SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
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芯片科普——DMD光刻机你知道一个芯片是怎样设计出来的么?你又知道设计出来的芯片是怎么生产出来的么?看完这篇文章你就有大概的了解。一、复杂繁琐的芯片设计流程芯片制造的过程就如同用乐高积木盖房子一样,先有要有白色底板作为地基:这些白色的底板部分在芯片制作中对应着的东西称之为晶圆。再层层往上盖一些其它积木,就可以搭出我们心中的乐高( IC芯片)。可以类比乐高玩具的制作,我们首先想到的是乐高玩具的建模软件,和零件制作模具。因此,IC芯片的设计者、也会有一些软件辅助规划,也有相关的专门技术负责制作芯片的零件。然而,工程师们在设计一颗 IC 芯片时,究竟有那些步骤?设计流程可以简单分成如下。现在知名的芯 ...
DMD无掩膜光刻机SP-UV的优势之一是对DMD光学投影技术的应用。这一技术在提高直写精度和速度的同时,提供了四种不同的直写分辨率。搭配Microlight3D的“快速切换”物镜系统,仅需2秒就能完成分辨率切换。Microlight3D首席执行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技术可以与更广泛光刻胶材料相兼容。在为无掩模光刻的应用开拓了新的领域的同时,满足了开发人员对多功能性和可负担性的需求。”“我们使芯片实验室和其他领域(光电子学、MEMS、自旋电子学)的研究人员可以更容易、更快速地在较大表面积上(120x120 mm²),加工微米分辨率的复杂结构。由于 ...
刻系统被称为光刻机,带有图形的石英板称为掩膜,光敏记录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。具体光刻流程如下图所示 光刻技术是集成电路制造、印刷电路板制造以及微机电元件制造等微纳加工领域的核心技术之一。进入21世纪以来,随着电子信息产业的高速发展,集成电路的需求出现了井喷式的增长。使的对掩膜的需求急剧增加,目前制作掩膜的主要技术是电子束直写,但该制作效率非常低下,并且成本也不容小觑,在这种背景下人们把目光转移到了无掩膜光刻技术。 备受关注的无掩膜光刻技术大概可以分为两类:1)带电粒子无掩膜光刻;例如电子束直写和离子束光刻技术等。2)光学无掩膜技术;例如DMD无掩膜光刻技术、激光直写、干涉光刻技 ...
FAB-3D光刻机是该公司于2019年推出的第一台紧凑台式双光子聚合系统,一经推出便得到客户的广泛好评。 MicroFAB-3D基于双光子聚合激光直写技术,可在各种光敏材料上制造出蕞小尺寸可达67nm的二维和三维特征结构,兼容各种聚合物,包括生物兼容性材料、医用树脂和生物材料,为微流控、微光学、细胞培养、微机器人或人造材料领域开辟了新的前景。双光子聚合激光直写,也称双光子3D打印,基于“双光子吸收效应”, 可以将反应区域限制在焦点附近极小的位置(称之为“体元”),通过纳米级精密移动台,使得该焦点在物质内移动,焦点经过的位置,光敏物质发生变性、固化,因此可以打印任意形状的3D物体。双光子聚合激光 ...
DMD无掩模光刻机独家代理。上海昊量光电设备有限公司自2023年1月1日正式成为Microlight3D公司SMART PRINT UV系列DMD无掩光刻系统的中国区独家代理商,此次获得Microlight3D的授权,体现了Microlight3D对上海昊量光电设备有限公司市场销售的专业度及售后技术支持力量的高度认可。我们将一如既往的为国内广大用户提供更为优质的服务。Microlight3D成立于2016年,在格勒诺布尔阿尔卑斯大学(Université Grenoble Alpes,UGA)进行了长达15年的3D微型打印技术研发。格勒诺布尔阿尔卑斯大学创建于1339年,是一所拥有近七百年历史 ...
相机,无掩模光刻机。在线椭偏仪,在线膜厚测量仪,在线拉曼光谱成像,在线荧光寿命成像,在线荧光光谱成像,自动化光电流成像,超分辨光学微球显微镜、锁相放大器、激光干涉仪,高频激振器,TDTR,266nm窄线宽激光器,波前传感器,激光光束分析仪,激光位置和指向稳定系统,多通道声光调制器AOMC,声光偏转器AODF,非球面匀化镜。2940nm铒激光器,2020nm铥激光器,激光光束分析仪,非球面匀化镜,调温式热封机VTS,混频器,激光传能光纤,激光功率计,生物电阻抗断层成像仪,医用激光光纤(紫外-中红外),医用光纤温度传感器,医用光纤压力传感器 温度解调系统,时域红外光谱仪,扫频激光器,法珀腔医疗压力 ...
