SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
“快速切换”物镜系统,仅需2秒就能完成分辨率切换。Microlight3D首席执行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技术可以与更广泛光刻胶材料相兼容。在为无掩模光刻的应用开拓了新的领域的同时,满足了开发人员对多功能性和可负担性的需求。”“我们使芯片实验室和其他领域(光电子学、MEMS、自旋电子学)的研究人员可以更容易、更快速地在较大表面积上(120x120 mm²),加工微米分辨率的复杂结构。由于该系统集成度非常高,使各种用户都可以无障碍的使用,我们也因此希望SP-UV在微流体以及各个领域中的小批量生产上开辟新的市场机会。”无掩膜光刻机SP-UV的另一大优 ...
光通过无限远物镜聚焦到样品表面,由于激光经过物镜聚焦之后光斑直径可以达到仅有几个微米大小,而只有激光照射的位置才会激发相应的光谱信息,因此可以通过共聚焦技术以及探测器采集并分析所激发的光谱,从而确定激光所照射位置的物质组分。然后通过扫描振镜控制激光聚焦光斑在样品表面进行移动,采集样品被扫描区域各个位置的光谱信息,从而为该样品被扫描区域构建出一张完整的光谱信息图,此即为显微光谱成像。光电流成像(Photocurrent Mapping)是一种将显微扫描成像技术应用于光电流检测的技术,类似于显微光谱成像,可以检测样品微观区域中光电流强度的分布,为样品被扫描区域构建出完整的光电流强度信息图,主要用于 ...
发光是由显微物镜照射到样品上,而不是大家常见的在样品下方进行透射照明的方式,当然也存在一些使用透射荧光的观察方式,但是一般来说荧光的发射光是在样品360度方向都有发射光,而且发射光的强度只有激发光强度的千分之一到百万分之一的量级,如果跟激发光同方向检测的话,会很大程度上干扰检测,成像的信噪比很差,甚至噪声干扰信号会强于有效信号。图中就是落射荧光显微镜的示意图在荧光激发方面,我们可以使用汞灯,LED灯等这类常见的照明光源来进行荧光激发,但此类照明方式有着明显的缺点,在使用第一滤光片滤出单色光之后,其光强度非常的低,使得荧光信号强度也大幅降低,并且此类光源强度随着使用时间会有非常明显的功率下降,此 ...
过分光镜到达物镜,然后聚焦在样品之上,根据光路可逆,激发的荧光或者产生的拉曼信号经过原来的入射光路反向回到分光镜,并进入第二个针孔即探测针孔,在探测针孔位置聚焦之后到达探测器,探测器将收集到的信号进行收集并处理最后传送到计算机上显示。在这个光路之中,只有焦点上的光才能穿过探测针孔,焦点之外区域的光线在检测针孔平面位置是离焦的,因而不能穿过检测针孔,换句话说此时探测器上接收到的信号全部来自于焦点处。如果采用振镜控制激光光源的偏转,比如我司共聚焦拉曼成像系统中采用的振镜扫描系统,光路图如下(这里采用了无限远物镜,所以与上图光路不太一样)。振镜控制激光光束在样品焦平面上不同位置聚焦(x-y平面),焦 ...
2λ/NA,物镜不变的情况下,短波长激发光光斑质量高,空间分辨率高.05 532nm波长激发的样品由于532nm激发是可见光光中应用最为广泛的,特此列出此波长激发的样品.①一般多用于二维材料的测试,像目前研究比较火热的石墨烯,过渡金属二硫化物,黑磷之类的层状二维材料,判定层数,是否掺杂等等.②金属氧化物:其中有建筑类材料例如氧化铁氧化铜等无机颜料,还有发光类材料如氧化镓等.③半导体材料:常用于分析此类材料的缺陷,结晶度,如单晶硅,多晶硅,二氧化硅,硫化铅等.最后,我想说根据自己的样品查阅相关文献来确定激发波长是最为准确的方法. 您可以通过我们的官方网站了解更多的产品信息,或直接来电咨询4006 ...
.42),由物镜OB聚焦到焦平面上,在距离十字交叉口下方3mm处的检测通道中心形成一个直径约20μm的近圆形检测区域,以激发流经检测区域的细胞产生荧光和散射光。检测区域的荧光被同一物镜收集后形成平行光束透过全反射镜M2反射和多边缘分色分光器(透射率>93%)透过后,到达分光镜 DM1(透射率>95%),因此物镜收集到的荧光约90% x 93%≈86%进入荧光检测通道。被多边缘分色分光器透射的荧中,绿色荧光被二色分光镜DM1反射至荧光检测通道1(APD1),透过二色分光镜DM1的黄色荧光被DM2反射至荧光检测通道2(APD2),透过DM2红色荧光则被二色分光镜DM3反射至荧光检测通道 ...
