显微分光膜厚仪
面向半导体、FPD、光学薄膜与透明基板膜厚检测的高精度显微分光膜厚分析系统

显微分光膜厚仪产品简介
昊量光电新推出的显微分光膜厚仪是一款面向薄膜厚度、折射率 n、消光系数 k 与绝对反射率测量的高精度分光膜厚仪。产品采用非接触、非破坏式测量方式,可在显微观察、对焦与测量过程中实现快速检测,适用于各种可透光膜层的膜厚分析。官网介绍中指出,该系列可替代椭偏仪,用于测试膜厚、折射率 n、消光系数 k 与绝对反射率,并具备高精度、高性价比特点。
显微分光膜厚仪采用显微分光光学系统,覆盖紫外到近红外波段,可进行多层薄膜解析、透明基板膜厚测量与光学常数分析。对于膜或玻璃等透明基板样品,普通测量容易受到基板内部反射影响,而显微分光膜厚仪可通过物镜方式物理去除内部反射,实现真实反射率与膜厚测量。
显微分光膜厚仪支持单点对焦与测量在 1 秒内完成,蕞小对应 spot 约 3 μm,并可通过独立测试头满足 inline 定制化集成需求,适合半导体、复合半导体、FPD、OLED、光学材料、薄膜材料、DLC 涂层及工业制程检测等领域。
显微分光膜厚仪核心特点
非接触、非破坏式测量
无需破坏样品表面,可用于薄膜、透明基板、光学膜、半导体膜层等样品的高精度膜厚检测。
显微、对焦、测量快速完成
单点对焦加测量可在 1 秒内完成,适合研发检测、制程管理和高效率质量控制。
可测膜厚、n/k 与绝对反射率
可分析膜厚、折射率 n、消光系数 k 与绝对反射率,满足薄膜光学性能与结构参数的综合评价需求。
支持多层膜解析
支持多层膜解析,官网规格中标明可进行 50 层膜解析,适合复杂膜系结构分析。
紫外到近红外宽波段光学系统
OPTM-A1、A2、A3 覆盖 230–800 nm、360–1100 nm、900–1600 nm 等不同波长范围,可根据薄膜材料和检测需求进行选型。
适合透明基板膜厚测试
通过物镜方式去除透明基板内部反射影响,可实现透明基板上薄膜的高精度测量,并可用于玻璃等透明材料表面膜层分析。
约 3 μm 微小光斑
系统光径大小为 10 μm,蕞小约 3 μm,适合微小区域、图案化膜层、微结构表面及局部缺陷区域的膜厚分析。
支持 inline 定制集成
独立测试头可对应客户系统内的各种 inline 定制化需求,适合生产线膜厚检测与自动化制程管理。

显微分光膜厚仪参数指标
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 产品名称 | 显微分光膜厚仪 OPTM series |
| 测量方式 | 非接触、非破坏式显微分光膜厚测量 |
| 主要测量项目 | 膜厚、绝对反射率、折射率 n、消光系数 k |
| 多层膜解析 | 支持 50 层膜解析 |
| 对焦与测量时间 | 单点对焦加测量 1 秒内完成 |
| 蕞小光斑 | 约 3 μm |
| 标准光径 | 10 μm |
| 光学系统 | 显微分光光学系统,紫外到近红外 |
| OPTM-A1 波长范围 | 230–800 nm |
| OPTM-A2 波长范围 | 360–1100 nm |
| OPTM-A3 波长范围 | 900–1600 nm |
| OPTM-A1 膜厚范围 | 1 nm–35 μm |
| OPTM-A2 膜厚范围 | 7 nm–49 μm |
| OPTM-A3 膜厚范围 | 16 nm–92 μm |
| 感光元件 | ccd / InGaAs |
| 光源规格 | 氘灯、卤素灯 |
| 产品形态 | 自动 XY 平台型、固定框架型、嵌入头型 |
| 自动 XY 平台型尺寸 | 556(W) × 566(D) × 618(H) mm |
| 自动 XY 平台型重量 | 66 kg |
| 适用样品 | 半导体薄膜、透明基板薄膜、光学膜、DLC 涂层、PET 膜、AR 膜、HC 膜等 |
| 典型行业 | 半导体、复合半导体、FPD、OLED、光学材料、资料储存、薄膜材料、DLC 涂层 |
显微分光膜厚仪 可用于半导体薄膜测量、复合半导体膜厚检测、SiO₂ 膜厚测定、SiN 膜厚测定、SiC 样品薄膜分析、光刻胶膜厚检测、介电常数材料膜厚分析、LCD 显示面板检测、TFT 膜层测量、OLED 有机 EL 膜层检测、彩色光阻膜厚管理、ITO 构造分析、DVD 薄膜检测、磁头薄膜分析、磁性材料薄膜检测、滤光片膜厚测量、抗反射膜检测、AR 膜测量、HC 膜测量、PET 膜检测、建筑材料膜层分析、胶水涂层分析、DLC 类金刚石涂层厚度测量等场景。
1. 显微分光膜厚仪主要用来做什么?
主要用于薄膜厚度、绝对反射率、折射率 n 和消光系数 k 的测量分析,可用于半导体、FPD、光学薄膜、透明基板和工业涂层等样品检测。
2. 它和普通膜厚仪有什么区别?
显微分光膜厚仪采用显微分光方式,支持非接触、非破坏测量,并可在显微观察下完成对焦和膜厚检测。它还可针对透明基板去除背面反射影响,实现更真实的反射率和膜厚测量。
3. 是否可以测透明基板上的薄膜?
可以。对于膜或玻璃等透明基板样品,显微分光膜厚仪可通过物镜物理去除内部反射影响,即使透明基板也可以实现高精度测量。
4. 是否可以分析多层膜?
可以。产品量测项目中包含多层膜解析,并标明可解析 50 层膜,适合复杂光学膜系、半导体膜系和显示面板膜层结构分析。
5. 测量速度如何?
单点对焦加测量可在 1 秒内完成,适合研发检测、来料检测、制程监控与产线质量管理。
6. 蕞小可测区域多大?
产品规格显示光径大小为 10 μm,蕞小约 3 μm,因此适合微小区域和局部膜厚分析。
7. 有哪些设备形态可选?
提供自动 XY 平台型、固定框架型和嵌入头型,可根据实验室检测、制程检测或 inline 集成需求选择。

显微分光膜厚仪 采用非接触、非破坏式显微分光测量技术,可快速分析膜厚、绝对反射率、折射率 n 与消光系数 k。
从半导体、FPD、OLED 到光学薄膜、透明基板和 DLC 涂层,该系统可为研发检测、制程管理和自动化膜厚测量提供高精度解决方案。
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关于昊量光电:
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