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(六)-台式薄膜测量系统的优势MPROBE20数秒内的薄膜测量台式MPROBE20可以快速、简便地测量厚度,光学常数(n和k)和透射率。这台功能 齐全的仪器能测量1纳米到1毫米厚的透光或半透光的薄膜。精度一般在几个埃。光斑大小可调节并且范围很宽。超高的性价比Semiconsoft很高兴能提供突破性的低价格,使原本又困难又昂资的薄膜测量变得很便宜很简单。附件 多种不同的平台,晶圆平台和特殊测量探头可适合大部分样品的尺寸。在线测量针对制程应用,Semiconsoft的测量系统仅需要在光路上直视待测样品,并提供与多种控割系统的接口。把显微镜变成薄膜厚度测量工具用于图形化表面和光斑小至10微米的薄膜厚 ...
(五)-台式薄膜测量系统的应用使用Semiconsoft公司的先进光谱系统,可以很快、很容易地测量厚度、折射率及消光系数。只要将Semiconsoft 系统插入您电脑的USB接口,就能开始测量。整个系统只需要几分钟来设定,只需要基本的电脑知识就能测量。这种简单的硬件系统和直观的软件为所有新用户提供了薄膜知识。从近红外到紫外 系统能在波长200纳米到1700纳米 范围内测量厚度从1纳米到1.8毫米的薄膜。Semiconsoft 系统可测量几乎所有常用材料做成的透光薄膜。容易操作的软件用户能很快地掌握Semiconsoft软件熟悉而又友好的界面。测量一次大约一秒。测量数据,及测量细节能够非常容易地 ...
于实时、快速薄膜测量有很好的应用价值与市场潜力,但外差干涉测量中存在的非线性误差是阻碍该技术实际应用的主要原因。外差干涉测量系统中的非线性误差一直是国内外研究热点,研究人员对激光源、偏振分光镜、波片、反射镜等误差源开展了很多研究工作,并取得了许多有意义的研究成果,提出了多种非线性误差测量与补偿的方法。在激光干涉测量非线性误差研究中,偏振分光镜(Polarizing Beam Splitter,PBS)一直是研究的重点,而对于非偏振分光镜(Nonpolarizing Beam Splitter,NPBS)引入的非线性误差,国内外一直缺乏相应的研究。Hou等人在迈克尔逊式外差干涉位移测量实验中,观 ...
导体业常用的薄膜测量工具。由于半导体制造业在器件关键尺寸上的测量要求越来越精确, 薄膜常用材料日益多样化, 薄膜的结构越来越复杂, 需要进一步改进椭偏仪。主要的发展趋势可以分为如下几个方面。1)光谱椭偏成像技术发展至今可以实现200-1000 nm波段的测量,在对纳米结构的测量与表征中,可能需要获得更短波段的偏振信息,从而达到更高的横向分辨率,以分析样品的特性。实现椭偏成像技术对更宽波段的测量是重要研究方向。比如寻找较高强度的红外光源, 拓宽椭偏仪的光谱范围, 以准确确定异质结构的多层膜结构;2)在医学方面的应用中,椭偏成像技术可以和很多生物技术相结合,实现各个层面的应用。例如与人工智能技术相 ...
m)广泛用于薄膜测量和等离子体蚀刻端点控制。该技术可即时准确地提供定量结果。它通常应用于主流制造设置。半导体工厂的停机时间每小时可能花费100万美元或更多,这使得设备可靠性至关重要。光纤耦合LED的使用寿命可达50,000小时。通过用LED光源取代汞弧灯,制造商可以减少计划外停机时间并保持产量。NewDEL光纤耦合LED光源在光谱学领域的优势:可提供两种白光模式,以及连续光源操作模式的选择-手动到完全可编程的遥控器高度可配置,包括脉冲或触发操作推荐型号:X3312、W4270、W57902.光遗传学Optogenetics光遗传学涉及到利用光来控制细胞和结构,这些细胞和结构已经被基因改造,以加 ...
椭偏仪(九)-椭偏光谱技术的应用椭偏光仪用途是比较广的,可用来测量各种透明或半透明膜层的厚度及折射率和 吸收系数,检验膜层的均匀性,帮助鉴别膜层组分,测量物质的折射率和消光系数,研究各种表面层和表面过程,诸如氧化、腐蚀、吸附、润滑、催化等。因此,椭偏光仪在许多工业部门和基本研究中都可应用。(1)固体薄膜光学性质的测量应用椭偏术可对单层吸收膜、双层膜及多层膜进行测量,得到材料的光学常数折射率N和吸收系数K,进而得到其介电常数。近年来也实现了对离子注入损伤分布的测量、超晶格、粗糙表面、界面的测量。(2)物理吸附和化学吸附用椭偏术方法在现场且无损地研究过与气态、液态周围媒质相接触地表面上吸附分子或原 ...
