SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
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经过光刻系统将光刻掩模图形成像到基底上抗蚀剂或光刻胶中的成像过程。 ...
DMD无掩模光刻系统本质上是一种高精度加工平台,如下图所示,主要包括投影光源部分、DMD光调制部分、投影物镜和光可调平台部分。图2:法国Microlight3D公司DMD无掩模光刻系统结构图3、DMD无掩模光刻相比传统光刻有什么优点?借助DMD无掩模光刻成像的效率是传统光刻无法比拟的,其光刻成像过程完全受计算机控制,因而便于更改数字虚拟掩膜,并且DMD的成本较低,可以循环使用,极大的简化了传统光刻的流程,也大大降低了光刻加工的成本。4、Smartprint UV无掩模光刻系统有什么优势?Smartprint UV无掩模光刻系统源自法国Smart Force Technologies (SFT) ...
半导体行业的光刻系统依赖于ji其复杂的激光源和光学系统。Phasics公司SID4 系列波前传感器涵盖从紫外线(UV,190nm)到长波红外(LWIR,14um)的范围,已被证明在半导体行业中非常有价值,可用于鉴定此类光学系统的设计波长。越来越多的研发或制造工程师将SID4 波前传感器用于激光源和光学系统的对准和计量。波前传感器可在单次测量中获得完整的激光特性。波前传感器是支持光刻系统制造商和集成商校准、鉴定和监控其紫外光源和系统的理想工具。在整个光刻过程中,都会对晶圆进行检查。晶圆的检测是晶圆制造过程中的关键部分。昊量光电推出的高分辨率紫外波前分析仪结合了高动态范围、纳米波前灵敏度和高分辨率 ...
应用是测量在光刻系统中使用的高质量光学元件的残留线性双折射。7,8用于光刻步进器的典型光学元件,如掩模坯料或透镜坯料,由熔融二氧化硅(非晶态)或氟化钙(立方晶体)制成。这些材料只在可见光谱区域显示残余双折射。当采用精密退火工艺生产时,高质量的光学元件的残余迟滞值仅为0.1纳米量级。Exicor双折射系统的发展主要是受高质量熔融硅和氟化钙材料的供应商推动,以光刻工业。Exicor双折射测量系统提供了0.005 nm (<1/ 100000波长在632.8 nm)的灵敏度用于线性延迟测量。该仪器本质上是一个不完全的旋光计,适用于特定的工业应用。用于光刻的氟化钙和熔融二氧化硅样品具有行业内最高的光学 ...
的基于掩模的光刻系统的速度相比较,具有无需检查、管理或维修光掩模的额外好处,并且能够在数小时而不是数天内将新设计转变为产品 。紫外线-C 测试DMD通过能够在较低波长下工作而增强了分辨较小特征和处理更高功率光的能力。请注意,以前用于UV-A产品的窗口在266nm处不具有良好的透射率。已经制造了带有适当防反射涂层的蓝宝石或石英的特殊窗口。UV-C波长(265nm)的测试在德克萨斯大学奥斯汀分校使用高功率飞秒脉冲激光器进行。 每个脉冲的范围为2.1-3.5 mJ/cm2,并以每秒10个脉冲的速度循环。通过在时间零点进行反射功率测量并与后续测量进行比较来评估器件的性能。测量设备的温度为37°C。对设 ...
)、使用商业光刻系统(Photonic Professional GT, Nanoscribe)。在IP-L 780 resist(Nanoscribe)中,通过浸入式配置的Plan-Apochromat 63x/1.40 Oil DIC Zeiss显微物镜在铟锡氧化物涂层的soda lime玻璃基板上制造聚合物超表面样品。激光功率和扫描速度的优化打印参数分别为47.5mW和7000um/s。(2)、激光曝光后,将样品浸入propylene glycol monomethyl ether acetate(Sigma-Aldrich) 20 分钟、isopropanol (Sigma-Aldri ...
的全新无掩模光刻系统,因此SP-UV可以兼容所有标准的微电子光刻胶,包括微流体应用中不可或缺的i-line光阻剂SU-8。这一特点为半导体加工领域的开发人员,在光刻胶材料的选择上提供了更加广阔的空间。DMD无掩膜光刻机SP-UV的优势之一是对DMD光学投影技术的应用。这一技术在提高直写精度和速度的同时,提供了四种不同的直写分辨率。搭配Microlight3D的“快速切换”物镜系统,仅需2秒就能完成分辨率切换。Microlight3D首席执行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技术可以与更广泛光刻胶材料相兼容。在为无掩模光刻的应用开拓了新的领域的同时,满足了开 ...
