八）- Pb薄膜沉积实验3.2.6.3Pb薄膜沉积实验通过前面实验与分析知溶液及溶液浓度对椭偏仪基底测试影响可忽略，故用该电解池进行了Pb的沉积实验。采用三电极体系（工作电极：Au/Si；对电极：Pt丝；参比电极：Ag/AgCl）。溶液为1M的醋酸钠及1M的醋酸钠与5mM或10mM的醋酸铅。为探究沉积条件，需对工作电极进行CV扫描，扫描速率为5mV/s，扫描电势窗口为-1.2V—0.5V，从开路电压（OCP）开始负向扫描。通过恒压电沉积得到Pb薄膜同时进行400nm到800nm波段的椭偏监测。实验中电极的放置如图3-10所示，Au/Si电极为工作电极置于观察窗口；Pt丝对电极置于工作电极上方（ ...

说一般的磁性薄膜材料还有毫米厘米尺度的硅衬底。这就导致了法拉第效应在磁畴成像方面上并没有实际应用能力可言。因此，利用偏振光在磁 性样品表面反射后偏振面的偏转来对磁畴图象进行表征，是磁光效应成像的唯yi选择。同时，由于极向克尔效应的成像效果zui好，垂直磁各向异性较强的样品具有 更广阔的应用潜力。基于克尔效应，可以动态观察磁性样品磁畴变化的仪器叫作克尔显微镜 (Kerr microscope) ，有别于SMOKE 装置通常使用激光作为光源，出于便于成像的考虑，克尔显微镜一般使用高亮度的LED光源，同时配备不同放大倍数的光学显微镜镜头，在使用白光光源的情况下适用于1-100μm尺度范围的磁畴的成像 ...

. 氧化亚铜薄膜的制备及其光电性能研究[D]. 西南交通大学, 2016. [25] 董金矿. 氧化亚铜薄膜的制备及其光催化性能的研究[D]. 安徽建筑大学, 2014. [26] 张桢. 氧化亚铜薄膜的电化学制备及其光催化和光电性能的研究[D]. 上海交通大学材料科 学与工程学院, 2013. [27] DISSERTATION M. Cellulose Derivative and Lanthanide Complex Thin Film Cellulose Derivative and Lanthanide Complex Thin Film[J]. 2017. [28] NIE J, ...

. 氧化亚铜薄膜的制备及其光电性能研究[D]. 西南交通大学, 2016. [25] 董金矿. 氧化亚铜薄膜的制备及其光催化性能的研究[D]. 安徽建筑大学, 2014. [26] 张桢. 氧化亚铜薄膜的电化学制备及其光催化和光电性能的研究[D]. 上海交通大学材料科 学与工程学院, 2013. [27] DISSERTATION M. Cellulose Derivative and Lanthanide Complex Thin Film Cellulose Derivative and Lanthanide Complex Thin Film[J]. 2017. [28] NIE J, ...

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下看到沉积的薄膜颗粒大小不等（~10-103nm），形态上为不规则的块状。实验组前期用三电极体系(Au/Si工作电极，Pt网对电极，Ag/AgCl参比电极)恒压法(-0.05V)常温下(T=20℃)沉积30分钟得到的结果如图4-2(b)所示。与恒压沉积相比，沉积薄膜粒径不均匀性更强。图4-2CU20薄膜的SEM图：(a)沉积1080s(b)实验组前期恒压常温沉积2不同沉积时间椭偏数据的分析对沉积时间为180s、360s、540s、720s、900s、1080s的CU20薄膜分别进行了椭偏仪全谱（300-800nm）测试，获得椭偏参数以及样品整体的反射率和光学常数。2.1沉积前装置的椭偏数据1、 ...

沉积CU20薄膜对沉积条件如沉积电压、沉积温度和溶液pH值等十分敏感，且不同条件下沉积得到的CU20薄膜的催化性质有差异。对CU20薄膜沉积进行在位监控即可以承接前期研究，又可以作为在位沉积案例实现本研究系统搭建，所以此次研究以CU20薄膜沉积为表征对象。本文主要是应用所设计的电解池进行薄膜的沉积并实现椭偏仪的在位监测和对所得到的数据进行拟合分析，构建出简单可行的椭偏仪在位表征体系。首先，进行了不同电流的恒压沉积且对成分进行了分析，确定了后续实验的沉积电流。其次是进行了准在位测试，即在沉积180s、360s、540s、720s、900s、1080s后分别进行了椭偏仪全谱(300nm-800nm ...

