SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
安装在显像管的荧光屏内侧的薄金属障板。上面有很多小孔或细槽,分别与同一组的荧光粉单元即像素相对应,以保证电子束穿过同一个荫罩孔后准确地击中并激发对应的荧光粉单元发光。 ...
又称“掩模板”。在基底材料上制备的透光率具有一定分布的图形结构的模版(参照的版本)或者模板(实物板)。有暗场掩模、亮场掩模、编码掩模、灰度掩模等类型。常用于激光刻蚀中覆盖、屏蔽或保留无需刻蚀的部分。 ...
简称“二次曝光(double exposure)”。将密集掩模按照一定规则分割为两个稀疏掩模,并采用这两个掩模,先后对同一光刻胶层进行两次曝光,获得比一次曝光一块掩模图形更密集的图形的技术。是一种光刻分辨率增强技术。 ...
阳光被物体遮挡不能直接照射到的部分。阴影是遥感影像解译的重要标志之一,根据阴影的位置、形状、大小可识别遮挡物体的特征。 ...
一种不采用光刻掩模的光刻工艺。例如,①带电粒子无掩模光刻:电子束直写工艺过程、离子束直写工艺过程等;②光学无掩模光刻:激光直写、干涉光刻工艺过程等。 ...
MEMS扫描镜开发套件开发套件用户能够以任意刷新率显示各种矢量图形以及多帧动画。扫描仪可以点对点矢量扫描或共振和光栅化模式操作。该系统非常适合在各种表面和各种应用中进行投影,包括在特殊涂层的透明表面上进行投影。MEMS器件的超低功耗使该系统具有高度的便携性和小型性-该套件非常轻巧,与便携式计算机一起使用时可完全移动。扫描两轴(倾斜镜)是许多行业中多种应用所需要的基本光束转向技术。Mirrorcle的MEMS反射镜技术提供了极具竞争力的解决方案,可满足其中的许多应用,因为它具有控制反射镜在两个正交轴上以任意角度或两个旋转自由度倾斜/倾斜的能力。例如,指向微镜的激光束可以在任一轴或两个轴上偏转到- ...
中近红外连续波可调谐OPO激光器超宽调谐范围1450-4000nm1~4 um,峰值处 >4 W输出功率连续波光参量振荡器 (cw-OPO) 有望同时满足所有三个要求,(1) 高光谱功率密度、(2) 宽光谱覆盖范围和 (3) 精细光谱分辨率。因为它们具有窄线宽、高输出功率,并且可以通过改变相位匹配条件来调谐数百纳米在非线性晶体 。昊量光电带来这款TITAN可在中红外范围内提供连续可调的输出波长,范围为 1435-4138 nm(6969-2416 cm)。通过单组光学器件即可实现全光谱范围,无需更换任何光学器件 得益于在变频激光器方面的独特专业知识,成就了 Titan OPO 系列的卓越 ...
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