SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
使用Moku自定义实时数字滤波器实现降噪与去尖峰在本应用笔记中,我们利用 Moku 云编译和多仪器模式来解释常用移动平均滤波器的开发。我们使用示波器和频率响应分析仪来检测有限脉冲响应(FIR)滤波器。然后,我们使用Moku:Pro、Moku:Lab或Moku:Go设备开发、部署和检测五点中值滤波器。以这种方式组合线性和非线性滤波器,可用于抑制许多控制或传感应用中的尖峰并降低噪声。Moku云编译Moku云编译(Moku Cloud Compile, MCC)是Liquid Instruments的一项功能,可让您快速编译自定义硬件描述语言(HDL)代码并将其部署到Moku设备。MCC将Moku内 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(十二)- 光学常数的提取与COMSOL Multiphysics2.3光学常数的提取2.3.1建立光学模型通过椭偏测试得到包含整个池体的参数ψ和Δ,这时要想提取CU2O的光学常数及生长速率就需要进行建模拟合。首先把整个池体看成多层膜结构,光从空气中依次经过ITO、溶液、CU2O以及Au衬底,zui后反射回到椭偏仪的出射臂,zui终信息被接收。在物理层面将池体简化为四层膜的模型,即ITO/溶液/CU2O/(Au/Si),如图2-3(a)所示。根据拟合需要可以对结构模型进行调整,如:ITO和溶液混合层/CU2O/(Au/Si)的三层膜模型,如图2-3(b)所示。 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(十一)- 工作电极的制备与椭偏仪在位监控2.1工作电极的制备实验中所用的工作电极为在Si(100)上磁控溅射100-200nm厚的Au,其制备流程如下:(1)清洗由于在生产保存与运输的过程中会使得硅片上残留无机、有机和其他灰尘颗粒污物,其对硅上的镀膜有着较大影响,故而镀膜之前需要对硅片进行清洗。清洗步骤:1.首先在丙酮中用超声清洗仪超声5-10分钟;2.然后用去离子水超声同样的时间;3.接着在酒精中超声清洗;4.zui后再用去离子水超声清洗。在完成以上步骤去除硅片表面的残留污染物后,将其置于鼓风干燥箱干燥即可。(2)磁控溅射由于金的晶格常数和硅的晶格常数存在 ...
光子源偏振纠缠验证实验1900年,普朗克为了克服经典理论解释黑体辐射规律的困难,引入了能量子概念,为量子理论奠下了基石。随后,爱因斯坦针对光电效应实验与经典理论的矛盾,提出了光量子假说,并在固体比热问题上成功地运用了能量子概念,为量子理论的发展打开了局面。1913年,玻尔在卢瑟福有核模型的基础上运用量子化概念,对氢光谱作出了满意的解释,使量子论取得了初步胜利。从1900年到1913年,可以称为量子论的早期。以后,玻尔、索末菲和其他许多物理学家为发展量子理论花了很大力气,却遇到了严重困难。要从根本上解决问题,只有待于新的思想,那就是“波粒二象性”。光的波粒二象性早在1905年和1916年就已由爱 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(十)- 研究内容和意义5.研究内容和意义如下图1-19为用于分析梯度层的光学模型。当梯度层的光响应用多层结构表示时如图1-19(a)所示,其厚度dj和介电函数都是必需的。然而,由于存在大量的分析参数,使用这种光学模型进行椭偏谱分析通常比较困难。此外,该分析中的拟合误差随着分析误差的传播逐渐向顶层增加。但是在VSA中,复杂的底层结构用伪介电函数表示,只有厚度(d)和介电函数如图1-19(b)。因此,即使样品的介电函数在生长方向上不断变化,VSA的分析也可以相对容易地进行。