DMD精微反射镜面是一种整合的微机电上层结构电路单元 (MEMS superstructure cell)，它是利用CMOS SRAM记忆晶胞所制成。DMD上层结构的制造是从完整CMOS内存电路开始，再透过光罩层的使用，制造出铝金属层和硬化光阻层(hardened photoresist) 交替的上层结构，铝金属层包括地址电极 (address electrode)、绞链(hinge)、轭 (yoke) 和反射镜，硬化光阻层则 作为牺牲层 (sacrificial layer)，用来形成两个空气间 (air gaps)。铝金属会经过溅镀沉积 (sputter-deposited) 以及电浆蚀刻 ...

pix超高速DMD空间光调制器V-9001VIS采用TI 2015年10月7日推出的DLP9000X芯片组。DLP9000X芯片组由DLP9000X DMD数字微镜和DLPC910组成，与上一代芯片组DLP9000相比，其数据带宽增加了5倍达到60 Gbps。4.0Mpix超高速DMD空间光调制器V-90001VIS在充分利用DLP9000X芯片组的高带宽基础上，还在硬件驱动电路中集成了高达64GBit的片上内存和高速USB3.0数据接口。DLP9000X芯片组使用类似于DLP Discovery D4100 kit 的开发架构，上海昊量光电一直是国内基于DLP Discovery D4100 ...

膜技术；例如DMD无掩膜光刻技术、激光直写、干涉光刻技术、衍射光学元件光刻技术等。 其中DMD无掩膜光刻技术是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术，因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似，区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜，其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中，并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角，并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射到基片表面，并通过控制样品台的移动实现大面积的微结构制备。设备原理图图下图所示。相对于传统的光刻设备，DMD无掩膜光刻机无需掩膜，节约了生产成本和周期并可以根据自己的需求灵活设计掩 ...

美与不平凡。DMD（Digital Micromirror Device）数字微镜系统芯片也许能算得上这样一个角色，一块只有指甲盖大小的镜片，看似普普通通，但你可别太小瞧它。图一：DMD芯片模组出身名门DMD芯片由德州仪器（TI）公司研发，德州仪器公司目前全世界最大的模拟芯片公司，被誉为是推动因特网不断发展的半导体引擎。起初，为了获得更高品质的显示，1987年，Larry Hornback博士用他天才的智慧、高超的工艺水准和极为严苛的品质精神设计了DMD芯片。使得DMD在MEMS（Micro-Electro-Mechanical-System）微机电系统领域成为当之无愧的科技之光。图二：DMD ...

DMD是一种微光学电子机械系统(MEMS)，它包含一组有±12度倾斜状态的高反射率的铝正交微镜阵列。拥有极高的刷新频率和可编程的显示控制，可以实现对投影区域光能量的调制。这些DLP芯片通常用于高速工业、医疗和高级显示应用。光学作为一种微光学机械电子元件，它有两个稳定的微镜状态(对大多数当前的DMD来说是+12°和-12°)，这是由像素在工作中的几何结构和静电控制决定的。不上电时，DMD微镜处于平坦状态，上电以后，可以实现双稳态运行，两种偏转位置决定了光的偏折方向。按照惯例，DMD作为空间光调制器，正(+)状态是向照明方向倾斜的，称为“打开”状态。类似地，负(-)状态偏离了光照，称为“off”状 ...

D光源，基于DMD（Digital Micromirror Device）的全新无掩模光刻系统，因此SP-UV可以兼容所有标准的微电子光刻胶，包括微流体应用中不可或缺的i-line光阻剂SU-8。这一特点为半导体加工领域的开发人员，在光刻胶材料的选择上提供了更加广阔的空间。DMD无掩膜光刻机SP-UV的优势之一是对DMD光学投影技术的应用。这一技术在提高直写精度和速度的同时，提供了四种不同的直写分辨率。搭配Microlight3D的“快速切换”物镜系统，仅需2秒就能完成分辨率切换。Microlight3D首席执行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技术可以与 ...

何为DMD?DMD即“Digital Micromirror Device”数字微镜器件,是一种基于MEMS技术的微反射镜阵列单元，单元数量可达百万量级，是一种电子输入、光学输出的微机电系统 (MEMS)，开发人员可借助该系统执行高速、高效及可靠的空间光调制。图1：DMD单个工作单元图示1、何为无掩模光刻？无掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技术。在传统光刻过程中，需要采用光学照射掩模版的方式将图案转移到掩模版上；而在无掩模光刻中，对目标图案的转印不需要掩模版，而是通过电子束或光学的方式直接在基片上制作出所需要的图案，这种方式避免了传统方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺点。2、何为DMD ...

