研究活细胞，为什么转盘共聚焦经常被优先考虑？摘要上一篇我们从来源和原理出发，讲到转盘共聚焦并不只是“拍得快”，而是在速度、信号和分辨率之间，为动态生命过程寻找一种更合适的成像平衡。到了活细胞研究中，这种平衡就变得格外重要。本文将从高速成像、低光毒性、弱信号探测和快速 Z-stack四个方面，继续看看转盘共聚焦如何帮助研究者更真实、连续地记录细胞内正在发生的动态变化。关键词：转盘共聚焦；高速成像；低光毒性；弱信号探测；科学级CMOS相机一.高速成像：不漏掉细胞的瞬时动态速度是转盘共聚焦较直观的优势。与传统单点扫描共聚焦不同，它通过针孔阵列实现多点并行扫描，可在较短时间内完成整个视场采集；配合高灵 ...
镜，利用光学像散效应实现三维超定位；（c）利用 SDC 上的 DNA‑PAINT 技术对 DNA 折纸结构成像；（d）SDC–DNA-PAINT 允许低于 20 nm 的分辨率。论文链接：https://doi.org/10.1038/s41467-017-02028-8在此基础上，2025 年 Zaza 等人进一步将 DNA-PAINT 与搭载光学光子重分配系统（super-resolution by optical photon reassignment，SoRa）的转盘共聚焦显微镜结合，实现了完整细胞和组织中的超分辨成像。该系统利用微透镜阵列提高光子利用效率，在 53 × 53 μm² ...
低占空比脉冲激光如何实现稳定锁相成像？Moku:Pro + 高速锁相相机实验应用一、heliSens S4：把锁相检测从单点扩展到二维高速锁相相机将信号检测与处理集成到面阵传感器中，在像素级执行大规模并行双相解调。根据产品资料，每个像素可实时获得光信号的幅度和相位信息，并支持可达 250 kHz 的信号解调能力。heliSens S4 的核心优势在于：它不是单纯提高拍摄速度，而是将相敏检测直接做到二维成像面上。Helisecs公司提供有C4.0.S40 / C4.0.S40U / C4.0.S41U不同型号，不同性能的锁相相机。项目C4.0.S40 / C4.0.S40U / C4.0.S41 ...
高功率激光功率波动如何测？积分球方案响应速度约为热电堆的1000倍高功率激光功率测量有个绕不开的取舍：热电堆吃得下高功率，却只能给出秒级的平均值；光电二极管快得多，可过载能力只有毫瓦量级。Artifex 用集成积分球的激光功率计把这两个矛盾同时解开——这也是它逐渐应用于高功率激光测量的原因。一、热电堆给你的是一段平均值，而不是一条曲线激光功率测量的核心是检测头里的传感器，它的物理机制决定了整台仪器的特点。热电堆基于 Seebeck 效应，由许多热电偶热并联、电串联构成，探测面涂覆哑光深黑吸收材料，尽量多吸收入射功率且与波长无关。这带来一串连带问题：它的灵敏度很低——单个热电偶产生的电压太小，只 ...
石墨烯SERS检测的精度之战：你的光谱仪，真的“看”得够清吗？拉曼光谱是材料科学家的“眼睛”，通过光子与分子振动的非弹性散射，它能告诉我们碳原子的排列是否整齐、缺陷有多少、掺杂水平如何。但对于石墨烯这类二维材料，这双“眼睛”面临着严峻考验：石墨烯的本征拉曼散射截面较小，微弱的信号如同暗夜中的萤火虫，稍有不慎就会淹没在噪声里。当研究者试图在石墨烯上构建高灵敏度的表面增强拉曼光谱（Surface-enhanced Raman spectroscopy，SERS）检测基底时，这种考验对检测系统提出了更高要求——他们需要分辨I2D/IG比值从1.8骤降至0.3的细微变化，需要在强G峰旁边捕捉到几乎不可 ...