表面的缺陷、薄膜厚度、平整度等参数。晶圆表面形貌测量：紫外波前分析仪可以通过配合望远系统，通过测量打到晶圆表面光的反射确定晶圆表面的形貌特征。薄膜厚度测量：波前分析仪可以对薄膜进行双透射测量，根据相位变化，从而确定薄膜的厚度或者得到薄膜的均匀性特征。这对于控制半导体制造过程中的薄膜沉积和蚀刻工艺非常重要。半导体制造过程监测：在半导体制造过程中，波前分析仪可以实时监测晶圆的表面形貌和光学特性，以确保制造过程的一致性和质量。它可以帮助工程师及时发现问题并进行调整，从而提高生产效率和产品质量。2）芯片检测：可以检测芯片表面的形貌、结构、电路布局等参数。波前传感器可以用于检测芯片封装后的光学性能，如光 ...

值。迅速成为薄膜太阳能电池的优质材料。Photon etc.公司的基于体积布拉格光栅的高光谱成像平台（IMA）可以对GaAs进行表征，IPVF（以前称为IRDEP-光伏能源研究与开发研究所）的科学家利用IMA系统对GaAs太阳能电池进行表征。成功地在标准GaAs太阳能电池中获取了光谱和空间分辨光致发光（PL）图像。他们利用532nm激光器通过显微镜物镜实现了整个视场的均匀照明，从而使得能够同时收集来自多个点的PL信号。这种整体照明方法有效地减轻了与侧向载流子扩散相关的挑战，并且避免了样品粗糙度引起的伪像问题，这些问题在逐点成像方法中经常遇到。此外，根据物镜的放大倍数，记录的图像可以跨越几平方毫 ...

池体进行沉积薄膜的结果。电解液为0.02MCu(CH3COO)2，0.1MCH3COONa，Au/Si为工作电极，ITO为对电极，-0.4mA恒压沉积。对比沉积前后腔体图可知，用该池体可以进行沉积。与前圆环电极对比可以看到，ITO上不再有气泡存在，因为产生的气泡都被流动的溶液带走了。因溶液可以流动，故可克服圆环电极溶液少的缺点。所以后续沉积薄膜实验的椭偏仪监测选用该流动池体进行。图3-20流动型微腔(a)沉积前(b)沉积后实物图3.4小结本文主要介绍了研究中实验装置的设计及测试的过程，主要包含半圆弧型器件微元腔体器件。首先设计完成半圆弧器件，实现了把沉积过程和椭偏仪测试相结合，观察窗口选用石英 ...

电解池进行了薄膜沉积，电解液为0.02MCu(CH3COO)2，0.1MCH3COONa。由于是两电极体系Au/Si为工作电极，ITO或Pb丝为对电极，所以选择恒压沉积。由实验组之前做的研究，选择-0.4mA的电流进行沉积20分钟。沉积结果如图3-17所示，(a)为以TIO作为对电极沉积结果，(b)为用Pt丝作(腔体的上端由ITO换为石英玻璃)为对电极沉积的结果。可以看到以ITO作为对电极时，ITO上会产生大量的气泡，而且实验观察可知气泡会随着沉积时间的增加而变多变大。这样以ITO为对电极在该情况下进行椭偏测试不可行，因为气泡的存在会极大影响光的传输，使得测试得到的数据基底的信息很难提取。鉴于 ...

度醋酸铅测试薄膜沉积的在位监测涉及到溶液和电极表面及固液两相界面，而在电化学沉积时固液界面附近会存在溶液浓度差，即存在扩散层。由绪论部分溶液对光学常数影响的推导知，不同浓度的溶液对光的吸收等光学常数都不同，所以在具体监测之前要进行该池体下扩散层的存在对测试结果影响的分析。由于扩散层溶液浓度变化范围是0到本体溶液浓度，为了实现对扩散层存在影响的定性分析，可以把扩散层简化为几个不同浓度的溶液，这样测试就变得简单可行。实验还是用醋酸钠和醋酸铅溶液，测试入射角为70°，波长范围300nm到800nm。首先准备好去离子水以及配制好不同浓度的溶液，1M醋酸钠以及1M醋酸钠加5mM、10mM、15mM、20 ...