椭偏仪(八)-椭偏仪测量薄膜的优点和特点测量薄膜其实并非仅仅只有使用椭偏仪来测量,但为何我们光学人更加偏爱使用椭偏仪来测量薄膜厚度呢?在这里那就不得不说说我们使用椭偏仪测量薄膜的优点和特点了:(1)测量的对象广泛,可以测量透明膜,无膜固体样品,多层膜,吸收膜和众多性能不同、厚度不同、吸收程度不同的薄膜,甚至是强吸收的薄膜。(2)被测量的薄膜大小尺寸可以很小,只要 1mm即可测量,小于光斑的大小(3)方式灵活,既可以测量反射膜,也可以测量透射膜。(4)测量的速度很快。(5)在各种粒子束分析测试技术中,光束引起的表面损伤以及导致的表面结构改变是zui小的。(6)在椭偏光谱中,被测对象的结构信息(电 ...
椭偏仪(七)-椭偏仪数据处理模型-第三部分继续我们上次讲的建模来介绍其他的模型:6.Graded模型Graded模型和之前讲过的EMA模型相似,适用于两种材料的混合材料,但是层内不同深度的混合比却是确定的;7.Drude模型这个模型主要用于金属自由电子气、硅化物和半导体等材料中的载流子吸收等情况:其中εp是等离子共振频率,γ为碰撞频率;8.洛仑兹振子模型洛仑兹认为:物质分子是由一定数量的重原子核和外围电子构成的复杂带电系统,固体的介电函数可以用一定数量的Lroentz振子的和近似表示,称为简谐振子近似。其形式如下上式中A为振幅,与载流子密度、电荷、质量有关,E0为振子的共振能量,G为振子的展宽 ...
椭偏仪(六)-椭偏仪数据处理模型-第二部分继续介绍我们上次的建模:4.Selmeier模型非常适用于透明材料和吸收材料,如 Al2O3、SiO2、MgF2、SiN4、TiO2、ITO、KCl等,处于红外波段的Ge、Si,GaAs;材料在透明波段的光学常数具有较高的精确度。对于电子跃迁,当光波能量远高于带隙时,同时考虑电子和晶格的贡献:这就是Selmeier色散公 式,实际应用中用波长代替能量作为参量:5.EMA(有效介质)模型有效介质模型应用于两种或两种以上的不同组份合成的混合介质体系,多达 5种不同材料组成的混合材料、多晶膜、金属膜、表面粗糙的膜、多孔膜、不同材料或合金的分界面、不完全起反应 ...
椭偏仪(五)-椭偏仪数据处理模型-第1部分采用光学方法可以对许多固体材料的宏观和微观物理性质进行深入研究,其中zui直接的方法就是测量材料的光学常数随光子能量或波长的变化关系,从而与微观机理相联系,来认识和理解光与物质相互作用的本质.椭偏光谱不直接测算光强,而是从相位空间寻找材料的光学信息.椭圆偏振测量法由于其测量精度高、非破坏性而被广泛应用于薄膜的各种特性的测量。偏振光波通过介质时与介质发生相互作用,这种相互作用将改变光波的偏振态,测出这种偏振态的变化,进而进行分析拟合,得出我们想要的信息。用薄膜的椭圆函数ρ表示薄膜反射线形成椭圆偏振光的特性,即式中:tanψ表示反射光的两个偏振分量的振幅系 ...
椭偏仪(四)-系统成像原理椭偏成像技术根据成像原理可以划分为两类:机械扫描椭偏成像和光学椭偏成像。机械扫描椭偏成像采用单光束测量,利用样品台的机械扫描获 取整个样品信息。受到机械扫描速度的限制,机械扫描椭偏成像测量速率较低。光学椭偏成像采用光学成像技术,对待测区域进行二维成像,可以实现高横向分辨率、高速率测量。成像椭偏仪的成像系统大多采用显微物镜和成像透镜组成的成像放大系统。放大成像的原理如下图所示 ,将样品放置在物镜的工作距离处,按照几何光学成像原理在成像透镜的后焦面成放大的实像。成像椭偏仪放大倍率原理图其中物镜内部有很多透镜组合而成,f '为物镜 的等效后焦点,f为成像透镜的焦点。 ...
椭偏仪(三)-椭偏测量原理假设有一束单色光,振幅为 Ei与直角坐标系x轴的夹角为α,将其分解为沿直角坐标系x轴的p光和沿直角坐标系y轴的s光。则入射光p光和s光的振幅分别为Eip和 Eis,入射光经过薄膜的反射后p光和s光的振幅分别变为Eiprp和Eisrs,相应的相位变为δrp和δrs,故p光和s光的反射光电矢量分别为消去时间因子t,便可得到反射波电矢量末端的运动轨迹:式中:Δ=δrp-δrs。上式实际上就是椭圆方程。也就是说线偏振光入射,与待测样品发生相互作用后,由于p光和s光的反射率不同,反射光不再是线偏振光,而变成了椭圆偏振光,引入参量tanΨ和Δ,Δ表示p光分量和s光分量的相位差,t ...
