案例分享|PPLN在频率片编码的纠缠量子密钥分发中的应用简介：我们以前分享过《基于time-bin量子比特的高速率多路纠缠源——PPLN晶体应用》，探讨了PPLN在时间片QKD中的应用。时间-能量纠缠虽是PPLN基础的产生形式，但也可以通过“加工”获得各种纠缠自由度。近期德国汉诺威莱布尼茨大学的Michael Kues及其研究团队在国际权威期刊《Light: Science & Applications》发表了一项突破性研究，题为“Frequency-bin-encoded entanglement-based quantum key distribution in a reconfi ...
拉曼过渡金属-氧化物-半导体（CMOS）工艺改进中的应用引言：二维过渡金属化合物（TMDs）由于其未优异的物理性能和特殊原子层厚度引起的广大研究者的兴趣。与只可以有限尺寸样品的机械剥离法相比，化学气相沉积（CVD）使大面积研究TMDs材料成为可能，并对晶圆级器件应用成为可能。CVD生长的TMDs必须具有高结晶度、均匀性、低缺陷和残留物的特性，以便实际应用。为了通过CVD实现大面积、高度均匀的TMD单层，通常使用含有碱元素如氯化钠、氢氧化钠和氢氧化钾作为促进剂。这些促进剂有效地降低了金属前驱体的熔点，促进了单层薄片的成核和生长。然而，碱元素如Na和K作为离子污染物，在二氧化硅等绝缘层中，会作为移 ...
iO2/Si衬底上的WSe2/MoS2 FET的假彩色显微镜图像。(b)和(c)的WSe2和二硫化钼在o2等离子体蚀刻前后的拉曼光谱比较（90 s）。(d)在o2等离子体蚀刻前后（15、60和120 s）和之后，在SiO2/Si衬底上的WSe2薄片的表面形态和电位映射图像。(e)和(f)从(d)中的映射数据中提取的CPD的变化，用一条同时跨越WSe2和二氧化硅表面的红线表示，以及WSe2的平均CPD作为蚀刻时间的函数。本文先依次制备WSe2、MoS2、WSe2/MoS2，并形成一个部分重叠的异质结构，之后同各国电子束光刻技术形成多个金属电极并沉积，然后利用等离子体将阴离子在二维材料和异质结构上 ...
案例分享| PPLN驱动的宽带量子合成器：实现超快压缩光脉冲源的关键突破量子技术是英国和加拿大工业战略的重要组成部分，有望彻底改变数字shi界，扩展当前成像设备的能力，并利用量子计算解决复杂计算难题以促进新药研发。宽带量子合成器(Broadband Quantum Synthesizer, BQS) 便是其中之一，旨在推进超快量子光学的前沿，其目的是开发第1个超宽带压缩光脉冲封装源，这是对下一代传感、通信和成像量子技术至关重要的工具。核心目标BQS 计划的核心是开发持续时间低于100fs的压缩光脉冲，理想情况下低于40fs，实现 >3dB 的量子噪声降低。这些“压缩”光态是纠缠的光场，其 ...
瑞士光学黑马 Optotune，液态镜头颠覆工业成像在传统光学系统中，聚焦通常依赖于机械结构推动透镜移动来实现，这种方式不仅响应速度慢，还存在诸多限制：对焦依赖于物体距离、电机系统导致整体结构庞大复杂、维护和校准成本高昂，以及机械磨损带来的寿命问题。而 Optotune凭借自主研发的可调焦液体透镜技术，彻底打破了这些瓶颈。无需机械移动，即可实现快速、精准的焦点调节，为各种需要高速对焦的应用场景带来了颠覆性解决方案。与传统光学方案相比，Optotune的液体透镜不仅彻底省去了机械移动结构，更在性能上实现了跨越式提升：• 聚焦速度可达毫秒级，满足高速动态场景需求；• 结构紧凑坚固，适应各种复杂环境 ...
