RC2® 光谱型椭偏仪
面向复杂薄膜、纳米结构与穆勒矩阵分析的高端光谱椭偏系统
RC2® 光谱型椭偏仪产品简介
昊量光电新推出的 RC2® 光谱型椭偏仪是一款面向高端薄膜表征、复杂纳米结构分析、各向异性材料研究、显示器件检测和工艺监控的高性能光谱椭偏测量平台。系统采用双旋转补偿器结构，结合消色差补偿器设计、光源、下一代光谱仪和扩展近红外探测技术，可在宽光谱范围内实现高速、高精度、多维度的光学测量。
与常规光谱椭偏仪相比，RC2 的突出优势在于不仅可以完成标准光谱椭偏测量，还可以进行广义椭偏测量和完整穆勒矩阵椭偏测量。RC2 是适用于光谱椭偏分析和穆勒矩阵椭偏分析等多种应用的近乎通用解决方案，并可采集穆勒矩阵的全部 16 个元素。
RC2 可用于测量薄膜厚度、折射率 n、消光系数 k、光学常数、反射率、透射率、各向异性、去偏振以及完整穆勒矩阵数据。对于具有各向异性、退偏振、图案化结构、纳米结构或复杂偏振效应的样品，RC2 可提供比常规椭偏测量更全面的数据支持。
RC2 采用两个补偿器同步旋转的技术结构，两个补偿器分别位于样品前后。该设计能够提升测量速度、数据精度和偏振测量能力，并支持完整穆勒矩阵数据采集。资料第3页显示，双旋转补偿器技术是 RC2 实现高精度、快速测量和测量功能的关键基础。
RC2 可根据不同配置覆盖紫外、可见光、近红外以及扩展近红外波段。RC2 可覆盖从低至 193nm 的紫外到高达 2500nm 的扩展近红外范围；第13页列出了不同型号的波长范围，其中 DI 型可覆盖 193–1690nm，XI+ 型可覆盖 210–2500nm。
这种宽光谱能力使 RC2 特别适合低带隙半导体、透明导电氧化物、OLED、液晶、聚合物、有机光伏、显示材料和复杂多层膜结构分析。RC2 波长覆盖范围可从紫外延伸至近红外，对于化合物半导体薄膜可覆盖低至 0.5eV、高至 6eV 的光子能量区域，有助于观察材料带隙和电子跃迁吸收特征。
RC2 的光学设计可提供高准确度数据。资料第4页显示，对空气直通进行的测试测量中，对角穆勒矩阵值为 1±0.002，非对角穆勒矩阵值为 0±0.002；薄氧化膜厚度重复性可达到＜0.005nm，说明系统对极薄材料和表面层具有很高灵敏度。
RC2 不仅适用于常规薄膜厚度和光学常数测量，也适用于更复杂的材料体系，包括低带隙半导体、导电有机物、OLED、ITO、柔性 PET 基底、液晶、各向异性聚合物、图案化结构、纳米结构和复杂多层膜。
RC2 可用于显示应用，包括 a-Si、poly-Si、microcrystalline-Si、OLED 层、彩色滤光片、ITO、MgO、聚酰亚胺和液晶；其中 ITO 的电导率与近红外吸收相关，RC2 适合利用 NIR 或 XNIR 扩展波长进行测量。
RC2® 光谱型椭偏仪核心参数
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 产品名称 | RC2® 光谱型椭偏仪 |
| 产品类型 | 光谱椭偏仪 / 广义椭偏仪 / 穆勒矩阵椭偏仪 |
| 核心结构 | 双旋转补偿器 |
| 补偿器设计 | 消色差补偿器 |
| 光源系统 | 光源，支持计算机控制光束强度 |
| 光谱仪 | 下一代光谱仪设计 |
| 探测器 | ccd 与 InGaAs 阵列组合 |
| 扩展近红外探测 | 热电制冷 strained InGaAs 阵列，蕞高可至 2500nm |
| 数据采集 | 可同时采集完整光谱 |
| 典型速度 | 完整光谱测量可达 1/3 秒 |
| 测量 | SE、Generalized SE、Mueller matrix SE、去偏振、反射率、透射率 |
