SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
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目光转移到了无掩膜光刻技术。 备受关注的无掩膜光刻技术大概可以分为两类:1)带电粒子无掩膜光刻;例如电子束直写和离子束光刻技术等。2)光学无掩膜技术;例如DMD无掩膜光刻技术、激光直写、干涉光刻技术、衍射光学元件光刻技术等。 其中DMD无掩膜光刻技术是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术,因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似,区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜,其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中,并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角,并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射到基片表面,并通过控制样品台的移 ...
为什么Microlight3D双光子聚合激光直写技术能实现67nm超高分辨率3D打印?Microlight3D是一家生产用于工业和科学应用的高分辨率微尺度2D和3D打印系统的专业制造商。MicroFAB-3D光刻机是该公司于2019年推出的第一台紧凑台式双光子聚合系统,一经推出便得到客户的广泛好评。 MicroFAB-3D基于双光子聚合激光直写技术,可在各种光敏材料上制造出蕞小尺寸可达67nm的二维和三维特征结构,兼容各种聚合物,包括生物兼容性材料、医用树脂和生物材料,为微流控、微光学、细胞培养、微机器人或人造材料领域开辟了新的前景。双光子聚合激光直写,也称双光子3D打印,基于“双光子吸收效应 ...
提供的DMD无掩膜光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种电阻和基片。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状,而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术,投影出具有微米分辨率的图像。DMD无掩模光刻机最后便会在一整片晶圆上完成很多 IC 芯片,接下来只要将完成的方形 IC 芯片剪下,便可送到封装厂做封装。最后,对产生的芯片质量检测可利用该款产品进行操作。脉宽可调纳秒激光器(芯片缺陷检测用)您可以通过我们的官方网站了解更多的产品信息,或直接来电咨询4006-888-532。 ...
无掩模光刻?无掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技术。在传统光刻过程中,需要采用光学照射掩模版的方式将图案转移到掩模版上;而在无掩模光刻中,对目标图案的转印不需要掩模版,而是通过电子束或光学的方式直接在基片上制作出所需要的图案,这种方式避免了传统方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺点。2、何为DMD无掩模光刻?DMD无掩模光刻是光学无掩模光刻技术的一种,该技术使用数字DMD代替传统的掩模,借助于DMD对常规掩膜予以取代而展开光刻成像,借助DMD对光源展开反射式调制,把涉及的虚拟数字掩膜移至硅晶圆基片,进而进行曝光。DMD无掩模光刻系统本质上是一种高精度加工平台,如下图所示,主要包括投影光源 ...
空间。DMD无掩膜光刻机SP-UV的优势之一是对DMD光学投影技术的应用。这一技术在提高直写精度和速度的同时,提供了四种不同的直写分辨率。搭配Microlight3D的“快速切换”物镜系统,仅需2秒就能完成分辨率切换。Microlight3D首席执行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技术可以与更广泛光刻胶材料相兼容。在为无掩模光刻的应用开拓了新的领域的同时,满足了开发人员对多功能性和可负担性的需求。”“我们使芯片实验室和其他领域(光电子学、MEMS、自旋电子学)的研究人员可以更容易、更快速地在较大表面积上(120x120 mm²),加工微米分辨率的复杂结构 ...
等诸多领域。无掩膜光刻:传统光刻掩膜制作难度大、价格昂贵。DMD空间光调制器具有灵活、高速、可编程等特点。可以通过对DMD芯片图形的编程,控制DMD的衍射图像,从而取代传统光学掩膜。简化传统光刻的复杂流程,减低成本。光谱分析: DMD芯片上的每个像素都可以通过编程进行控制,可以对光线进行有选择的衰减,通过DMD控制,筛选所需要的光谱。同时因为DMD芯片,体积小,耗能小等特点,集成DMD芯片的光谱仪可以做成便携式。除了以上这些已经比较成形的领域,DMD芯片还在航天与国防、结构光超分辨、波分复用、光学主动变焦、彩色三维全息等领域有很好的应用前景。近些年以来,随着对DMD的研究逐渐深入,对高品质空间 ...
ku、DMD无掩膜光刻机、生物阻抗和断层成像仪、色度计、单光子相机、单光子计数器、MEMS扫描镜、闭环扫描镜、PPLN、光束分析仪、声光产品、非球面透镜、激光振动传感器、光学麦克风、激光驱动白光光源等各大领域创新产品及相关行业应用解决方案。上海昊量光电设备有限公司诚挚邀请您莅临激光技术及智能制造展4号馆 4B182+185展位参观、交流及业务洽谈。一、展会信息:展会时间:2023年9月6日-9月8日(周三-周五)展会地点:深圳国际会展中心(宝安新馆)展会规模:展会展示规模达22万平方米,汇聚3000家展商,逾10万的观众参观二、昊量光电所在位置:展馆:4号馆(激光技术及智能制造展)展位面积:1 ...