看“透”工业，还得OCT！——OCT技术在工业领域的创新应用探索光学相干层析技术（Optical Coherence Tomography,OCT）是一种三维成像技术，可以在散射介质中进行高分辨率成像，成像深度达毫米级，分辨率达到微米级，可以像CT一样透视透明/半透明以及高散射产品的表面信息及内部结构，类似“光学切片”的效果。该技术被大众熟知是在眼科领域的应用，近年来也逐步被引入到工业领域。OCT技术演进史OCT发展至今，可大致分为两代：第1代：时域OCT(Time Domain OCT,TD-OCT)；第二代：傅里叶域OCT(Fourier Domain OCT,FD-OCT)。TD-OCT ...
。A)由Si衬底支撑的PEA/SiNx/ ico -1膜结构图。B)浮动PEA膜在不同延迟时间下的瞬态ΔR∕R光谱。C) PEA/SiNx/ICO-1on Si相对于MIR （3.33 μm）的锁相电压。图2。具有介电涂层的薄膜结构可以实现小于10 pW/μm²的灵敏度。A)介质涂层降低了PEA激子共振附近的反射率。B)计算了厚度为0 ~ 300 nm的SiNx覆盖的PEA薄膜的反射光谱。C)颜色编码的地图显示了基于波长和SiNx厚度的反射率变化。D)方案说明了结构和测量方案。E)比较了有SiNx覆盖和没有SiNx覆盖的PEA的反射光谱，差异显著。F)zui后，测量了结构的锁相电压与MIR功率 ...
能力和与柔性衬底[2]的兼容性而具有前景。为了确定钙钛矿的精确吸收特性，可以采用光致发光光谱等实验技术。这些技术可以提供有关材料的吸收光谱、带隙能量、缺陷和陷阱状态、载流子动力学、激子性质和环境影响[4]的详细信息。通过光致发光光谱，可以获得激子的能带能、激子结合能、材料纯度和激子寿命、发射效率和猝灭效应等信息。在这个实验装置中，我们的超连续光纤激光器（Iceblink）作为激发源。激光束通过反射镜指向其余的光学元件。二色镜将激发光与发射的光致发光信号分开。利用抛物面镜将激发光聚焦到样品上，确保佳的激发强度。该样品为钙钛矿薄膜或晶体，吸收激发光并发出具有光学特性的光致发光信号。发射的光致发光信 ...
X射线荧光光谱技术在涂层厚度分析中的应用在现代工业生产中，产品质量的管理是企业竞争力的重要体现，而涂层厚度的精确测量是保证产品性能和耐久性的关键环节。涂层厚度分析仪作为一种优的检测工具，利用X射线荧光光谱（XRF）技术，实现了对镀层、膜厚和涂层的无损检测，广泛应用于各类行业。本文将深入探讨涂层厚度分析仪的工作原理、应用领域、相关专li（申请号202211107941.6）、科研成果、实验数据，并结合实际分析图片，为读者呈现一个全面、深入的技术解析。一、工作原理与技术基础X射线荧光光谱技术是一种基于物质发射特征X射线的分析技术。当样品受到X射线照射时，其内部原子会发生激发并返回基态，释放出具有特 ...
Moku:Delta在半导体测试中的应用一.简介在数字化浪潮席卷全qiu的今天，信息技术的迭代速度日益加快。其中，半导体技术作为信息产业的“基石”，支撑着从智能手机到超级计算机的所有电子设备；半导体测试是保障半导体产业高质量发展的核心环节，我公司推出的Moku:Delta是一款高度集成的测试测量仪器，凭借其模块化设计与软件定义硬件的架构，能够灵活适配半导体测试中的复杂场景。当然，在量子信息科学研究中，它提供了超高精度的信号采集与处理能力，支持从微波到光频段的多领域实验需求。本文重点讲解Moku:Delta通过与AI算法的深度融合，实现了智能化数据分析与实时反馈控制，大幅提升测试效率与准确性。二 ...
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