字微镜阵列(DMD)、多量子阱空间光调制器以及声光调制器等。还可以用紫外光刻来制作特定的衍射光学元件来调制光场。现在用的较多的是由计算机寻址的液晶空间光调制器实现全息元件，通过改变全息元件就可以使得所形成的光阱作动态变化。在计算机出现之前，需要采用激光全息的方法形成有限形状的全息图。目前在计算机的辅助下，可以实现任意形状的全息图。不过，每实现一种新设计的光阱，都需要重新计算相应的全息图。随着计算机速度的不断刷新以及新的算法的出现，在一般的科研实验室已经可以很容易实现任意形状的全息光镊。原则上全息光镊可以产生任意形状、大小、数量的光阱。通过改变捕获光的相位分布，可以使捕获粒子在光阱中按设定的路线 ...

机强度分布的DMD（数字微反射镜），从而不再需要参考光路，只需要用一个单像素相机就可以完成测量。DMD或者振幅型LCOS为压缩感知的鬼成像（compressive ghost imaging）的核心器件。4、时间反转技术 时间反转技术（Time Reversal）是由声学领域发展而来的一种新型的成像技术。其基本原理为：用一台换能器将接收到的声音信号转化为电信号，然后对这个电信号进行混频处理，可以得到一个时反信号，最后对该信号用换能器向外发射，实现原始信号的共轭，同时在目标方位上完成空间聚焦。 在2008年，国外的团队使用铌酸锂晶体（LiNbO3）进行了相关的实验。首先他们利用铌酸锂晶体（LiN ...

进行定制化。DMD无掩膜光刻机 采用DMD作为数字掩膜，无需制作掩膜。采用365nm的LED为光源，寿命可达10000小时以上，使用10倍物镜线宽可达3μm，光刻面积1´0.6mm，使用电动平移台可实现拼接，使曝光面积大25mm´25mm高频振动观察仪 该系统基于Sagnac干涉仪原理，采用激光为探针使高频振动实现可视化。使用激光为探针实现非接触式无损探测，测量频率范围可达50MHZ-3GHZ.使用电动平移台可实现自动聚焦功能，利用二维FFT处理，实现滤波功能。稳频激光器 利用特殊物质（碘、乙炔等）的超精细吸收光谱作为参考频率，通过主动稳频的方法把激光频率稳定到参考频率上。可实现1´10-11 ...

括磁学产品、DMD无掩膜光刻机及相关激光器等设备的安装，使用的培训，并且对相关领域的销售中常见的技术问题进行交流。部分培训内容包括：对磁学产品进行了系统的培训，主要针对如下三款磁学测量设备的结构，安装，调试，及使用，并现场测量多个昊量工程师带来的样品。①MOKE 磁性测量设备磁性测量系统采用高聚焦激光，激光光斑大小仅为1μm，可以进行微区的 磁性检测。一机可以进行极向克尔效应和纵向克尔效应的测量。克尔角的分辨率可以达到0.001°，并可以根据客户不同的要求进行定制。除u-MOKE之外，还有大激光光斑的磁光克尔效应测量系统，可提供极向、纵向、横向不同配置的磁光克尔效应测量系统（注：此两款产品均可 ...

超高速V系列DMD（Digital Micromirror Device，数字微反射镜）空间光调制器引入中国，并提供本地的销售和技术支持服务。四年时间以来，我们支持了国内数以百计的工业和科研用户，填补了国内对高速、高分辨率、大数据吞吐量、并行实时数据处理和通用编程开发DMD空间光调制器的市场空白。此次获得ViALUX的国内唯一授权认证，体现了ViALUX对上海昊量光电设备有限公司市场销售的专业度及售后技术支持力量的高度认可。接下来上海昊量光电设备有限公司将获得ViALUX更多的资源支持，进一步为国内客户提供更为优质的服务。世界领先DMD空间光调制器厂商德国ViALUX公司成立于2000年，一直 ...

损伤阈值红外DMD空间光调制器、1550nm紧凑型脉冲光纤激光器、短波红外镜头&相机、智能3D相机等产品至展会现场，为广大客户展示我们产品的技术和应用。展品简介：1. OLED行业高精度、高速专用色度计上海昊量光电代理的荷兰Admesy公司生产的色度计，具有悠久的产线光学测量历史，专注于光和颜色测量，特别是在OLED\LCD显示行业。Admesy的主要产品有色度计（MSE，Hyperion）、光谱仪（Hera，Rhea）、相机（Atlas）等，可对面板进行Gamma，Flicker，白平衡，光谱及Mura的测量与调节。它的设备的主要特点是高速，准确，并且体积很小，易于携带，特别适合产线 ...