| 系统集成 | 可配置自动角度、聚焦光斑、原位安装、映射平台及多种附件 |
RC2® 光谱型椭偏仪测试能力
| 测量功能 | 说明 |
|---|---|
| 光谱椭偏 SE | 测量 Psi 和 Delta |
| 广义椭偏 Generalized SE | 适用于各向异性样品，可获得完整 2×2 琼斯矩阵 |
| 穆勒矩阵椭偏 MM-SE | 可获得 4×4 穆勒矩阵全部 16 个元素 |
| 去偏振测量 | 可测量并建模样品非理想特性 |
| 反射率测量 | 支持反射强度测量 |
| 透射率测量 | 支持透射强度测量 |
| 各向异性分析 | 适用于液晶、聚合物、柔性基底、非立方晶体等 |
| 薄膜表征 | 可测薄膜厚度、n、k、光学常数及材料结构变化 |
| 纳米结构分析 | 适用于样品、复杂偏振效应和纳米结构表征 |
RC2® 光谱型椭偏仪适用于复杂薄膜表征、半导体薄膜测量、低带隙半导体分析、有机半导体研究、OLED 层分析、光伏材料检测、ITO 透明导电膜分析、柔性 PET 基底薄膜测量、液晶显示材料分析、各向异性聚合物研究、纳米结构表征、图案化结构分析、穆勒矩阵椭偏分析、退偏振样品分析、原位工艺监控、晶圆薄膜均匀性映射、玻璃面板薄膜检测、液体环境薄膜测量和温控环境材料研究
RC2主要用于薄膜厚度、光学常数、各向异性、去偏振和完整穆勒矩阵测量，适合复杂薄膜、纳米结构、液晶、OLED、ITO、半导体和显示材料分析。
普通光谱椭偏仪通常主要测量Psi和Delta，而RC2采用双旋转补偿器，可支持广义椭偏和完整4×4穆勒矩阵测量，能够分析更复杂的各向异性和退偏振样品。
根据不同配置，RC2可覆盖193–1000nm、210–1690nm、193–1690nm，蕞高可扩展至210–2500nm。
适合。RC2可用于OLED、ITO、彩色滤光片、聚酰亚胺、液晶层等显示材料测量，并可通过穆勒矩阵分析液晶光轴扭曲、预倾角和各向异性折射率。
可以。RC2可直接安装到工艺腔室，用于实时监测和过程控制，适合薄膜沉积、刻蚀、工艺研发和在线监控场景。
RC2® 光谱型椭偏仪采用双旋转补偿器和宽光谱探测技术，可实现高速光谱椭偏、广义椭偏和完整穆勒矩阵测量。
从半导体薄膜、OLED、ITO、液晶到复杂纳米结构，RC2 为材料研发和工业过程控制提供高精度光学表征方案。
更多详情，欢迎直接联系昊量光电！
关于昊量光电：
上海昊量光电设备有限公司凭借强大的本地化销售网络与专业技术支持团队，长期服务于国内数以万计工业及科研客户，涵盖半导体、生物医疗、量子科技、精密制造、生物显微、物联传感、材料加工、光通讯等前沿领域。
昊量光电拥有的专家级的软硬件开发团队及丰富的行业应用经验，可提供：
✅ 全天候售后技术支持——快速响应，确保设备稳定运行；
✅ 定制化解决方案——从售前咨询到安装，培训，系统集成等，满足多样化需求；
✅ 客户高度认可——服务案例覆盖众多头部企业及高端科研机构，客户满意度持续居前列。
您可以通过我们昊量光电的官方网站www.auniontech.com了解更多的产品信息，或直接来电咨询4006-888-532。
产品标签：RC2光谱型椭偏仪,RC2椭偏仪,RC2光谱椭偏仪,穆勒矩阵椭偏仪,全穆勒矩阵椭偏仪,双旋转补偿器椭偏仪,广义椭偏仪,光谱椭偏分析,穆勒矩阵分析,薄膜厚度测量,光学常数测量,折射率测量,消光系数测量,薄膜n k测量,复杂薄膜表征,纳米结构表征,各向异性测量,退偏振测量,偏振光学测量,液晶椭偏测量,OLED薄膜分析,ITO薄膜检测,透明导电膜分析,显示材料检测,柔性PET基底测量,低带隙半导体分析,有机半导体测量,导电有机物分析,光伏薄膜检测,半导体薄膜测量,晶圆薄膜映射,玻璃面板映射,自动角度椭偏仪,原位
