取样周期在1 m sec以下，可实时追踪产线移动工件厚度变化，输出带时间戳精准膜厚数据；重复测量精度高，标准偏差在0.01%以下；测定距离广，测定距离可从50 mm - 200 mm。
超高速分光干涉膜厚仪核心特点
非接触式、非破坏式测量
使用分光干涉法对样品进行无接触、非破坏的测量
高度再现性
多次重复测量之间的误差小，精度高，1000 μm 基准样品重复二十次标准偏差在0.003 μm 以内
较长的工作距离
拥有较长的work distance，方便嵌入制造设备
多层膜对应
可利用分光干涉的原理对应测量多层薄膜厚度
无需检量线
分光干涉法使得其在部分情况下可以无需设置检量线直接进行检测
高速且即时的研磨检测
能以正确的间距测量移动测定对象，高速追踪时移变化，正确的测定取样周期，高度适配工厂的生产线
超高速分光干涉膜厚仪参数指标
项目 | SF-3/200 | SF-3/300 | SF-3/1300 | SF-3/BB |
尺寸 W×H×D mm | 123×128×224 | 320×200×300（检出器） 260×70×300（光源） | ||
测定晶圆厚度范围 μm | 5~400 | 10~775 | 50~1300 | 5~775 |
树脂厚度范围 μm | 10~1000 | 20~1500 | 100~2600 | 10~1500 |
取样周期（MIN） kHz(μsec) | 5(200)⁽*1⁾ | — | ||
重复精度 % | 0.01% 以下⁽*2⁾ | |||
测定光斑直径 μm | 约 Ø20 以上⁽*3⁾ | |||
测量距离 mm | 50、80、120、150、200 | |||
光源 | 半导体光源（Class 3B 相当） | |||
解析方法 | FFT 解析、MAX适化法⁽⁴⁾ | |||
接口 | LAN、I/O 输入输出端子 | |||
电源 | DC24V 规格（AC 电源模块单独贩卖） | |||
选配件 | 各种距离测定探头、电源模块（AC 用）、安全眼镜、基准铝镜、测定光检出 target、光纤 cleaner | |||
⁽*1⁾测定条件和解析条件不同，取样周期不同
⁽*2⁾产品出库基准的保证值规格，本司基准样品AirGap约300μm与约1000μm测定时的相对标准偏差（n=20）
⁽*3⁾WD50mm 探头式样的设计值
⁽⁴⁾测定薄膜时使用
CE 取得品为 SF-3/300、SF-3/1300
超高速分光干涉膜厚仪应用场景
超高速分光干涉膜厚仪可用于薄膜厚度测量、SiO2膜厚测定、背面粗糙测量、界面粗糙测量、厚度不均测量、功能性粒子分散测量、带图案圆镜测量、穿透窗材测量、水中测量、透明水膜测量、
存储材料测量、光学材料测量、树脂测量、半导体材料测量、圆晶测量、电解基膜测量、防水膜测量。
问答小贴士
超高速分光干涉膜厚仪主要用来做什么？
主要用于薄膜厚度和衬底的测量，应用于各种制造工序，可对应客户的广泛需求。
它和普通膜厚仪有什么区别？
它式采用分光干涉原理进行测量的圆晶膜厚仪，其测量精度更高，能够进行无接触测量和多层薄膜测量。
它能够测量粗糙的样品吗？
可以测量，它具有良好的耐粗糙能力，能够测量背面粗糙样品、界面粗糙样品、厚度不均匀样品、功能性粒子分散样品和带图案圆晶样品等。
它能进行穿透测量吗？
可以，它能够在穿透窗材中进行长距离测量，也可以在水中透过水膜测量。
测量速度如何？
测量频率可达5 kHz，测量时间低至200 μ sec每点。
有区域扫描功能吗？
有，超高速分光干涉膜厚仪可选配带R-Θ驱动的位移台或带X-Y驱动的位移台，能够进行自动Mapping。
超高速分光干涉膜厚仪采用非接触、非破坏式分光干涉测量技术，可快速分析膜厚。
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