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膜厚测量仪

膜厚测量仪(厚度范围1nm~1.8mm)显微分光膜厚仪光谱椭偏仪 M-2000RC2® 光谱型椭偏仪多波长椭偏仪/膜厚测量仪半导体/薄膜无损检测仪 显示全部
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显微分光膜厚仪

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支持 230–1600 nm 多波段选型,膜厚范围覆盖 1 nm–92 μm,约 3 μm 光斑

所属类别:光学检测设备 » 膜厚测量仪

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产品负责人:

姓名:李工(Maple)

电话:130 2028 5269(微信同号)

邮箱:qiang-li@auniontech.com

显微分光膜厚仪


面向半导体、FPD、光学薄膜与透明基板膜厚检测的高精度显微分光膜厚分析系统


显微分光膜厚仪产品简介


昊量光电新推出的显微分光膜厚仪是一款面向薄膜厚度折射率 n消光系数 k 与绝对反射率测量的高精度分光膜厚仪。产品采用非接触、非破坏式测量方式,可在显微观察、对焦与测量过程中实现快速检测,适用于各种可透光膜层的膜厚分析。官网介绍中指出,该系列可替代椭偏仪,用于测试膜厚、折射率 n、消光系数 k 与绝对反射率,并具备高精度、高性价比特点。


显微分光膜厚仪采用显微分光光学系统,覆盖紫外到红外波,可进行多层薄膜解析、透明基板膜厚测量与光学常数分析。对于膜或玻璃等透明基板样品,普通测量容易受到基板内部反射影响,而显微分光膜厚仪可通过物镜方式物理去除内部反射,实现真实反射率与膜厚测量。


显微分光膜厚仪支持单点对焦与测量在 1 秒内完成,蕞小对应 spot 约 3 μm,并可通过独立测试头满足 inline 定制化集成需求,适合半导体、复合半导体、FPD、OLED光学材料、薄膜材料、DLC 涂层及工业制程检测等领域。