DMD无掩膜光刻机、生物阻抗和断层成像仪、色度计、单光子相机、单光子计数器、MEMS扫描镜、闭环扫描镜、PPLN、光束分析仪、声光产品、非球面透镜、激光振动传感器、光学麦克风、激光驱动白光光源等各大领域创新产品及相关行业应用解决方案。上海昊量光电设备有限公司诚挚邀请您莅临激光技术及智能制造展4号馆 4B182+185展位参观、交流及业务洽谈。一、展会信息:展会时间:2023年9月6日-9月8日(周三-周五)展会地点:深圳国际会展中心(宝安新馆)展会规模:展会展示规模达22万平方米,汇聚3000家展商,逾10万的观众参观二、昊量光电所在位置:展馆:4号馆(激光技术及智能制造展)展位面积:18平方 ...
in封装投影光刻机、晶 圆边缘曝光、光掩模检查等);点固化在汽车、电子、光电子、制药等行业的 应用;生命科学领域的应用;质量保证和检查(NDT);高功率多波长UV-LED光源的光谱及光强示例图:单波长UV光源示例双波长UV光源示例三波长UV光源示例四波长UV光源示例高功率多波段UV-LED点光源规格参数表:此外,我们还可提供高性能光学服务:如您对相关产品感兴趣,欢迎咨询浏览昊量光电官网并联系相关销售工程师。上海昊量光电是一家专业的光电仪器产品服务商,若有兴趣或者任何问题,都欢迎通过电话、电子邮件或者微信与我们联系。如果您对高功率多波段UV-LED点光源有兴趣,请访问上海昊量光电的官方网页:ht ...
昊量光电邀请您参加MicroFAB-3D双光子聚合打印系统网络研讨会!会议主题:MicroFAB-3D双光子聚合打印系统研讨会直播时间:2022年10月13日(星期四) 下午4:00主讲嘉宾:Dr. Louise Colin(Technico-sales Engineer)会议亮点:1、基于双光子3D打印机的产品介绍和功能介绍;2、DMD无掩模光刻系统产品介绍及设备展示;3、现场demo演示;4、参会人员提问环节。产品介绍:microFAB-3D是一款基于双光子聚合激光直写技术的超高分辨率3D打印系统,最小特征尺寸<200nm,加工的物体高度最高可达20mm,打印速度可至5mm/s,表面粗糙度 ...
int无掩膜光刻机 / 智能UV打印系统简介:法国MicroLight 3D公司Smart Print系列智能UV打印系统/无掩膜光刻机,是上海昊量光电有限公司为微结构光刻/光学加工领域提供的新一代解决方案。Smart Print UV基于DMD扫描技术,搭配闭环反馈修正机制和独特的镜组设计,与同类设备相比,具备更大的加工深度范围,以及可以处理非平整曲面基底的能力。同时,SP-UV系统的加工速度最高可达同类产品的10倍以上。Smart Print系列可以使用更多种类的光刻胶,现在SP-UV光刻系统已经被广泛用于微流体、生物技术、微电子、以及微结构加工等领域。其他更多精彩产品,欢迎莅临 昊量展位 ...
DMD无掩膜光刻机及相关激光器等设备的安装,使用的培训,并且对相关领域的销售中常见的技术问题进行交流。部分培训内容包括:对磁学产品进行了系统的培训,主要针对如下三款磁学测量设备的结构,安装,调试,及使用,并现场测量多个昊量工程师带来的样品。①MOKE 磁性测量设备磁性测量系统采用高聚焦激光,激光光斑大小仅为1μm,可以进行微区的 磁性检测。一机可以进行极向克尔效应和纵向克尔效应的测量。克尔角的分辨率可以达到0.001°,并可以根据客户不同的要求进行定制。除u-MOKE之外,还有大激光光斑的磁光克尔效应测量系统,可提供极向、纵向、横向不同配置的磁光克尔效应测量系统(注:此两款产品均可以添加低温、 ...
DMD无掩膜光刻机 采用DMD作为数字掩膜,无需制作掩膜。采用365nm的LED为光源,寿命可达10000小时以上,使用10倍物镜线宽可达3μm,光刻面积1´0.6mm,使用电动平移台可实现拼接,使曝光面积大25mm´25mm高频振动观察仪 该系统基于Sagnac干涉仪原理,采用激光为探针使高频振动实现可视化。使用激光为探针实现非接触式无损探测,测量频率范围可达50MHZ-3GHZ.使用电动平移台可实现自动聚焦功能,利用二维FFT处理,实现滤波功能。稳频激光器 利用特殊物质(碘、乙炔等)的超精细吸收光谱作为参考频率,通过主动稳频的方法把激光频率稳定到参考频率上。可实现1´10-11的频率稳定。 ...