图1-19用于分析梯度层的光学模型:(a)多层模型和(b)虚拟衬底近似(VSA)图1-20 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(九)- 光学模型的建立与数据的提取4.3在位测试装置目前的在位椭偏仪监测电化学沉积的关键在于系统的集成。实验室的椭偏仪光源为氙灯,可以进行全谱的测试,但是这也导致单波长的光强度较弱,因此装置设计中的光路设计尤为重要,另外是光斑的大小问题,光斑大小会随着测试角度的变化而变化。另外其设计需要满足电化学薄膜沉积的需求,又要同时满足椭偏仪测试的需求。如作为电解池它需要满足容电解液充足,且可以放置好工作电极、对电极和参比电极。椭偏仪的在位装置首先要满足透光,其次是保证工作电极易于调节入射光和出射光在同一光平面,需考虑溶液的光程,原则上越小越好,这样可以减小光的衰减,更 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(八)- 溶液的影响和固液界面的影响4椭偏仪在位监测电化学沉积的挑战椭偏仪在位监测电化学沉积的挑战主要分为:溶液的影响和固液界面的影响,以及装置的设计。4.1溶液溶液对实现椭偏仪在位监测电化学沉积薄膜主要会带来两方面的影响,第1种是溶液的扰动,比如在开放的溶液体系,溶液表面的扰动可能会对光产生多种散射机制,从而给测试带来困难。另外是溶液中浓度变化所带来的影响。当光波场频率很大且溶液的浓度不太大时,光学常数折射率及消光系数有如下关系式:由朗伯定律与光强度的定义得吸收系数β与消光系数k的关系为:又由比尔定律知,当溶液浓度足够小以至于分子间相互作用能被忽略时,溶液吸 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(七)- 当前在位监测装置设计3当前在位监测装置设计3.1真空镀膜系统集成在位椭偏仪测试装置可分为两类,一类是把设计的装置直接和椭偏仪的两个臂连接,另外就是把设计好的装置放置在两臂之间,不改变椭偏仪原始的任何设计。后者设计使用更方便简洁,有利于装置的更换。如图1-12所示,是报道过的椭偏仪在位测试的装置图。图1-12(a)是M.Magnozzi等设计一个实时在位光谱椭偏测量的高真装置。该装置是基于一个圆柱型管,在其两端有两个KF100法兰(见图1-12(a),左)。底部为KF100法兰(a)作为支撑样品的支架,安装有加热器和两个双动电偶;主体(b)容纳几个焊接 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(六)- 在位监测电化学沉积2.3在位监测电化学沉积目前报道过的在位监测手段主要有电化学在位拉曼光谱法、在位傅里叶红外光谱仪法、石英晶振仪法、质谱仪法、在位椭偏仪法。电化学在位拉曼光谱法,其原理是通过介质分子对入射光发出频率的有明显变化的散射现象,用单色入射光(圆偏振光与线偏振光)来激发由电极电位控制的电极表面,然后测定出散射得到的光谱信号,如频率、强度及偏振性能变化与电极的电位或者电流强度的变化关系。在位傅里叶红外光谱仪法(FTIRS)是由Bewick等人在20世纪80年代早期首创的。在位傅里叶变换红外光谱仪可以获取电极上中性和离子吸附物的分子信息,以及参与 ...
中红外超连续介质技术摘要:超连续谱源是全光纤脉冲激光驱动系统,在超宽带光谱范围内提供高功率谱密度。通过线性和非线性过程的复杂相互作用,产生宽带、明亮和光谱平坦超连续体的定制过程zui近已进一步向更长的波长推进,并已发展到足以进入中红外(中红外)光谱学领域。在这项工作中,我们回顾了这项技术的现状和前景,该技术提供了类似激光的发射特性和与热发射器相当的瞬时宽带光谱覆盖。现代中红外超连续光谱激光源是光纤激光器的一个突出代表。中红外超连续提供瞬时超宽带光谱覆盖(超过一个八度)。超连续谱的产生过程源于强脉冲在光纤中传播过程中线性和非线性过程的复杂啮合和共同作用。根据泵浦方案、材料参数、光纤几何形状、色散 ...
