些薄膜生长的衬底的粒度和应变。例如，衬底可以产生拉伸应变，从而导致在衬底附近形成的畴的平面内磁化。另一方面，顶端晶粒(远离衬底)的磁化方向是垂直的。晶界附近的面内磁化畴的形成会导致磁通量的循环，从而抑制静磁能。磁晶能量需要保持zui小值;因此，它倾向于使原子磁矩沿着晶体轴的一个容易的方向排列。因此，净磁化遵循一定的结晶轴，据说沿着它产生一个容易的磁化轴。铁磁体可以沿着晶体学方向不太困难地磁化。至少在晶体结构的铁磁体中是这样的。如果铁磁性材料由随机晶体取向的颗粒组成，一个简单的磁化轴仍然是可能的，然而，它将主要由材料加工决定，众所周知，它会改变磁畴结构，从而改变它们的磁化方向。被称为畴壁的过渡层 ...
所测的薄膜在衬底上，zui上层为空气，薄膜两侧介质都是半无限大，且薄膜上下表面皆是理想光滑表面，三种介质皆为均匀、各向同性介质。在实际测量过程中，单层模型的三种介质通常指的是空气、待测薄膜和基底。图1-1 光波在多层膜上的反射与透射光波在单层膜上的反射和透射示意图如图1-1所示。定义入射光波矢量E在垂直于入射面上的分量为P光，在入射面上的分量为S光。由折射定律及菲涅耳定律知、、的关系为：上述式子中，n1是空气的折射率(1.00)，n2是薄膜的折射率，n3是衬底折射率，是光在界面1的入射角，、如图1-1所示，分别是在所测薄膜、基底中的折射角。在图1-1的模型中，经过多次反射折射后，由多光干涉的公 ...
薄膜在ZnO衬底的生长。生长模型为岛状生长，因此在生长过程中，表面较为粗糙，通过模型构建可以获取薄膜表面粗糙度随时间演变和生长速率和生长模式。图1-3薄膜生长过程中表面的粗糙度随着时间的演变1.3.2监测颗粒吸附对于颗粒或者大分子层的吸附，椭偏仪可以检测到其光学常数的变化，并且利用有效介质模型提取颗粒的覆盖率信息等。椭偏仪被广泛应用于生物大分子特别是蛋白质等的吸附研究。Woo-KulLee等在2003年采用在位椭偏仪监测蛋清溶菌酶吸附动力学数据，从而建立了蛋清溶菌酶对亲水二氧化硅吸附动力学的模拟模型。如图1-4所示，Katerina Stamataki使用椭偏仪(EW-CRDE)采用740nm ...
磁体和非磁性衬底之间界面的研究表明，与铁磁性衬底的相互作用可能在衬底中诱导长程铁磁有序，而其本身并不显示铁磁有序。感应磁化强度可以与铁磁体的磁化强度平行或反平行，这取决于交换相互作用的符号。这可能会导致铁磁层的产生，即使是在其整体形式是反铁磁的材料，如观察到的，如超薄的Cr膜在Fe上。在这种情况下，衬底中的长程顺序——无论是反铁磁体还是非磁性金属——是由与铁磁性衬底的相互作用决定的，并且可以预期它会显示出同样的温度依赖性。事实上，Mn对Ni的这种感应磁序的温度依赖性被研究了，发现与衬底的相同。当然，随着反铁磁层厚度的增加，整体反铁磁态将占上风，每一层将显示自己的有序温度，接近厚层的整体有序温度 ...
线，带有气隙衬底，具有高增益和低欧姆损耗。独特的天线温度校正方案允许校正相对较宽的天线功率37°全波束宽度−3db灵敏度。该校正将天线方向图与模拟的角度相关的面亮度温度进行卷积，同时还考虑了几何性质在偏离轴视角处引入的偏振混合(参见附录[20])。PoLRa是一个研究型的辐射计系统，本文演示了它的特性。下面几节介绍辐射计硬件、特性、初步结果和结论。硬件包括辐射计、电子设备和天线。表征包括辐射计的分辨率和稳定性、校准和不确定度。初步结果包括基于无人机的天线温度测量和土壤水分检索。2.硬件以下各小节将介绍PoLRa的硬件组成，包括射频前端、后端和天线。2.1射频前端PoLRa是一种直接探测辐射计， ...
其中机器人与衬底之间可能存在间歇性和非点接触。我们使用这个模拟器来研究不同形状的微型机器人的运动，并选择很有希望执行给定任务的形状。17.S. Schuerle, A. P. Soleimany, T. Yeh, G. M. Anand, M. Häberli, H. E. Fleming, N. Mirkhani, F. Qiu, S. Hauert, X. Wang, B. J. Nelson. N. Bhatia. Synthetic and living micropropellers for convection-enhanced nanoparticle transport.Sci ...
作为工作电极衬底，从而用于监控薄膜生长过程中的薄膜厚度。石英晶振仪能给出沉积的量的多少，但是无法给出生长的模式，因此通常用于配合其他的测试方法，如椭偏仪。质谱仪法是通过用电场、磁场把运动的带电荷原子、分子和离子等粒子，按其比荷进行分离检测的方法。不同带电粒子其质荷比不同，偏转的时间也不同，质谱仪就可以将这些不同的时间、位置等信息转变成光学数据，通过质谱图呈现出来，这样混合物中的各种成分就可以被解析观察。可以用于解构在电化学过程中溶液的变化等。了解更多椭偏仪详情，请访问上海昊量光电的官方网页：https://www.auniontech.com/three-level-56.html更多详情请联 ...
可能也会存在衬底与沉积物质的电荷转移现象。这些界面效应将会给椭偏测试数据的分析与提取增加难度。了解更多椭偏仪详情，请访问上海昊量光电的官方网页：https://www.auniontech.com/three-level-56.html更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站 ...
GEM）虚拟衬底近似（VSA）解析条件介电函数是已知介电函数与厚度无关薄膜和衬底吸光难易程度容易困难中等介电函数必要非必要必要透明材料分析可以可以不可以梯度层分析困难困难可行实时控制可以不可以可以表1-1在位椭偏仪数据分析方法表1-1所示的线性回归分析(LRA)必须知道样品所有的介电函数，通过拟合得到误差的zui小值来确定光学常数和薄膜结构。当样品中有未知的介电函数时，需要进行介电函数建模，使用数值反演法可以提取样品的介电函数。图1-17是用LRA椭偏仪数据分析的流程图，可以看出椭偏仪数据提取与分析的步骤为：(1)建立适合的光学模型；(2)确定每一层的介电常数；(3)对椭偏谱谱(ψ，Δ)进行拟 ...
和(b)虚拟衬底近似(VSA)图1-20为VSA的光学模型。在这个图中,和表示计算出的伪介电函数，n表示在一定间隔内测量到的实时光谱数。VSA的关键特征是利用伪介电函数随厚度的变化进行分析，即在分析时，如图1-20所示被用作虚拟基板，从的变化中，对和之间形成的薄覆盖层进行了表征。图1-20VSA的光学模型表1-1中的方法各有各的优缺点，需要根据情况选择恰当的分析方法。例如当一层的介电函数未知时，我们使用GEM来得到该层的介电函数。由GEM确定的几个介电函数可以构造一个光学数据库。基于这样的光学数据库，我们可以利用LRA或VSA对薄膜结构进行实时控制。本文根据实验前期研究，以现有椭偏仪为基础，进 ...
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