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造中采用例如纳米压印(nanoimprinting)和紫外线步进光刻(ultraviolet stepper lithography)的技术,但仍然无法避免光刻掩模或压印模具的制备。迄今为止,最大的光学超透镜可以具有几厘米数量级的孔径。如太空望远镜这样的应用,需要米量级的透镜孔径尺寸,受当前半导体制造基础设施的限制,制造这种规模的单个超透镜可能极具挑战性(如果可以制造)。解决透镜(或镜头)孔径受限问题的一种方法是多个孔径合成。合成孔径可以混合来自子孔径集合的信号,呈现分辨率与所有子孔径的外接圆大小的孔径相当的图像。它是一种已广泛应用于射频领域的技术。作为一个具有里程碑意义的例子,Event H ...
mp;热压印纳米压印机技术研讨会——超紧凑、即插即用综合型纳米压印机会议内容CNI是一个非常灵活的纳米压印工具,它可以以多种方式使用。在本次网络研讨会中我们将:● 演示该款产品的实际应用● 展示多种选项● 如何配置CNI以满足您的需求● 它们在纳米压印工具中的工作原理● 问答环节主讲嘉宾Kristian Smistrup工学硕士(丹麦技术大学,2003),博士(丹麦技术大学,2007)(专业:物理与纳米技术)、NIL Technology公司工艺与开发工程师,高ji开发工程师,工程部部长,工程联合主管(现任)报名方式有意向参与者可添加下方产品负责人微信获取报名链接 ...
滚筒式纳米压印机UNIA6 DT滚筒式纳米压印机HoloPrint uniA6 DT是一种负担得起的、便携的、易于使用的桌面设备,用于实验室尺度的纳米压印光刻工作。这款滚筒式纳米压印机是快速成型、测试和表征结构性能、光固化树脂和印迹材料的完美设备。典型的应用范围包括印刻、芯片实验室、衍射光学元件和其他纳米印刻结构。HoloPrint®uniA6 DT在其自身的保护环境中工作,因此,洁净室所需的投资可以分配到其他地方。滚筒式纳米压印机HoloPrint®uniA6 DT是由Stensborg公司的工程师开发的,与占行业主导地位的传统纳米压印工具相比,它是一种体积更小、成本更有竞争力的辊-板压印机 ...
超紧凑纳米压印机光刻技术实际上是一种精密表面加工技术,它借助于一定波长的激光光源以及选择性的化学腐蚀和刻蚀技术把设计的微纳图案转移到硅基板上。但是随着集成电路功能和密度的提升传统的光刻技术已经难以满足当前对线宽越来越小的需求。但是打破衍射极限的大型光刻设备又很昂贵。为了摆脱光学衍射极限和克服高成本的限制,一种操作简单,成本低廉的纳米压印技术产生了。纳米压印的技术核心是充分利用机械能将刚性模板上的图案转到抗蚀剂上,之后再借助溶脱、剥离、刻蚀等将图案转移到基板上。到目前为止压印技术已经发展出来多种类型,典型的包括热塑压印技术、紫外固化压印、微接触纳米压印、激光辅助纳米压印和滚轴式纳米压印技术等。上 ...
、显微操作、纳米压印等领域。在冷原子领域、半导体领域与生物医学、生物显微成像与新兴的空间生物学领域均取得了不错的成绩,受到国内外高端工业领域和科研领域的一致好评。主要特点主要应用高分辨率:0.005nm/urad(Max)超大行程:1500um(Max)超低底噪:10-50pm超高速:谐振频率7000Hz(Max)高性能传感器:Si-HR 传感器柔性铰链:高可靠、长寿命紧凑设计可用于真空环境超分辨显微原子力显微镜干涉测量精密光学自适应光学光束稳定/扫描光镊纳米刻蚀1)单轴压电平台单轴压电平台是可以在单个维度上提供精确定位的产品,主要包含X轴压电平台、Z轴压电平台、物镜扫描台、快速反射镜。① X ...
子晶体纤维的纳米压印和锥化通过硫族化物光子晶体光纤 (PCF) 的抗反射 (AR) 纳米压印和锥形化证明改进的长波传输和超连续谱 (SC) 生成。 使用范围从 1 到 4.2 μm 的 SC 源输入,通过在光纤的输入和输出面上对 AR 结构进行纳米压印,15 μm 纤芯直径 PCF 的总传输率从~53% 提高到~74%。 通过减少反射和光谱红移至 5 μm 的综合作用,同一光纤中 >3.5⟩⟩ 光的相对透射率增加了 60.2%。 使用锥形光纤可将光谱进一步扩展至 8 μm。 使用不同的锥形参数和脉冲重复率研究了光谱展宽动力学和输出功率。A. I. Adamu, Md. S. Habi ...
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