纹。系统所用物镜为奥林巴斯NA1.49、100×浸油TIFR物镜。线性结构光模式时,采集三个方向角上三个相位的荧光图像(共9张)进行图像重构;非线性结构光模式则采集6个方向角上5个相位共30帧荧光图像。当然,为了保证结构光能发生高对比度的稳定干涉,必须调整结构光偏振态。如果需要实时调整,这里我们建议采用1/4波片和1/2波片配合LCC实现。北京大学在应用偏振光结构光超分辨显微技术(PSIM)研究蛋白在亚细胞结构中的定位和取向时应用Forthdd 公司SXGA—3DM空间光调制器成功提取荧光分子的偶极子方位信息与超分辨结构信息。同时,研究人员进行了大量的生物学实验来证明其广泛的适用性,如λ-DN ...
信息不仅包含物镜焦平面上的样品信息,同时包含焦平面外的样品信息。由于受到焦平面外的信息的干扰,常规荧光显微镜无法获得层析图像。三维结构光照明显微镜提高分辨率、获得层析图像的原理,就是利用特定结构的照明光来获得样品的高频信息,采用特定算法在横向和纵向上扩展样品频域信息的同时弥补凹陷带来的影响。饱和结构照明显微镜(SSIM)的原理法国OXXIUS多波长合束激光器应用在Nikon显微镜受激发射损耗显微(STED)在STED显微术中,有效荧光发光面积的减小是通过受激发射效应来实现的。一个典型的STED显微系统中需要两束照明光,其中一束为激发光,另外一束为损耗光。当激发光的照射使得其衍射斑范围内的荧光分 ...
z的速率扫描物镜来实现。这不足以监测在一毫秒的时间尺度上发生的神经活动。对于光遗传学研究,需要能够在3D空间中动态和任意形成多个焦点的显微镜以监视和操纵发射模式,并且显微镜必须能够进行3D成像以捕获神经元电路的响应。在扫描双光子/三光子显微镜的激发路径中添加液晶空间光调制器(SLM),可以将激发源分成几百个独立的焦点,并以高达300 Hz的频率重新配置焦点的3D位置。因此,使用SLM可以传递光线,同时可激发多个3D位点的神经元,然后将目标细胞定位在一个体积内以监测神经回路对刺激的反应。这使得在大量细胞群中监测和操纵神经元活动的过程可同步进行。 Yuste首次证明了SLM在光遗传学中的应用潜力, ...
波前畸变,使物镜得到接近衍射极限的目标像。四波剪切干涉技术原理:剪切干涉技术基本原理是将待检测的激光波前分成两束,其中的一束相对于另一束横向产生一些错位,两束错位的光波各自保持完整的待测波前信息,相互叠合后,产生干涉现象,CCD/CMOS相机会接收干涉图样,进行相应的计算分析,从而利用傅立叶变换的相关计算,分析出待测波前的相位分布,以及强度分布等。基于干涉条纹的疏密度敏感于波前的斜率,因此波前传感器在探测波前的偏离范围较传统的哈特曼传感器具有更大的优越性。波前传感器的典型应用光在传输的过程中会经过不同的介质,不同的介质由于其构成物质的分布不均匀,从而导致光的波前产生各种各样的变化,自适应系统便 ...
像优化系统、物镜扫描台、共聚焦显微荧光光谱仪、共聚焦荧光寿命成像系统、高光谱显微成像系统、高通量大数值孔径光纤、低自发荧光光纤等......量子光学量子光学应用相关产品:匀化光纤组件、多通道声光调制器、PPLN、声光偏转器、超导探测器、计数器、超稳腔、超稳激光器、Moku、Aurea探测器、单光子相机、铌酸锂电光调制器、NbTi超导同轴电缆、CuNi同轴电缆、超低温高密度微波链路系统、单光子源、低温光纤组件等......精密光谱精密光谱应用相关产品:光纤光谱仪、拉曼光谱仪、铌酸锂电光调制器、高精度光纤探头、光谱仪配套光纤跳线(0.2-18um,低自发荧光)、飞秒激光器、光学频率梳、微腔光频梳、 ...
件镜头选项:物镜1X2.5X5X10X写入区域(mm)10.56×5.944.2×2.42.1×1.21.06×0.59最小线宽(um)15631.5Smart PrintUV应用领域:Smart Print UV是为需要制作表面微图案、微结构的任何应用领域的完美设计,如MEMS,微流体,二维材料,自旋电子学,生物技术和微电子等。Microlight3D公司还有另外一款明星产品-双光子聚合3D纳米光刻机。2007年,第一代双光子聚合3D纳米光刻机microFAB-3D问世,在中国大陆、台湾和欧洲地区有大量的销售。2018年,公司获得了法国研究与创新部颁发的公共研究领域最具创新力年轻公司奖。20 ...
度梯度,无需物镜加热;加热速率高达100°C/s,加热温度最高可达200℃,同时保持很高的温度精度;可兼容各种成像技术(共聚焦显微,宽场成像,FLIM,iSCAT,AFM,超分辨显微等)。VAHEAT显微镜热台让您的实验室研究如虎添翼!本次研讨会邀请了德国Interherence GmbH原厂为我们带来基于VAHEAT显微镜热台的一些前沿科研案例和实验分享!○研讨会主题:VAHEAT超高精度瞬态温控仪在光学显微镜下的温度控制○研讨会时间:2022年11月16日(星期三) 北京时间 23:59:59*如您未赶上直播,可以凭“报名成功的截图”获取研讨会回放!○研讨会主讲嘉宾:Dr. Marlene ...