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覆盖层，铁磁薄膜中的畴仍然清晰可见。另一层铁磁性的NiFe/Co双分子层在较低的深度被光传输，对克尔信号的贡献更强。然而，在施加磁场时，它的强度几乎降低了两个数量级，因此在显示图像的过程中是饱和的。图1.克尔显微镜上的旋转阀曲径的GMR传感器应用。如图所示，层堆栈由“自由”铁磁双层组成，该双层由来自另一“钉住”铁磁层的非磁性夹层隔开。钉住是通过交换耦合到反铁磁层来实现的。如图所示为两幅固定层反转时的域图像。在指定的场值，自由层是饱和的，不有助于区域对比。通过透明玻璃衬底和总厚度为13 nm的金属层来观察这些畴。在图2的例子中，三层薄膜在两个正交的纵向克尔感光度下成像。这两种铁磁薄膜由非磁性间隔 ...

Pt13合金薄膜的M-TXM磁畴图像和磁畴边界上的强度分布图显示横向分辨率优于15 nm。图3是M-TXM高分辨率磁成像的一个典型例子，其中在CoL3边缘记录了50 nm薄纳米颗粒(Co84Cr16)87Pt13层的磁畴结构，具有明显的垂直磁各向异性。对覆盖10 - 90%值的强度分布图进行常见的刀口分析，显示出15 nm的空间分辨率。该样品的晶粒尺寸分布是通过TEM分析确定的，峰值在20 nm左右，这可以得出结论，从M-TXM图像可以在晶粒尺寸水平上研究磁畴结构，即在该系统的磁性基本长度尺度上。图4.M- txm可以对薄膜中占主导地位的面内磁化M进行成像，方法是将样品表面倾斜成相对于光子传播 ...

块特四氟乙烯薄膜上。使用距离目标平面600毫米以上的相机/镜头组合记录透射辐射。TX大致被放置在一个硅（Si）透镜（f=25mm，d=25mm）的焦点上，它对准了太赫兹发射器的发散辐射。透镜和主成分分析之间的精确距离决定了照明区域的大小。大多数样品被安装在靠近准直透镜的1mm厚的聚四氟乙烯片上，用于热图像抑制。如果这是不可能的，在样品和相机之间放置一个3毫米的特氟隆片。此外，将黑色聚乙烯（PE）箔固定在TX上，以削弱泄漏的1550nmNIR泵浦脉冲。由于相机镜头的设计（f=44mm），zui小成像距离为600mm。通过已有的成像技术，进行成像处理，并呈现给大家。三．实验结果3.1 THz-TD ...

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沉积Cu2O薄膜并进行椭偏测试的制备过程、表征方法和实验中所用的试剂及设备，对基底电极Au/Si清洗和制备过程进行了详细描写，接着介绍了形貌表征及电化学测试等手段，如：椭偏仪测试与建模拟合，X-ray进行对样品的物相分析，SEM可观察薄膜的微观形貌。这些测试可以分析出Cu2O薄膜的光学形貌等特点。而在椭偏仪在位监测中，装置的设计是重点，要考虑池体的大小、溶液的容量、光路经过的介质、电极的放置等问题，本章主要介绍实验装置的设计、改进以及对应的一些测试实验。3.1开放容器在开始设计装置之前，用玻璃培养皿进行了实验，实验的目的是看不同溶液厚度对椭偏仪所测数据的影响。以醋酸钠、醋酸铅(1MNaCH3C ...

观察Cu2O薄膜，得到其表面形貌与颗粒尺寸等信息，从而对Cu2O薄膜有更加直观了解。2.5.2成分分析得到的样品薄膜通过X射线衍射谱仪扫描确定其成分。X射线是一种波长约为20到0.06Å的电磁波，利用原子内层的电子被高速运动的电子轰击产生跃迁光辐射，从而产生气体的电离、荧光物质的发光以及照相乳胶感光等。用电子束来轰击金属―靶‖材时将产生X射线，通过衍射图谱的分析，可以获得其成分、内部原子或者分子的结构和形态等信息。当X射线扫描晶体物质时，X射线因晶格间距等效光栅的存在而发生光的散射和干涉。干涉效应使得X射线的散射强度增强或减弱，其中强度zui大的光被认为是X射线衍射线。图2-5是晶面间距是d的 ...

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