SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
吸收器投射到光电器件上,实现测量入射光目的的仪器。 ...
描述光器件或光电器件插入其传输系统的某处引起光信号功率衰减的一个参量。以插入的光器件或光电器件的输入光功率与输出光功率之比的分贝数[10lg(/Pt/Pr)]表示,单位为dB。 ...
管、存储器、光电器件、MEMS、光伏等应用中具有广泛的技术意义。在许多这些应用中,热性能是一个关键的考虑因素,促使人们努力测量这些薄膜的热导率。薄膜材料的热导率通常小于其大块材料的热导率,有时甚至非常显着。与块状单晶相比,许多薄膜含有更多的杂质,这往往会降低热导率。此外,由于声子泄漏或相关相互作用,即使是原子级完美的薄膜也有望降低热导率。使用脉冲激光是测量薄材料热导率的众多可能性之一。时域热反射率 (TDTR) 是一种可以测量材料热性能的方法。它甚至更适用于薄膜材料,与散装的相同材料相比,薄膜材料的性能差异很大。激光引起的温度升高可以写成:其中 R 是样品反射率,Q是光脉冲能量,C是单位体积的 ...
进国外优质的光电器件制造商的技术与产品,为国内客户提供优质的产品与服务。我们力争在原产厂商与客户之间搭建起沟通的桥梁与合作的平台。您可以通过我们昊量光电的官方网站www.auniontech.com了解更多的产品信息,或直接来电咨询4006-888-532 ...
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石墨烯CVD制备设备这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),石墨烯CVD制备设备可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,石墨烯CVD制备设备具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等。石墨烯CVD制备设备技术参数:1200双温区加热炉电压 AC220V 50/60 ...
滑动式二硫化钼CVD制备设备一、滑动式二硫化钼CVD制备设备概述硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下,稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度。真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。采用耐腐蚀电阻电容复合真空计(在1000Pa以上测量不受气体种类影响,耐硫蒸气腐蚀),通过调节真空蝶阀的开启程度调节炉管内压力稳定,在1200℃以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。二、滑动式二硫化钼CVD制备设备设备组成HCVD-1200S双温区管式炉,HTF400C硫粉预热器(双温区管式炉与预热器可滑动),质量流量计供气系统,机械式真空泵等组成。三、滑动式二硫化钼CVD制备 ...
小型手动探针台产品概要 MS-4系列探针台简易轻便,占有空间小且移动方便。在保证测试精度的前提下,又极具性价比,非常适合高校教学实验使用。如果测试器件的PAD点大于30μm,MS-4系列则是其中的主选设备之一。该设备能胜任各种DC直流,至67GHz的RF射频,MEMS等测试应用。应用方向广泛应用于DC直流/(IV、CV、I-t、V-t),DC直流/低电流(100fA级)测试 ,1/f噪声测试 ,器件表征测试,RF射频等基本信息产品型号MS-4工作环境开放式电力需求220V,50~60Hz操控方式手动探针台产品尺寸400mm*400mm*500mm设备重量约30KG技术规格型号MS-4MS-6 ...
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