图1为在5X物镜下进行快速粗扫后得到的针对零声子线峰位强度成像,图2为40X物镜下粗扫获得的强度图像,可以看到十字标志处单独存在的一个潜在优质色心,图3为该点的PL光谱图,可以清晰看到637nm处的较窄的零声子线。利用扫描振镜直接将光斑移动至感兴趣的点位进行HBT测试,上图为测得的单个NV-所体现的光子反聚束现象。常见的处理金刚石样品的方法有很多,比如以浓硫酸和双氧水配备的食人鱼溶液浸泡和清洗,或者将金刚石样品放入空气中进行高温加热,经过处理后的金刚石样品表面氧化层被去除后,再通过飞秒激光辐射等方法进行N离子的注入,从而生成单个NV色心、多个NV色心发光点,以及高密度NV色心团簇。与显微共聚焦 ...
、分光棱镜、物镜等等,而这些光学元器件中的大部分都会引入正色散,导致飞秒脉冲激光到达测量点处的过程中发生展宽,即脉冲宽度变宽。在上面的计算中我们可以看出,脉冲宽度变宽会导致激光峰值功率的下降,会在很大程度上降低荧光光强,以至于最终的图像亮度和对比度会变差。ALCOR 920系列在激光头内部集成了色散预补偿模块,可以在激光发射时就带有负色散,这些负色散可以在激光脉冲传播过程中和光学器件引入的正色散相互抵消,从而使得在测量点处,脉冲宽度能保持比较窄。标准款ALCOR带有0~-60000fs2的大色散补偿范围,同时提供0~-90000fs2的超大色散补偿范围选配,可以满足大部分双光子显微成像系统对色 ...
-y载物台,物镜10×/20×/40×/50×/100×(选配),进口正置型显微镜扫描模块扫描模式:振镜扫描,分辨率:<0.02um,扫描区域:200um×200um(40x物镜下)激光器532nm(最大100mW,可调DPSS激光器)滤波器低波数低至1750px-1光谱仪焦长35mm光谱范围最大203750px-1光谱分辨率低至3个波数检测器TE制冷CCD,1932×1452pixels,4.54um width光栅光栅刻线光谱范围分辨率2400lpmm70~58500px-175px-11800lpmm70~85000px-1110.00000000000001px-11200lpm ...
(在40X物镜下, NA : 0.75) ,样品无需移动。4、共聚焦3D成像分析可通过压电物镜扫描器实现z轴扫描与3D重构。FEATURE结构特点从①激发光模块中选择合适的激发波长,进入⑥主机身中,通过手动或电动的衰减器可以调整样品界面的激发功率。激光通过⑤滤波器套件内的一系列带通滤波片和反射镜进入上方的②扫描模块中,导入到③显微镜,并通过显微物镜聚焦在样品台上,通过上方的CMOS相机可以在计算机上被实时观测到。散射光由同一物镜收集并沿原路返回,经由⑤滤波器套件滤除瑞利散射光,通过共焦针孔进入到④探测器中,通过透射式光栅进行分光,并汇聚在探测器上。最终样品测试的结果在计算机上以光谱/寿命曲线 ...
秒激光器标准物镜-x40 , NA=0.75-60% transmission from 360 to 1000 nm光谱仪-Input f/5-焦长200 mm-1800 lpmm VPHG grating (for 532 nm excitation)-Micrometer for center wavelength adjustment-FWHM resolution min 2.5 cm-1荧光寿命模块-检测通道: 2-时间分辨率 : 25 ps-触发: 0 ~ -1200 mV-计数速率: 40 MHz-标记: TTL x 4-量子效率: 24, 49, 37 % @ 400, 55 ...
采用非磁长焦物镜5、六维调节样品台,可以精确调节样品的位置。6、软件友好操作简单,可进行图像差分处理、磁畴大小的测量、磁性测量等。相关产品:小型磁光克尔显微镜产品链接:http://www.auniontech.com/details-362.html 这是一款超高性价比的磁光克尔显微镜,该产品是面内专用的磁畴观察显微镜,光源采用LED,使用寿命高达10K小时,外加磁场强度为1KOe,由于其小巧的体积非常便于与其它设备联用。 ...
察。采用非磁物镜,最大磁场可达2T。此外还提供一款小型磁畴观察设备,该款磁光克尔显微镜可进行面内观察方向,光源采用LED,寿命可达到10000小时。最大磁场为1KOe。③磁性测量+磁光克尔显微镜系统这是一款集磁性测量和磁畴观察于一身的设备。其中磁性测量采用高聚焦光斑可以达到很高的精度和灵敏度并可进行微区的磁性测量。磁畴观察使用偏光成像的方法,利用面光源分辨率可达到1μm以下,并可同时进行磁畴观察和磁性的测量。另外对Neoark还对昊量相关工程师进行了无掩膜光刻机的产品培训。NEOARK生产的无掩膜光刻机以DMD作为数字掩膜,无需制作掩膜。采用365nm的LED为光源,寿命可达10000小时以上 ...
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