二次谐波显微扫描成像（SHG）系统
五维扫描科研级SHG非线性光谱显微平台，1200万像素，1K分辨率下可达120fps
产品简介
SHG光谱显微系统是一款面向半导体、芯片、晶圆、二维材料、非线性晶体及高端功能材料研究打造的高灵敏度非线性光学显微成像平台。凭借蕞高 4096 × 4096像素扫描能力，系统能够对材料内部不同区域的非线性响应进行精细空间解析，为晶体对称性、晶向、晶畴、界面、应变以及微结构差异研究提供具有高度空间分辨能力的光学表征手段。为了显著提升实际实验效率，系统同时配置 1200万像素级彩色cmos宽场成像模块，可在约1K分辨率条件下实现蕞高约120 fps高速预览。实验人员可先通过宽场明场快速寻找样品、定位目标区域及完成辅助对焦，再进入SHG高灵敏度扫描模式，从而兼顾“快速导航”与“精细测量”。
系统配套自主一体化控制与分析软件，支持 X、Y、Z、λ、T五维扫描控制，并集成Z-Stacks三维图像重构、区域定量分析、反卷积图像处理及大视野图像拼接等功能。中英文操作界面可一键切换，使复杂的非线性光学实验流程更加集中、高效。在硬件设计方面，系统采用高度模块化架构，支持滤光与反射光学单元的插拔式扩展，并预留多种电动控制接口，可进一步扩展电动XYZ载物台、电动转盘、聚光镜以及其他自动化光机模块，为未来的多波段、多模式和自动化测量留下充足升级空间。
从“寻找目标”到“激发非线性响应”，从“获得图像”到“量化微观结构”，SHG光谱显微系统将高灵敏度SHG检测、高分辨率激光扫描、宽场导航及多维数据分析融为一体，为半导体检测、材料科学及非线性光学研究提供一套灵活而强大的科研级解决方案。
产品特点
双波长扫描与非线性SHG探测
采用1550nm
近红外激发(配532nm指示光)，专设高灵敏度、
红外扩展的PMT模块，精准锁定775nm目标波段，具备极强的二次谐波(SHG)非线性成像能力。扫描分辨率蕞高可达4096x4096。
高帧率宽场导航与彩色成像
宽场模块配置1200万像素级彩色CMOS相机，支持高速预览约1K分辨率下可达120fps，实现样品的实时明场观察、视场定位与辅助对焦。
全功能一体化控制软件
中/英界面一键切换。集成了五维(X,Y,Z,λ,T)扫描控制、三维立体图像重构(Z-Stacks)、区域定量测量、反卷积图像处理以及大图拼接功能。
高扩展性与模块化设计
硬件支持插拔式滤光/反射单元扩展;软件已预留电动控制接口，未来可无缝升级电动转盘、聚光镜、电动XYZ载物台等自动化硬件。
应用场景
二次谐波显微扫描成像系统广泛适用于半导体和生物领域的显微成像观察，如半导体检测，芯片检测，晶圆检测，晶体取向检测,晶格对称性分析，晶圆SHG检测，芯片非线性光学检测，无标记生物成像，皮肤组织SHG成像，非线性生物显微成像，生物组织SHG成像等。
问答小贴士
这套SHG显微系统为什么使用1550 nm激光？可以检测什么信号？
系统采用1550 nm近红外激光作为主要激发光源。样品发生二阶非线性光学过程后，会产生频率为基频两倍、波长约为一半的二次谐波，因此1550 nm激发对应的SHG信号位于约 775 nm。系统针对775 nm配置专用高灵敏度PMT探测通道，可以有效从基频光及其他背景信号中分离SHG信号，从而获得高对比度的二次谐波图像。SHG尤其适合研究非中心对称结构，因此可用于半导体、非线性晶体、二维材料、铁电材料以及材料界面等样品的晶向、晶畴、对称性和结构差异分析。
普通显微镜已经能看到芯片结构，为什么还需要SHG显微镜？
普通明场显微镜主要显示样品的形貌、颜色、反射率和透射率变化，而SHG显微成像检测的是材料的二阶非线性光学响应。SHG并不是简单替代普通显微镜，而是增加一个对材料微观结构高度敏感的“非线性光学对比维度”。本系统同时集成宽场彩色成像，就是为了将两者结合：先看形貌，再看非线性结构。
以后如果需要自动扫描晶圆或者增加其他探测波段，设备还能升级吗？
可以。该系统在设计阶段就采用了模块化架构。因此对于后续需要进行大面积样品自动扫描、多区域采集或者增加不同光学模块的用户，不需要完全重新建设整套平台，可以在原系统基础上逐步升级。具体可扩展波段及第三方硬件型号需要根据实际光学参数进行匹配确认。
跨越频率，以SHG之眼看见芯片深处。
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