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于池体中进行椭偏测量。图3-9是不同溶液浓度下测试得到的椭偏参数Psi和Delta随波长的变化图,从图中可以看到整体上不同浓度溶液得到随波长变化的整体趋势是一样的,但是在数值上有微小差别。图3-9不同浓度醋酸铅测试结果上述呈现出的椭偏图谱随浓度变化,不同浓度溶液随波长的变化趋势一致,但是会存在数值上的波动。对比3.2.2节所测试结果分析知,该处呈现的图谱随浓度的变化小于同一浓度不同次数测试的变化,故而在该池体测试的系统误差范围内,可以不考虑溶液浓度对椭偏参数所带来的影响。而本实验扩散层厚度中溶液浓度变化不会超过本体溶液浓度,所以在后续的椭偏在位监测薄膜沉积的过程中就可不考虑扩散层中溶液浓度变化 ...
800nm的椭偏测量,测试得到的椭偏参数如图3-1所示。图3-1不同溶液厚度的椭偏仪测试(a)Psi;(b)Delta从图3-1(a)可知,随着溶液的加入,溶液中的光程从0变化到150px。其中光程为25px、75px时测得的结果比0时要小,且曲线趋势也不同;光程为50px、100px、125px、150px时测得的数据比0时要大,且曲线的变化趋势大致相同,随着溶液的增加,差值增加,但是在加到5、150px时达到了极值,从图中可以看到5、150px时结果靠得非常近。从图3-1(b)图可知,随着溶液的加入,溶液中的光程从0变化到150px。其中光程为25px,75px时测得的结果比0时要小,且曲 ...
实时在位光谱椭偏测量的高真装置。该装置是基于一个圆柱型管,在其两端有两个KF100法兰(见图1-12(a),左)。底部为KF100法兰(a)作为支撑样品的支架,安装有加热器和两个双动电偶;主体(b)容纳几个焊接在适当角度的法兰,用于椭偏测量、电气连接和泵送;顶部的KF100法兰(c),易于拆卸进入内室;主机四个法兰,可根据需要容纳真空计、气体进口和薄膜沉积来源。因此,通过改变附在法兰上的元件(窗、进气口、源),就有可能改变腔室的应用(不同入射角的椭偏测量、可控气氛、不同薄膜沉积)。腔室的横截面如图1-12(a)右所示。由于三对法兰配备了熔融硅窗,所以可以进行66°、70°和90°入射角下的椭圆 ...
贵。在位光谱椭偏测量的数据采集方式决定了测量间隔和测量精度。光电二极管阵列可以在积分模式下进行完全并行的数据采集,而后续的相位调制椭圆仪采用串行数据采集。一个旋转偏振器多通道椭偏仪(RPE)允许在25ms时间采集64个光谱位置(ψ,Δ)点。综上所述,当测试薄膜的表面或厚度改变时,椭偏仪测试得到的椭偏参数会随之改变。椭偏仪在位监控是在进行物理或化学变化的同时对实验样品进行实时的椭偏仪测试,从而获取实验样品实时的厚度、光学常数等物理特性。下面是椭偏仪在位监控的案例。了解更多椭偏仪详情,请访问上海昊量光电的官方网页:https://www.auniontech.com/three-level-56. ...
基于斯托克斯椭偏测量系统的多点定标法[J].中国激光,2012,39(11):163-167.2侯俊峰,于佳,王东光,邓元勇,张志勇,孙英姿.自校准法测量波片相位延迟[J].中国激光,2012,39(4):173-179.3王喜宝,宋连科,朱化凤,郝殿中,蔡君古.连续偏光干涉法测量波片宽波段延迟量变化[J].激光技术,2012,36(2):258-261.4赵振堂,林天夏,黄佐华,何振江.利用消光式椭偏仪精确测量波片相位延迟量[J].激光杂志,2012,33(3):8-9.5程一斌,侯俊峰,王东光.组合波片的椭圆率角测量方法[J].北京理工大学学报,2019,39(7):750-755.6于德 ...
移的波动,对椭偏测量精度影响很大,且无法通过标定来消除。已有多篇文献指出,NPBS的反射相移、透射相移、透射比和反射比K,受温度、入射角和入射光束偏振态的影响。入射角变化1°,NPBS的和变化约5°,和K变化约5%,且变化规律不同步;而温度引起的相移变化率约为0.12(°)/℃假设×K和+分别变化1%和1°,式(19)给出的椭偏参数误差约为:此时引入的膜厚测量误差约为1nm。NPBS2引入的误差分析根据式(17),用图3描述了NPBS2的方位角对椭偏参数测量误差的影响。(a)幅值比误差(b)相位差误差图3 NPBS2方位角对椭偏参数误差的影响由图3可知,NPBS2的对准误差对相位差测量影响较大 ...
提出了干涉式椭偏测量的概念,针对其中存在的问题,有人提出了使用塞曼激光和声光调制器的系统设计,还有人提出采用电光调制和波长调制半导体激光器的方案。Watkins采用压电晶体振荡的方法产生拍频,实验测量了SiO2膜,zui佳测量不确定度可达360pm。以上理论研究和实验表明,干涉式椭偏测量技术对于实时、快速薄膜测量有很好的应用价值与市场潜力,但外差干涉测量中存在的非线性误差是阻碍该技术实际应用的主要原因。外差干涉测量系统中的非线性误差一直是国内外研究热点,研究人员对激光源、偏振分光镜、波片、反射镜等误差源开展了很多研究工作,并取得了许多有意义的研究成果,提出了多种非线性误差测量与补偿的方法。在激 ...
的发展空间。椭偏测量具有非接触性、非破坏性、测量精度高和适于测量较薄膜层的特点, 成为了半导体业常用的薄膜测量工具。由于半导体制造业在器件关键尺寸上的测量要求越来越精确, 薄膜常用材料日益多样化, 薄膜的结构越来越复杂, 需要进一步改进椭偏仪。主要的发展趋势可以分为如下几个方面。1)光谱椭偏成像技术发展至今可以实现200-1000 nm波段的测量,在对纳米结构的测量与表征中,可能需要获得更短波段的偏振信息,从而达到更高的横向分辨率,以分析样品的特性。实现椭偏成像技术对更宽波段的测量是重要研究方向。比如寻找较高强度的红外光源, 拓宽椭偏仪的光谱范围, 以准确确定异质结构的多层膜结构;2)在医学方 ...
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