SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
您对搜索结果满意吗?
原位拉曼系统--实时监测半导体薄膜生长全过程在半导体工艺中,薄膜沉积是在半导体原材料硅晶圆上分阶段生长薄膜的核心工艺。它在半导体电路之间起到区分、连接和保护作用。由于其厚度非常薄,在晶圆上形成均匀地薄膜具有很高的难度。所以在化学沉积过程中,确认薄膜材料是否正常生长,以及能否产生所需的特定物性,就非常重要。为了确保薄膜沉积按照预期进行,通常将已长成的薄膜从真空化学气相沉积(CVD)腔室中取出,然后用分析仪器进行检查。它被称为“Ex-Situ”方法,是从外部而不是在腔室内部进行分析。但是,从真空室中取出的薄膜可能会与大气中的氧气或水分接触,从而改变物性,很难进行准确的分析。即使通过分析发现问题,也 ...
长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等。石墨烯CVD制备设备技术参数:1200双温区加热炉电压 AC220V 50/60Hz功率 4.5KW 双温控Max温度 1150 °C工作温度≤ 1100°C升温速率≤ 15°C/min温控系统 PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率,30段可编程控制器恒温精度 ±1°C石英管 25/50/60/80*1400mm三路质量流量控制系统MAX电压 185~245V/50HzMAX输出功率 18W流量计标准量程 50,100,200,500SCCM(非特殊指定以氮气标定,量程可选定)工作 ...
或 投递简历至: hr@auniontech.com