多自由度梯度磁场控制系统相关应用文献(2017-2022)昊量光电新引入瑞士苏黎世联邦理工学院机器人与智能系统研究所研发的多自由度梯度磁场控制系统MFG系列。这些MFG多自由度梯度磁场控制系统能够产生各种各样的静态或时变磁场,用于研究磁场依赖现象,它们也用于开发磁性微纳米机器人以及其他微操作程序的应用。多自由度梯度磁场控制系统MFG系列产生场和场梯度,为5个自由度提供力和扭矩,非接触式驱动,用于颗粒定向和定位,粘滑或滚动运动,以及鞭毛游动。应用包括工程和流体动力学研究,局部流变学测量,微观力学生物学刺激和表征。以下2017到2022年之间描述、使用或引用这款MiniMag / nanomag ...
便携式L波段微波辐射计的设计与特性(转译自Portable L-Band Radiometer (PoLRa): Design and Characterization;Derek Houtz , Reza Naderpour and Mike Schwank)摘要:介绍了一种适用于地面遥感或无人机测绘的轻质量、小体积双偏振L波段辐射计。在ESA土壤湿度和海洋盐度(SMOS)和NASA土壤湿度上有突出的应用主被动(SMAP)卫星的L波段辐射测量可用于反演环境参数,包括土壤湿度、海水盐度、雪中液态水含量、雪密度、植被光学深度等。介绍了气隙贴片阵列天线的设计和测试,并显示可提供37°的3db全功率 ...
声光偏转器(AODF)在高速荧光成像中的关键作用:FIRE技术简介在上一篇文章中(https://www.auniontech.com/jishu-1142.html),我们学习了发表在Science上的“High-Speed Fluorescence Image-Enabled Cell Sorting”,其中通过AODF实现了一种基于高速荧光成像的细胞分选技术。而这份速度是由FIRE高速荧光成像系统带来的,即使用射频标记发射的荧光成像系统。zui初是由来自加州大学洛杉矶分校的Eric D. Diebold, Brandon W. Buckley等四位科学家于2013年发表于Nature P ...
高频激振器是如何产生50kHz频率?高频振动是指频率高于20 kHz的振动,它在各种科学和工程领域有着广泛的应用。例如,MEMS(微机电系统)是一种集成了机械、电子、光学等功能的微型器件,它们需要在高频振动的条件下进行校准和测试,以保证其性能和可靠性。另外,高频振动也可以用于模拟各种实际场景,如冲击、碰撞、震荡等,以检测物体或结构的强度和稳定性。为了满足这些高频振动应用的需求,就需要一种能够提供高力、高加速度、宽频响应的振动设备。昊量光电新推出高频振动校准和测试应用的高频激振器/模态激振器产品系列就可以满足这样的需求!高频宽带激振器DM1——专门为高频振动校准和测试的要求而设计的高频激振器DM ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(五)-Pb和Cu2O薄膜的电化学沉积2.2 Pb和Cu2O薄膜的电化学沉积实验室前期系统研究了Pb的成核生长,并用于钙钛矿太阳能电池的制备。前期的研究发现Pb在ITO基底上的生长过程属于渐进成核的岛状生长。Cu2O为半导体材料,其能隙与生长条件有关,大约在1.9-2.2eV。它具有吸收系数高、材料丰富、无毒、制造成本低等优点,在太阳能转换、电极材料、传感器和催化等领域具有广泛的应用前景。如图1-7所示,是简单的Cu2O能带模型,根据所涉及的价带和导带,可以区分四个激子序列,根据所涉及的波段,可以分为黄、绿、蓝和紫激子系列。在这个模型中,激子的波函数包括所谓的 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(四)-电化学沉积及原理2.