SEM高速刻蚀子系统
XENOS刻写子系统是一种允许设计图案数据并产生用于带电粒子束（例如用于半导体光刻应用或聚焦离子束系统的电子束）转向的相应偏转信号的系统。可以连接到传统的扫描电子显微镜、FIB或双光设备上，升级系统，在半导体或其他材料上进行纳米光刻。
高速刻写
可以实现高达40MHz的像素速率。由于采用了智能写入算法，可以考虑当前SEM的有限偏转带宽。优化的数据传输和稳定时间计算与高写入速度相匹配，以提供快速写入的所有优点。
智能且通用的格式
使用三阶多项式扫描逻辑，可以仅基于硬件以Max速度生成和写入这些多项式。因此，圆形、环形或椭球体可以由同心的单像素环书写，通常在曝光过程中不需要消隐。并且，可以用Min的数据开销和传输时间来实现理想的写入速度和近似质量。此外，与结构的多边形部分的光栅扫描相比，偏转信号的正弦形状消耗的偏转带宽要小得多。同时，写入算法对称地使用X轴和Y轴的带宽。
高灵活性
模块化系统可以进行配置，以完全满足您的需求。逻辑配置和DSP内核可以在几分钟内更新，以提供新功能。
配置高，应用界面友好
完整的偏转信号生成是在每轴16/32位的可编程逻辑器件中实现的。特别是场校正不使用带宽限制的乘法模拟DAC，而是完全数字构建的，工作到Max写入速度，而在产生的偏转信号中没有任何失真。
控制软件ECP基于Linux或Windows使用，CAD部分可在工作组中自由使用。
应用图例：
** 进一步配置要求，详情可咨询上海昊量光电设备有限公司。
产品标签：SEM电子刻蚀模块,FIB刻蚀模块,电子束刻蚀模块,SEM刻蚀子系统,纳米光刻系统