显微分光膜厚仪核心特


  • 非接触、非破坏式测量

    无需破坏样品表面,可用于薄膜、透明基板、光学膜、半导体膜层等样品的高精度膜厚检测。


  • 显微、对焦、测量快速完成

    单点对焦加测量可在 1 秒内完成,适合研发检测、制程管理和高效率质量控制。


  • 可测膜厚、n/k 与绝对反射率

    可分析膜厚、折射率 n、消光系数 k 与绝对反射率,满足薄膜光学性能与结构参数的综合评价需求。


  • 支持多层膜解析

    支持多层膜解析,官网规格中标明可进行 50 层膜解析,适合复杂膜系结构分析。


  • 紫外到近红外宽波段光学系统

    OPTM-A1、A2、A3 覆盖 230–800 nm、360–1100 nm、900–1600 nm 等不同波长范围,可根据薄膜材料和检测需求进行选型。


  • 适合透明基板膜厚测试

    通过物镜方式去除透明基板内部反射影响,可实现透明基板上薄膜的高精度测量,并可用于玻璃等透明材料表面膜层分析。


  • 约 3 μm 微小光斑

    系统光径大小为 10 μm,蕞小约 3 μm,适合微小区域、图案化膜层、微结构表面及局部缺陷区域的膜厚分析。


  • 支持 inline 定制集成

    独立测试头可对应客户系统内的各种 inline 定制化需求,适合生产线膜厚检测与自动化制程管理。


显微分光膜厚仪参数指标

项目参数
产品名称显微分光膜厚仪 OPTM series
测量方式非接触、非破坏式显微分光膜厚测量
主要测量项目膜厚、绝对反射率、折射率 n、消光系数 k
多层膜解析支持 50 层膜解析
对焦与测量时间单点对焦加测量 1 秒内完成
蕞小光斑约 3 μm
标准光径10 μm
光学系统显微分光光学系统,紫外到近红外
OPTM-A1 波长范围230–800 nm
OPTM-A2 波长范围360–1100 nm
OPTM-A3 波长范围900–1600 nm
OPTM-A1 膜厚范围1 nm–35 μm
OPTM-A2 膜厚范围7 nm–49 μm
OPTM-A3 膜厚范围16 nm–92 μm
感光元件ccd / InGaAs
光源规格氘灯、卤素灯
产品形态自动 XY 平台型、固定框架型、嵌入头型
自动 XY 平台型尺寸556(W) × 566(D) × 618(H) mm
自动 XY 平台型重量66 kg
适用样品半导体薄膜、透明基板薄膜、光学膜、DLC 涂层、PET 膜、AR 膜、HC 膜等
典型行业半导体、复合半导体、FPD、OLED、光学材料、资料储存、薄膜材料、DLC 涂层


显微分光膜厚仪的应用场景

显微分光膜厚仪 可用于半导体薄膜测量、复合半导体膜厚检测、SiO₂ 膜厚测定、SiN 膜厚测定、SiC 样品薄膜分析、光刻胶膜厚检测、介电常数材料膜厚分析、LCD 显示面板检测、TFT 膜层测量、OLED 有机 EL 膜层检测、彩色光阻膜厚管理、ITO 构造分析、DVD 薄膜检测、磁头薄膜分析、磁性材料薄膜检测、滤光片膜厚测量、抗反射膜检测、AR 膜测量、HC 膜测量、PET 膜检测、建筑材料膜层分析、胶水涂层分析、DLC 类金刚石涂层厚度测量等场景。


问答小贴士

1. 显微分光膜厚仪主要用来做什么?


主要用于薄膜厚度、绝对反射率、折射率 n 和消光系数 k 的测量分析,可用于半导体、FPD、光学薄膜、透明基板和工业涂层等样品检测。


2. 它和普通膜厚仪有什么区别?


显微分光膜厚仪采用显微分光方式,支持非接触、非破坏测量,并可在显微观察下完成对焦和膜厚检测。它还可针对透明基板去除背面反射影响,实现更真实的反射率和膜厚测量。


3. 是否可以测透明基板上的薄膜?


可以。对于膜或玻璃等透明基板样品,显微分光膜厚仪可通过物镜物理去除内部反射影响,即使透明基板也可以实现高精度测量。


4. 是否可以分析多层膜?


可以。产品量测项目中包含多层膜解析,并标明可解析 50 层膜,适合复杂光学膜系、半导体膜系和显示面板膜层结构分析。


5. 测量速度如何?


单点对焦加测量可在 1 秒内完成,适合研发检测、来料检测、制程监控与产线质量管理。


6. 蕞小可测区域多大?


产品规格显示光径大小为 10 μm,蕞小约 3 μm,因此适合微小区域和局部膜厚分析。


7. 有哪些设备形态可选?


提供自动 XY 平台型、固定框架型和嵌入头型,可根据实验室检测、制程检测或 inline 集成需求选择。




显微分光膜厚仪 采用非接触、非破坏式显微分光测量技术,可快速分析膜厚、绝对反射率、折射率 n 与消光系数 k。

从半导体、FPD、OLED 到光学薄膜、透明基板和 DLC 涂层,该系统可为研发检测、制程管理和自动化膜厚测量提供高精度解决方案。




更多详情,欢迎直接联系昊量光电!

关于昊量光电

上海昊量光电设备有限公司凭借强大的本地化销售网络与专业技术支持团队,长期服务于国内数以万计工业及科研客户,涵盖半导体、生物医疗、量子科技、精密制造、生物显微、物联传感、材料加工、光通讯等前沿领域。

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✅ 全天候售后技术支持——快速响应,确保设备稳定运行;

✅ 定制化解决方案——从售前咨询到安装,培训,系统集成等,满足多样化需求;

✅ 客户高度认可——服务案例覆盖众多头部企业及高端科研机构,客户满意度持续居前列。

您可以通过我们昊量光电的官方网站www.auniontech.com了解更多的产品信息,或直接来电咨询4006-888-532。


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