电化学沉积电化学沉积是半导体薄膜沉积和微电子制备铜互连的重要制备方法。而在沉积过程中的成核和生长对于半导体薄膜和铜互连的性质非常重要,椭偏仪在位监测提供一种实时监控薄膜沉积的方法。但是椭偏仪在位监测受到光路设计,实验装置,固液界面以及光谱解析的影响,构建其监测系统是一个挑战。实验室前期对电化学沉积Cu2O薄膜进行了系统的研究,发现其沉积与沉积电压、溶液温度和pH值等密切相关。本文以电化学沉积Cu2O薄膜为例,从而在实验室构建椭偏仪在位监控电化学沉积系统。不同于真空薄膜生长,电化学沉积生长过程涉及到溶液层和固液界面,导致其在位监测是一 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(三)-应用案例1.3应用案例椭偏仪在位监测已经广泛应用于薄膜生长、颗粒和生物大分子的吸附等领域。下面介绍一下椭偏仪在位监测在薄膜生长和颗粒方面的案例。1.3.1薄膜生长椭偏仪对厚度的无损测量使其可实现薄膜生长的实时监控。而不同时间生长时间其薄膜的性质及厚度不同,这样需要构建不同厚度的多层膜结构,从而实现在位监控,得到薄膜生长厚度随时间的变化信息。比如F.N.Dultsev等采用椭偏仪研究了沉积在硅表面的钛基体氮化机理、Yuki Ishikawa等采用原位椭偏仪研究了离子液体薄膜的玻璃化转变行为,Meng Yuan等提出了一种简便、无损伤的在位椭圆偏振法来监测 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(二)-在位监控原理1.椭偏仪的在位监控半导体工艺比如CMOS的制作过程,会涉及到结构或者厚度的监控。例如在光刻前后,或者沉积与腐蚀过程,需要控制薄膜的厚度。而椭偏谱可以快速且无损伤进行测量,并且其测试精度可以达到原子级别,因此广泛应用于半导体制备工艺的在位监控中。比如,典型的32nmCMOS制做过程中大概会需要100次厚度的测试控制,而其中就有80次厚度测试需要利用椭偏谱对其厚度进行监控。通常要解构薄膜的厚度,会涉及到有效介质模型近似和Drude+Lorentz Oscillator模型的使用。利用椭偏仪不仅可以得到厚度信息,还可以得到薄膜的光学性质等信息, ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(一)-基本原理利用椭偏仪可以精确测量薄膜的厚度和光学常数,其测量原理基于不同偏振光(S,P)与材料的作用。如图1-1所示的单层薄膜模型中,所测的薄膜在衬底上,zui上层为空气,薄膜两侧介质都是半无限大,且薄膜上下表面皆是理想光滑表面,三种介质皆为均匀、各向同性介质。在实际测量过程中,单层模型的三种介质通常指的是空气、待测薄膜和基底。图1-1 光波在多层膜上的反射与透射光波在单层膜上的反射和透射示意图如图1-1所示。定义入射光波矢量E在垂直于入射面上的分量为P光,在入射面上的分量为S光。由折射定律及菲涅耳定律知、、的关系为:上述式子中,n1是空气的折射率(1. ...
椭偏仪与偏振相位(十一)-斯托克斯椭偏仪的偏振定标测量实验1实验装置根据上述原理建立的实验装置示意图如图1所示。将配有高精度稳压电源的溴钨灯作为入射光源,出射光束经过光纤耦合器转化为准直度小于0.3°、光斑小于5mm的准直光束,并通过定标单元被斯托克斯椭偏仪调制和接收。定标单元中起偏器的消光比大于10000:1,波片1在中心波长532.4nm处为近1/4波片,由步进电机控制两元件旋转,转动精度优于2′,由计算机控制360°自由旋转。图1 斯托克斯椭偏仪仪器矩阵测量装置示意图实验中,被测量的斯托克斯椭偏仪由两个KD*P电光晶体KD*P1和KD*P2、波片2、检偏器和光纤光谱仪组成。高压调制器以倍 ...
或 投递简历至: hr@auniontech.com