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表面轮廓仪/3D形貌仪

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光波动场三维显微镜

  • 光波动场三维显微镜
  • 光波动场三维显微镜
无损、无需对焦,实现纳米级检测与超高速三维成像

所属类别:光学检测设备 » 表面轮廓仪/3D形貌仪

所属品牌:

产品负责人

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光波动场三维显微镜MINUK


公司简介


大塚电子(Otsuka Electronics)是一家日本高科技企业,专注于光学精密测量与分析技术的研发与产业化,核心技术涵盖光散射分析、粒径与Zeta电位测量、薄膜厚度检测及光谱分析等领域。公司以非接触、非破坏式光学检测为核心优势,为半导体、显示面板、新材料、生物医药等多个高端行业提供高精度测量与检测解决方案。


MINUK光波动场三维显微


MINUK是日本大塚电子2024年发布的面向透明/半透纳材料纳米级检测的光波动场三维显微镜。不仅可以评估纳米量级的透明异物和缺陷,单次获取高度方向的信息,并且可以无损、非接触、非侵入性地进行测量。另外,还可以高速扫描任何表面并确定测量位置,而无需对焦


MINUK所使用的观察方法为大塚所独创。通过向测量对象物照射激光,而对象物的厚度和折射率会发生变化,进而导致波面变化,针对这种变化,使用波前传感器其进行捕捉,而后使用独创的软件进行数值解析,再现图像。通过这一设备,使用者可瞬时获取1400微米深度方向的对焦信息,在对此信息进行数码重新对焦后,可进行三维构造的追加验证。同时,在获取数据后,设备可在之后通过软件在任意的深度和位置进行重新对焦。700微米×700微米的宽广视野,可捕捉到小于0.5微米的线的宽度,实现高分辨率,且由于光学系未使用透镜,因此成像无失真和像差。--


光波动场三维显微镜产品特点


  • 可评价纳米级的透明异物、缺陷、伤痕的大小、厚度、形状。

  •  一次拍照即可瞬时获取深度方向的信息。

  • 无需对焦,可高速测量。

  • 可非破坏、非接触、非侵入的测量。

  • 可在任意的面进行高速扫描,轻松决定测量位置。


光波动场三维显微镜技术特点


大视野·高速测量·透明可视化



以往显微镜与MINUK比较



多种模式可选



光波动场三维显微镜应用实例




光波动场三维显微镜产品参数


分辨率 x,y

691 nm(单次),488 nm(成分)

视场 x,y

700×700微米

分辨率 z

10 nm(延迟)

视场 z

±700微米

样本尺寸

100×80×t20 mm

(连接多功能样品架时)

样品台

用于微调的自动 XY 载物台

X:±10 mm Y:±10 mm

用于粗调的载物台

X:129 mm Y:85 mm

激光

波长 638 nm

输出 0.39 mW 以下,Class1

(对样品的照射强度)

尺寸

主机:505(W)×630(D)×439(H)

(宽度×深度×高度)毫米

重量

41 千克

功耗

本体:290VA

*不包括PC和其他配件


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昊量光电凭借强大的本地化销售网络与专业技术支持团队,长期服务于国内数以万计工业及科研客户,涵盖半导体、生物医疗、量子科技、精密制造、生物显微、物联传感、材料加工、光通讯等前沿领域。

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