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椭偏成像技术(六)椭偏成像技术在材料学和半导体的应用

发布时间:2023-09-28 14:07:51 浏览量:861 作者:Alex

摘要

随着计算机的发展,椭偏成像技术由于自身的优势与特点,结合其他测量方法,能获得更为丰富的信息,在材料科学、生物学、半导体工业等领域得到广泛的应用。

正文


椭偏成像技术(六)椭偏成像技术在材料学和半导体的应用


随着计算机的发展,椭偏成像技术由于自身的 优势与特点,结合其他测量方法,能获得更为丰富的信息,在材料科学、生物学、半导体工业等领域得到广泛的应用。


材料学方面,椭偏成像主要应用于对纳米薄膜的研究。例如,成像椭偏仪的横向分辨率达到1μm,光学特性映射到石墨烯薄片上之后,椭偏成像技术就可以用来从任何衬底上确定石墨烯薄膜的形状和层数,从中提取其光学性质从而分析不同衬底对石墨烯性质的影响。下图为成像椭偏仪获得的石墨烯薄片灰度图和光学显微镜获得的石墨烯薄片的对比。



成像椭偏仪获得的石墨烯薄片灰度图和光学显微镜获得的石墨烯薄片的对比。

(a)不同层数的石墨烯片的光学显微照 片,数字代表石墨烯层数;

(b)石墨烯片在二氧化硅/硅上的成像椭偏灰度图;

(c)(d)以更高的分辨率显示图(b)中方框 区域的椭偏Ψ和Δ图


对比上图(a)和(b)-(d)可以看出,成像椭偏适用于区分单层和双层石墨烯。在此之后,成像椭偏技术实现从单波长测量到光谱测量的突破,为测定由飞秒激光诱导的离子迁移刻写的通信波导的折射率对比度和色散提供了有效方法,并且能够提供有效的光谱分辨率,从而获得波导的色散指数。除此之外,椭偏成像技术可以用于对导电聚合物膜层的研究,通过椭偏成像可以获得聚合物层的空间分布信息和不同厚度层的显著形态差异。 此外,椭偏成像还应用在原位测试方面。例如对界面氧化层变化的分析可以显示氧化层厚度变化,精确到纳米级 。对于水媒质中油滴到达石英固体表面上时形貌的变化,椭偏成像能够准确地测定在液滴和界面之间发生薄膜排水时液滴轮廓的变化。该技术对厚膜和薄膜的测量都很敏感,无需扫描表面,可实时生成薄膜轮廓。到目前为止,椭偏成像技术在纳米材料检测方面已经取得长足的进步, 椭偏光谱成像已经可以对复杂二维分布的纳米层结构薄膜样品进行快速光谱成像定量测量,给具有复杂横向结构的大面积多层纳米薄膜样品的表征提供了方法,同时满足了高分辨率、快速准确、结果直观、实时监测的要求。


半导体方面,椭偏成像技术可以有效检测半导体材料的形态、均匀性和光学性能。例如,检测噻吩-亚苯基低聚物晶体等在微电子器件和柔性电子方面有巨大潜力的有机半导体微晶,快速观察和区分单层和多层微晶,获得双轴半导体材料的光学特性。2020年,韩国三星设计了一种基于椭偏成像的半导体器件的检查方法,用于检测半导体材料的晶态、形状、化学结构和电导率等性质。该技术还可以用于对激光二极管(LD)的检测,可以检测LD发射表面上的抗反射涂层的光学性质,从而获得LD的发射波长、线宽、寿命、稳定性。


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