椭偏仪(二)-光在各向同性且均匀的界面反射原理椭偏成像技术的测量基于传统椭偏测量术,即用偏振光波为探测光照射样品,样品对入射光波进行调制,使得反射光中载有样品的信息。椭偏测量系统包括三个基本部分:起偏部分、样品部分和检偏部分。起偏部分用于产生偏振态已知的椭圆偏振探测光;补偿器和起偏器相结合可以产生任意形态的椭圆偏振,探测光倾斜入射到样品表面,与样品相互作用使得反射光偏振态发生变化,从而载有样品信息;反射光经过检偏器后变成线偏振光,通过显微成像系统,椭偏成像在 CCD 相机等图像传感器上;摄像机采集的模拟信号通过视频显示器显示,并进一步经图像采集卡进行A/D转换,转变成数字图像文件进入到计算机。 ...
椭偏仪(一)-椭偏成像技术简介椭偏成像技术是一种在传统椭偏技术和光学成像系统基础上发展而来的,以charge coupled device (CCD)或 complementary metal-oxide-semiconductor transistor(CMOS)为探测器实现高横向分辨率的椭偏测量技术。随着各种技术的发展,传统椭偏测量技术已经无法满足测量要求。从根本的测量原理来看,传统椭偏测量技术测量时采用的是光斑照射区平均测试方法,分析的数据是全部光斑照射区域内样品待测参数的平均值,这不仅难以准确地检测分析小于光斑照射区域内待测对象的微小变化,对于待测参数分布不均匀的样品也会得到错误的结果 ...
和探针测量是薄膜测量的两种主要类型。探针测量是通过监测精密探针划过薄膜表面的偏移测量薄膜厚度和粗糙度。探针测量受限于速度和精确度,而且测量时要求薄膜和耐底之问有一个“台阶”。探针测量常常是不透明薄膜,如金属薄膜的首选测量方法。光学测量是通过测量薄膜与光相互作用来决定薄膜特性。光学方法可以测量薄膜的厚度、粗糙度及光学常数。光学常数用来描述光通过某种物质时的传播和反射。光学常数可以和材料的其他参数,如成分和带隙联系起来。由于光学测量方法准确,无破坏,只需很少或无需专门样品,光学测量法常常是薄膜测量的首选方法。最常见的两种光学测量法是光谱反射法和椭偏法。光谱反射法测量一定波长内光线查直人射到样品表面 ...
热物性参数,薄膜测量厚度可达纳米量级!在微纳结构新材料的研发与分析等方面得以越来越广泛的应用。 ...
MPROBE 50 INSITU – 实时薄膜厚度测量仪原位薄膜厚度测量仪-MPROBE 50 INSITU用于测量薄膜厚度和 n&k(光学常数)的实时光学测量仪。该系统可以在高环境光下工作,因为它使用门控数据采集。原位薄膜厚度测量仪-MPROBE 50 INSITU使用高强度闪光氙灯在宽带 ( UV-NIR) 波长范围内进行精确测量。MProbe 50 系统是完全可定制的,以支持不同的真空室几何形状。原位薄膜厚度测量仪-MPROBE 50 INSITU根据可用的光学端口,可以使用斜入射或垂直入射。光可以聚焦在样品表面或准直。反射探头可以放置在沉积室光学端口的外部或内部(使用光纤馈通) ...
的紫外线光源薄膜测量中厚膜计的光源利用宽光谱的人工太阳光系统(太阳能模拟器)中的光源光动力治疗(PDT)中的光源荧光显微镜光源光谱仪光源使用线性可变滤波器和宽带光源的可变波长光源 规格指标:各型号UV-VIS区辐射亮度参考曲线图更多详细参数请下载数据表 ...
20 单点薄膜测量仪MProbe 20是一款桌面式单点薄膜厚度测量系统,只需点击鼠标就可进行薄膜厚度和折射率测量,测量厚度范围1nm-1mm。MProbe 20可对多层膜层进行测量。不同的MProbe 20主要由灯源的波长范围、光谱仪的波长范围和分辨率来区分,这也决定了可以测量的材料的厚度范围和类型。MProbe 20基于光谱反射率测量,具有快速、可靠、无损等特点。配置包括:控制器(包括光谱仪、光源、光控制器、微处理器)SH200A样品台,带对焦镜头,可微调光导纤维反射探头TFCompanion -RA软件、USB适配器(授权密钥)、USB记忆棒附带软件发行、用户指南等资料根据型号和黑色吸收 ...
热物性参数,薄膜测量厚度可达纳米量级!在微纳结构新材料的研发与分析等方面得以越来越广泛的应用。 时域热反射测量系统 (TDTR 测试系统)通过利用飞秒激光照射样品表层金属薄膜,令薄膜吸收能量并将其转化为热能, 从而传导给样品,并随时间尺度逐渐向样品传递。金属薄膜表面温度随时间回落,从而影响到其反射率。届时再通过测量另一束探测激光的反射强度曲线,通过后续一系列的解调分析,即可得到金属薄膜温度随时间的变化,进而获得被测样品的导热特性和相关热物性参数等。时域热反射测量系统 (TDTR 测试系统)特点:超快动态测量过程,nm级厚度样品测量各项异性热导率测量纳米材料界面热阻材料(石墨烯合金等界面热阻测量 ...
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