直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术,兼容多种高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件,MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽,为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性,可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性:较高的直写精度和分辨率(<200nm)(已有客户使用此设备实现低至67nm分辨 ...
DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种光刻胶和基材。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状,而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术,投影出具有微米分辨率的图像,无掩模光刻机SmartPrint无需任何进一步步骤,就能直接从数字掩模光刻出您要的图。无掩模光刻机SmartPrint主要应用是MEMS, 微流体,二维材料,自旋电子学,生物技术和微电子等领域光刻表面微纳图案。主要特性:兼容SU-8、i、h、g线、AZ系统和宽带光刻胶等SmartPrint-UV ...
振态测量仪 光刻机偏振态测量仪 193nm偏振态测量仪Hinds公司长期以来致力于偏振态测量研究,在紫外波长(180nm-200nm)范围内基于双PEM(光弹调制器)的偏振测量系统为量化光的斯托克斯参数提供无与伦比的精度与灵敏度。该科研级高精度stokes测量系统可实现每秒超100组标准化斯托克斯参数集获取。一次测量生成4个斯托克斯参数。该系统在光学元件表征、光学系统光束输出表征、天文学、光纤制造、光源和激光质量控制等方面具有广泛的应用。该系统采用了Hinds公司自研光弹性调制器(PEM)技术,提供了目前超高水平的偏振测量。此外,PEM提供高速操作,根据所需波长在37至100khz之间调制。P ...
SID4-UV-HR 紫外波前传感器/波前分析仪【SID4-UV-HR简介】随着光波波前探测技术的发展,各种波前传感器应运而生。从测量原理上可以分成两类:一类是根据几何光学原理,测定波前几何像差或面型误差,主要有Shack-Hartmann 波前传感器,曲率传感器和Pyramid 波前传感器等;另一类是基于干涉测量原理,探测波前不同部分的干涉性,来获取波前信息,主要有剪切干涉仪波前传感器和相位获取传感器等。剪切干涉仪波前传感器不需要精确的参考标准镜;它们结构简单,抗干扰能力强,条纹稳定。它是测量光学元件和光束波前质量的一种很好的替代传统干涉仪的方法。作为低可至波长250 nm的高分辨率波前传感 ...
SID4-UV 紫外波前传感器/波前分析仪【SID4-UV波前分析仪简介】随着光波波前探测技术的发展,各种波前传感器应运而生。从测量原理上可以分成两类:一类是根据几何光学原理,测定波前几何像差或面型误差,主要有Shack-Hartmann 波前传感器,曲率传感器和Pyramid 波前传感器等;另一类是基于干涉测量原理,探测波前不同部分的干涉性,来获取波前信息,主要有剪切干涉仪波前传感器和相位获取传感器等。剪切干涉仪波前传感器不需要精确的参考标准镜;它们结构简单,抗干扰能力强,条纹稳定。SID4-UV波前分析仪是测量光学元件和光束波前质量的一种很好的替代传统干涉仪的方法。SID4-UV波前分析仪 ...
超紧凑纳米压印机光刻技术实际上是一种精密表面加工技术,它借助于一定波长的激光光源以及选择性的化学腐蚀和刻蚀技术把设计的微纳图案转移到硅基板上。但是随着集成电路功能和密度的提升传统的光刻技术已经难以满足当前对线宽越来越小的需求。但是打破衍射极限的大型光刻设备又很昂贵。为了摆脱光学衍射极限和克服高成本的限制,一种操作简单,成本低廉的纳米压印技术产生了。纳米压印的技术核心是充分利用机械能将刚性模板上的图案转到抗蚀剂上,之后再借助溶脱、剥离、刻蚀等将图案转移到基板上。到目前为止压印技术已经发展出来多种类型,典型的包括热塑压印技术、紫外固化压印、微接触纳米压印、激光辅助纳米压印和滚轴式纳米压印技术等。上 ...
高损伤阈值、超大通光口径、高消光比金属线栅偏振片美国Meadowlark公司的超大口径线栅偏振片提供了损伤阈值高、宽带宽和超大口径的偏振解决方案,可提供325-450nm,450-1000nm,1000-2000nm三种工作波长范围,在此基础上可提供1 mm-200 mm的通光口径和10KW/cm2,CW,1540 nm的损伤阈值,在200℃的工作温度下,仍可以提供和二向色性偏振片一样的性能。keyword:起偏器,Polarizer,检偏器,Analyzer,偏振片,偏振器,超宽带线栅偏振器/起偏器/偏振片,超大口径线栅偏振片/偏振器/起偏器,高损伤阈值线栅偏振片/偏振器/起偏器,Versa ...
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