薄膜特性通过计算厚度实验值及n与k模型参数的反射光谱来确定，不断调整这些数据，直到计算反射率和测量反射率相匹配。
膜厚测量原理（三）-通过光谱反射确定薄膜特性
薄膜反射率的振幅和周期取决于薄膜厚度，光学常数，和界面粗糙度等其它特性。在多于一个界面的情况下，薄膜的光学特性不可能以解析解的形式来算出来，也不可能在每个波长下描述n和k值。实际应用中，一定波长范围内的n和k由数学模型根据几个可调节参数模拟得出。薄膜特性通过计算厚度实验值及n与k模型参数的反射光谱来确定，不断调整这些数据，直到计算反射率和测量反射率相匹配。
n和K的建模
有许多数学模型描述波长的函数n和k。为某种薄膜选择模型时，在准确描述相关波长范围n和k的情况下，变量越少越好。一般来讲，不同材料（如：电介质，半导体，金属和非金属）的光学常数随波长有很大的不同，需要不同的模型来描述。电介质 (K=0）模型通常有三个变量，而非电介质有五个或更多的变量。下面的例子，是两层薄膜结构的模型，共考虑了18个可变量。
柯西：
拟合参数：A,B,C（共3个）
无定形半导体：
拟合参数：
（共5，9或13个）
晶状半导体：
拟合参数：
（共4，7或10个）
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