的技术。其中光刻系统被称为光刻机,带有图形的石英板称为掩膜,光敏记录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。具体光刻流程如下图所示 光刻技术是集成电路制造、印刷电路板制造以及微机电元件制造等微纳加工领域的核心技术之一。进入21世纪以来,随着电子信息产业的高速发展,集成电路的需求出现了井喷式的增长。使的对掩膜的需求急剧增加,目前制作掩膜的主要技术是电子束直写,但该制作效率非常低下,并且成本也不容小觑,在这种背景下人们把目光转移到了无掩膜光刻技术。 备受关注的无掩膜光刻技术大概可以分为两类:1)带电粒子无掩膜光刻;例如电子束直写和离子束光刻技术等。2)光学无掩膜技术;例如DMD无掩膜光刻技术、激光直 ...
多的方法:在光刻系统中使用越来越短的光波(如目前因特尔等芯片企业已开始使用极紫外光),扩大成像系统口径(如天文望远镜口径已达到10米以上),增加成像系统数值孔径(如显微成像系统使用浸油等方式获得更大的NA)等,但这些方法都未能摆脱理论极限的影响。“衍射极限”仿佛是一片笼罩在头顶的阴霾,成为了看似坚不可摧的障碍。为了能够打破这个枷锁和桎梏,实现超分辨成像,科学家们真是脑洞大开,展现出了无穷的智慧。让我们看看科学家们通过哪些方法打破桎梏:结构光照明显微(SIM)普通光学显微镜的成像过程可以通过点扩展函数进行描述,通过对点扩展函数进行傅里叶变换,可获得显微系统的光学传递函数。由于衍射极限的存在,光学 ...
列DMD无掩光刻系统的中国区独家代理商,此次获得Microlight3D的授权,体现了Microlight3D对上海昊量光电设备有限公司市场销售的专业度及售后技术支持力量的高度认可。我们将一如既往的为国内广大用户提供更为优质的服务。Microlight3D成立于2016年,在格勒诺布尔阿尔卑斯大学(Université Grenoble Alpes,UGA)进行了长达15年的3D微型打印技术研发。格勒诺布尔阿尔卑斯大学创建于1339年,是一所拥有近七百年历史的国立综合研究型大学,是欧洲最古老的大学之一,教学科研实力处于法国顶尖、世界一流水平。作为具有世界影响力的法国公立大学,格勒诺布尔-阿尔卑 ...
DMD无掩模光刻系统产品介绍及设备展示;3、现场demo演示;4、参会人员提问环节。产品介绍:microFAB-3D是一款基于双光子聚合激光直写技术的超高分辨率3D打印系统,最小特征尺寸<200nm,加工的物体高度最高可达20mm,打印速度可至5mm/s,表面粗糙度<20nm,双波长激光器(532nm和1064nm),拥有大行程XY 电动载物台, 拼接误差低至200nm,系统极具紧凑性(相比同类产品尺寸小至少3倍)。为微流体、微机器人、微机械、细胞培养、医用微型装置、组织工程学、微纳光学以及超材料等开辟了新的应用前景!报名方式:扫描下方二维码报名↓关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产 ...
在SP-UV光刻系统已经被广泛用于微流体、生物技术、微电子、以及微结构加工等领域。其他更多精彩产品,欢迎莅临 昊量展位:W5 5240 ...
SEM高速刻蚀子系统XENOS刻写子系统是一种允许设计图案数据并产生用于带电粒子束(例如用于半导体光刻应用或聚焦离子束系统的电子束)转向的相应偏转信号的系统。可以连接到传统的扫描电子显微镜、FIB或双光设备上,升级系统,在半导体或其他材料上进行纳米光刻。高速刻写可以实现高达40MHz的像素速率。由于采用了智能写入算法,可以考虑当前SEM的有限偏转带宽。优化的数据传输和稳定时间计算与高写入速度相匹配,以提供快速写入的所有优点。智能且通用的格式使用三阶多项式扫描逻辑,可以仅基于硬件以Max速度生成和写入这些多项式。因此,圆形、环形或椭球体可以由同心的单像素环书写,通常在曝光过程中不需要消隐。并且, ...
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术,兼容多种高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件,MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽,为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性,可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性:较高的直写精度和分辨率(<200nm)(已有客户使用此设备实现低 ...
或 投递简历至: hr@auniontech.com