术在材料学和半导体的应用随着计算机的发展,椭偏成像技术由于自身的 优势与特点,结合其他测量方法,能获得更为丰富的信息,在材料科学、生物学、半导体工业等领域得到广泛的应用。在材料学方面,椭偏成像主要应用于对纳米薄膜的研究。例如,成像椭偏仪的横向分辨率达到1μm,光学特性映射到石墨烯薄片上之后,椭偏成像技术就可以用来从任何衬底上确定石墨烯薄膜的形状和层数,从中提取其光学性质从而分析不同衬底对石墨烯性质的影响。下图为成像椭偏仪获得的石墨烯薄片灰度图和光学显微镜获得的石墨烯薄片的对比。成像椭偏仪获得的石墨烯薄片灰度图和光学显微镜获得的石墨烯薄片的对比。(a)不同层数的石墨烯片的光学显微照 片,数字代表 ...
、生物医学、半导体工业、集成电路等领域的材料性能表征提供了极大便利。如果您对椭偏仪有兴趣,请访问上海昊量光电的官方网页:https://www.auniontech.com/three-level-56.html相关文献:《几何光学 像差 光学设计》(第三版)——李晓彤 岑兆丰更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集 ...
光模式在通过半导体传播时经历了不同的相移,这导致入射线偏振光的偏振面旋转。图2.4.2 K时n↑= 1.5·1017 cm−3和n↓= 0.5·1017 cm−3的Kerr旋转谱图2为根据图1的吸收系数计算得到的克尔旋转光谱期望值。克尔旋转仅在砷化镓带隙附近是非零的。此外,在频谱的中间存在一个符号反转。这表明正确的光子能量的选择对GaAs中pMOKE测量起着至关重要的作用。实验发现,不同样品的克尔旋转光谱略有不同。因此,在n-GaAs样品上进行pMOKE测量的第1步是优化探针激光束的光子能量。zui重要的是,对于一个固定的光子能量,克尔旋转角θK与GaAs导带的自旋积累µs成正比,只要电子自旋 ...
二维电子系统中砷化镓的磁光克尔效应除了本体砷化镓的自旋注入实验外,二维电子系统的自旋注入实验进行光学测量并不像在大块GaAs样品上进行pMOKE测量那么简单,因为2DEG对称性的降低可能会严重影响光学选择规则,从而影响pMOKE的强度。事实上,研究表明,在狭窄(约10 nm宽)的GaAs/(Al,Ga)As量子阱(QW)系统中,约束势迫使价带中重空穴态的轨道角动量和自旋角动量向垂直于QW平面的面外方向运动。此外,约束提升了Γ-point处重空穴态和轻空穴态的简并性,将轻空穴带移至较低能量处(见图1)。考虑到这两个因素,只有面外极化重空穴才能促进与导电带电子的复合过程。这对磁光过程有重大影响。在 ...
物、氧化物和半导体(可见光和红外波段的Si,GaAs)等;如果您对椭偏仪相关产品有兴趣,请访问上海昊量光电的官方网页:https://www.auniontech.com/three-level-56.html更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站www.auniontec ...
气、硅化物和半导体等材料中的载流子吸收等情况:其中εp是等离子共振频率,γ为碰撞频率;8.洛仑兹振子模型洛仑兹认为:物质分子是由一定数量的重原子核和外围电子构成的复杂带电系统,固体的介电函数可以用一定数量的Lroentz振子的和近似表示,称为简谐振子近似。其形式如下上式中A为振幅,与载流子密度、电荷、质量有关,E0为振子的共振能量,G为振子的展宽系数,与振子的阻力有关。简谐振子模型适合用于晶态半导体材料,当材料的特征不是很清楚的情况下,选用简谐振子模型(即洛伦兹振子模型)是比较好的选择;9.Forouhi-Bloomer模型Forouhi和Bloomer针对的是非晶态半导体,通过量子力学处理结 ...
。例如金属和半导体接触,以及肖特基的研究。(4)电化学 离子吸附、阳极氧化、钝化、腐蚀及电抛光等电化学过程,可以现场深入地研究电极-电解液界面过程。(5)微电子领域在微电子领域中,研究薄膜生长过程,薄膜厚度,半导体的表面状况以及不同材料的界面情况,离子的注入损伤分布等;一些高技术材料的研究及其它新领域:高温超导材料、低维材料、导电聚合物以及光电子学、声光学和集成光学、激光技术等领域,椭偏术还用来研究固体的辐射损伤。如果您对椭偏仪相关产品有兴趣,请访问上海昊量光电的官方网页:https://www.auniontech.com/three-level-56.html更多详情请联系昊量光电/欢迎直 ...
谱型椭偏仪是半导体和微电子领域使用zui广泛的薄膜厚度测量仪器。为了保证光谱型椭偏仪测量结果的准确可靠,通常会使用薄膜厚度已知的膜厚标准样片对椭偏仪的薄膜厚度测量能力进行校准。一般情况下膜厚标准样片的衬底材料为硅,薄膜材料为热氧化生长的二氧化硅。由光谱型椭偏仪测量原理可知:椭偏仪在测量薄膜厚度时,得到的直接测量量为椭偏角(和),薄膜厚度量值是通过建立相应测量模型进行椭偏角拟合得到的。因此,椭偏角的测量准确度体现了光谱型椭偏仪的硬件性能,薄膜厚度的测量准确度体现了光谱型椭偏仪硬件和测量模型的综合性能。测量模型是椭偏仪的核心技术,出于技术保护,各椭偏仪生产厂家都有自己的测量模型,这就导致使用不同厂 ...
展为了实现对半导体集成电路表面的定量分析与测量,人们首次将显微成像扫描与椭偏测量技术相结合,这种方法是将入射光束聚焦到一个微小的点上,然后前后扫描样品,依次覆盖整个表面。由该方法研发出的显微成像扫描椭偏仪采用机械扫描,具有测量速度慢的问题,应用范围较小。直到 1988 年,新西兰维多利亚大学的 Beaglehole提出的椭偏成像技术摆脱了显微扫描成像的局限,使用CCD相机采集椭偏图像,将成像技术与椭偏技术相结合,研发出成像椭偏仪,该椭偏仪可以观测油滴在云母基地上的扩散过程,极大提高了测量效率。20 世纪 90 年代,基于椭偏测量技术的椭偏光学显微成像发展开来。1996年,中科院靳刚教授与瑞典林 ...
椭偏成像技术(二)- 从单波长椭偏成像到光谱椭偏成像2001 年日本激光与电子实验室开发了一种彩色椭偏成像系统,利用白光源和一个三色滤光片产生三种波长的单色光,能够在纳米尺度上快速得到样品的厚度和折射率的分布情况,横向分辨率可 以达到10μm。该系统采用彩色CCD摄像机,将来自样品表面的反射光的每个偏振转换为强度分布,该强度分布是膜厚度和折射率的函数;并且将强度 分布显示为颜色分布,当样品的折射率均匀时,样品的厚度变化就可以快速表现为颜色的差异。该系统虽然利用不同滤光片产生三种波长的单色光,可以进行三波长测量,但是无法得到样品的宽光谱信息。2004 年,法国的 Boher 等设计出一种光谱椭偏 ...
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