技术是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术，因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似，区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜，其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中，并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角，并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射到基片表面，并通过控制样品台的移动实现大面积的微结构制备。设备原理图图下图所示。相对于传统的光刻设备，DMD无掩膜光刻机无需掩膜，节约了生产成本和周期并可以根据自己的需求灵活设计掩膜。相对于激光直写设备，DMD芯片上的每一个微镜都可以等效看成一束独立光源，其曝光的过程相当于多光束多点同时曝 ...
微镜和多光子光学光刻中至关重要，这两种应用都已商业化多年。多光子光学光刻已成为制造从纳米级到微米级的三维(3D)结构的成熟方法。在3D光学光刻(也称为直接激光写入或 3D 激光纳米打印)中，双光子吸收导致光引发剂跃迁率的缩放，因此曝光剂量与光强度的平方成正比。至关重要的是，这种二次非线性抑制了衍射极限激光焦点不可避免的横向和轴向拖尾，从而保证了沿所有三个空间方向的激发和后续化学反应的关键浓度。重要的是，没有额外非线性的单光子吸收不能从根本上提供这种浓度来制造任意3D 结构。为了获得有效的双光子吸收，通常使用锁模皮秒或飞秒激光源。尽管双光子光刻是一项成熟的技术，但在3D激光纳米打印中使用飞秒激光 ...
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