CaF2 氟化钙晶体
作为半导体行业微光刻光学的既定标准，CaF2晶体在光学精度方面树立了新的标准。其卓越的性能，如在紫外线、可见光和红外光谱中广泛透射，以及对环境影响的高度抵抗力，使其成为科研和工业中要求高的应用的理想选择。
氟化钙（CaF2）是一种性能卓越且久经考验的光学材料：
· 宽波传输：在紫外、可见光和红外波段的透射率非常高。
· 低色散：zui大限度地减少色差。
· 对电离辐射的高抵抗：可用于太空环境。
· 低非线性折射率：非常适合高功率激光应用。
· 大直径：对于要求较高的应用，Max可达440毫米。
· 原材料纯度高：我们种植大型高纯度单晶氟化钙。
得益于这些特性，我们的CaF2晶体是以下领域的优选：
· 半导体行业：用于实现高精度的微光刻光学元件。
· 真空技术：适用于恶劣环境的坚固真空窗口。
产品特点：
特性 | 数值 | 优势 |
低折射率 | nd = 1.43384 | 非常适合高功率激光应用 |
低光谱色散 | Vd = 95.23 | zui大限度地减少色差 |
在准分子激光光学元件中具有出色的耐激光性 | 193 nm、248 nm | 激光组件使用寿命长 |
从深紫外到红外范围的高透光率及宽带传输 | 130 nm 至 8 µm | 在紫外、可见光和红外范围内具有优异的透光率 |
半成品可提供尺寸 | Max： 440 mm | 适用于要求苛刻的应用 |
不同应用领域下的产品规格：
一，IC光刻：制造设备
典型尺寸 | 直径 Max 350 mm，厚度 80 mm | ||
波长 | 248 nm | 193nm | 157nm |
每 10 mm 样品厚度内透过率 [%] | > 99.8 | > 99.7 | > 99.4 |
折射率均匀性 PV@633nm[ppm] | 1–15（取决于直径） | ||
应力双折射 PV@633nm[nm/cm] | 1–20 | ||
气泡、杂质（ISO 10110-3） | 1/1 ×0.063（典型值） | ||
二，IC光刻：准分子激光器及光束传输系统
三，非光刻技术：激光与成像光学
| 典型尺寸 | 直径 100 mm，厚度 30 mm |
| Max 尺寸 | 直径 Max440 mm，厚度 80 mm |
| 可选品级 | 紫外品级（UV 级）：193 – 400 nm 可见光品级（VIS 级）：400 – 780 nm 红外品级（IR 级）：0.78 – 9.00 μm |
| 每 10 mm 样品厚度内透过率 [%] | > 99.0 |
| 折射率均匀性 PV@633 nm [ppm] | 3 – 20 |
| 应力双折射 633 nm [nm/cm] | 1 – 50 |
| 气泡、杂质（ISO 10110-3） | 1/1 × 0.10（典型值） |
光谱透射率
氟化钙的光谱透射范围非常宽，从 130 纳米到 9 微米（视样品厚度而定），因此适用于紫外、可见光和红外光谱范围内的各种应用。
您在使用我们所提供的材料的产品优势:
材料尺寸的灵活性: 为您的具体需求量身定制解决方案。
优化性能: 实现非常高的光学精度和效率。
可靠性: 对一种经过验证且使用寿命长的材料的信任。
质量控制: 所有测量技术均采用激光实验室设备。
产品标签：CaF2,氟化钙晶体,氟化钙,单晶,合成晶体,单晶氟化钙