多通道锁相测量赋能低温纳米量热：SynkTek MCL1-540实现比热与X射线衍射同步表征随着新型超导、磁热、拓扑和强关联材料研究不断深入，实验样品正在变得越来越小。对于只有数十至数百微米尺寸的单晶，传统量热设备的平台附加热容可能远大于样品本身，使微弱的相变热学信号难以分辨。膜基纳米量热技术采用低热容悬空薄膜承载样品，可对微克级材料进行交流稳态量热。实验中，交流加热器向样品施加周期性热功率，样品温度随之产生微小振荡。研究人员需要同时测量加热信号、温度振荡幅值以及二者之间的相位差，才能计算量热单元的热容和热导。一、多通道同步测量需求这类实验是一套典型的多通道同步测试系统，需要完成以下任务：为交 ...
SmartPrint UV无掩模光刻机-科研半导体光刻应用中的研发“加速器”和工艺“探索器”！一．当光刻不再需要掩模版科研及半导体实验室里有一个常见说法：成本压力不仅来自光刻胶和硬盘，也来自每改一次设计就得重新制作的掩模版。一张标准掩模版动辄千元，周期两三周，当研发节奏越来越快，这种“每改一笔就得等半个月”的模式已经成为创新的主要限制因素。Smart Print UV 是昊量光电推出的一款基于 DMD（Digital Micro-mirror Device，数字微镜器件）投影技术的无掩模光刻系统。它用一块 DMD 芯片替代传统硬掩模，直接把 CAD 设计投影到光刻胶上——想写什么就写什么，从设 ...
光子晶体光纤宽光谱衰减的高精度测量研究摘要：本研究采用Bentham DTMC300三光栅双单色仪，结合截断法对光子晶体光纤（300–2700 nm）与空芯光子晶体光纤（2000–4000 nm）的光谱衰减进行了系统测量。通过全自动光栅控制、电动狭缝调节与探测器选择，实现了300–5000 nm范围内恒定带宽的高稳定性测量。系统中红外波段采用低温冷却InSb探测器，即使在低信号条件下仍保持高信噪比，从而实现了对两类光纤衰减特性的精确表征，为中红外光纤设计与应用提供了可靠的实验依据。在采用 Bentham DTMC300 三光栅双单色仪，配备电动狭缝和光纤连接器输入，通过截断法测量 PCF (3 ...
案例分享|"鬼光谱"突破高光谱取舍：PPKTP量子成像方案高光谱成像一直有个让人头疼的矛盾：想要光谱分辨率，就得牺牲空间分辨率，或者反之。而在量子成像领域，基于纠缠光子对“鬼成像”已展现出突破传统光学探测边界的潜力。而当量子关联从空间维度延伸至光谱 — 时间维度，高光谱成像也迎来了新的技术路线。近期，来自加拿大guo家研究委员会的研究团队提出一种量子关联高光谱成像技术（QCHSI）。该方案利用PPKTP晶体通过自发参量下转换（SPDC）产生高质量纠缠光子对，将量子鬼成像的关联测量思想与快照式高光谱成像结合，在不显著牺牲空间分辨率的前提下，实现了单光子级、高效率的快照高光谱成 ...
激光生成锡等离子体在 EUV 光刻中的多诊断特性研究一. 引言13.5 纳米波长的极紫外（EUV）光刻技术是半导体制造“亚 7 纳米”工艺节点核心技术，激光产生的锡（Sn）等离子体是主要光子源。从深紫外向 EUV 波段过渡催生了对更优 EUV 光子源的需求。EUV 光源开发关键挑战是zui大化光谱纯度和转换效率。优化需精确控制等离子体参数，这些参数决定 EUV 发射率和光学深度。zui终 EUV 输出还取决于不透明度，控制锡离子电荷态分布对光谱纯度至关重要，精确测量这些参数对验证辐射流体力学代码也很重要。本文介绍了“SparkLight”实验平台，用1064nm Nd:YAG激光器照射镀锡导线 ...
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