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SID4 标准型 波前传感器/波前分析仪
SID4-HR 高分辨率 波前传感器/波前分析仪
SID4-UHR大口径超高分辨率波前传感器/波前分析仪
SID4-UV 紫外 波前传感器/波前分析仪
SID4-UV-HR 高分辨率 紫外 波前传感器/ 波前分析仪
SID4-SWIR 短波近红外波前传感器
SID4-SWIR-HR 高分辨率 短波红外 波前传感器
SID4-NIR 近红外 波前传感器 / 波前分析仪
SID4-DWIR 中远红外 波前传感器/波前分析仪
高分辨率激光干涉仪
SID4-eSWIR 短波红外波前传感器 / 波前分析仪
、激光直写、干涉光刻技术、衍射光学元件光刻技术等。 其中DMD无掩膜光刻技术是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术,因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似,区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜,其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中,并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角,并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射到基片表面,并通过控制样品台的移动实现大面积的微结构制备。设备原理图图下图所示。相对于传统的光刻设备,DMD无掩膜光刻机无需掩膜,节约了生产成本和周期并可以根据自己的需求灵活设计掩膜。相对于激光直写设备,DMD芯 ...
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