昊量光电邀请您参加MicroFAB-3D双光子聚合打印系统网络研讨会!会议主题:MicroFAB-3D双光子聚合打印系统研讨会直播时间:2022年10月13日(星期四) 下午4:00主讲嘉宾:Dr. Louise Colin(Technico-sales Engineer)会议亮点:1、基于双光子3D打印机的产品介绍和功能介绍;2、DMD无掩模光刻系统产品介绍及设备展示;3、现场demo演示;4、参会人员提问环节。产品介绍:microFAB-3D是一款基于双光子聚合激光直写技术的超高分辨率3D打印系统,最小特征尺寸<200nm,加工的物体高度最高可达20mm,打印速度可至5mm/s,表面粗糙度 ...
Print无掩膜光刻机 / 智能UV打印系统简介:法国MicroLight 3D公司Smart Print系列智能UV打印系统/无掩膜光刻机,是上海昊量光电有限公司为微结构光刻/光学加工领域提供的新一代解决方案。Smart Print UV基于DMD扫描技术,搭配闭环反馈修正机制和独特的镜组设计,与同类设备相比,具备更大的加工深度范围,以及可以处理非平整曲面基底的能力。同时,SP-UV系统的加工速度最高可达同类产品的10倍以上。Smart Print系列可以使用更多种类的光刻胶,现在SP-UV光刻系统已经被广泛用于微流体、生物技术、微电子、以及微结构加工等领域。其他更多精彩产品,欢迎莅临 昊 ...
产品、DMD无掩膜光刻机及相关激光器等设备的安装,使用的培训,并且对相关领域的销售中常见的技术问题进行交流。部分培训内容包括:对磁学产品进行了系统的培训,主要针对如下三款磁学测量设备的结构,安装,调试,及使用,并现场测量多个昊量工程师带来的样品。①MOKE 磁性测量设备磁性测量系统采用高聚焦激光,激光光斑大小仅为1μm,可以进行微区的 磁性检测。一机可以进行极向克尔效应和纵向克尔效应的测量。克尔角的分辨率可以达到0.001°,并可以根据客户不同的要求进行定制。除u-MOKE之外,还有大激光光斑的磁光克尔效应测量系统,可提供极向、纵向、横向不同配置的磁光克尔效应测量系统(注:此两款产品均可以添加 ...
制化。DMD无掩膜光刻机 采用DMD作为数字掩膜,无需制作掩膜。采用365nm的LED为光源,寿命可达10000小时以上,使用10倍物镜线宽可达3μm,光刻面积1´0.6mm,使用电动平移台可实现拼接,使曝光面积大25mm´25mm高频振动观察仪 该系统基于Sagnac干涉仪原理,采用激光为探针使高频振动实现可视化。使用激光为探针实现非接触式无损探测,测量频率范围可达50MHZ-3GHZ.使用电动平移台可实现自动聚焦功能,利用二维FFT处理,实现滤波功能。稳频激光器 利用特殊物质(碘、乙炔等)的超精细吸收光谱作为参考频率,通过主动稳频的方法把激光频率稳定到参考频率上。可实现1´10-11的频率 ...
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术,兼容多种高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件,MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽,为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性,可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性:较高的直写精度和分辨率(<200nm)(已有客户使用此设备实现低 ...
DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种光刻胶和基材。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状,而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术,投影出具有微米分辨率的图像,无掩模光刻机SmartPrint无需任何进一步步骤,就能直接从数字掩模光刻出您要的图。无掩模光刻机SmartPrint主要应用是MEMS, 微流体,二维材料,自旋电子学,生物技术和微电子等领域光刻表面微纳图案。主要特性:兼容SU-8、i、h、g线、AZ系统和宽带光刻胶等SmartPrint-UV ...
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