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以取代而展开光刻成像，借助DMD对光源展开反射式调制，把涉及的虚拟数字掩膜移至硅晶圆基片，进而进行曝光。DMD无掩模光刻系统本质上是一种高精度加工平台，如下图所示，主要包括投影光源部分、DMD光调制部分、投影物镜和光可调平台部分。图2：法国Microlight3D公司DMD无掩模光刻系统结构图3、DMD无掩模光刻相比传统光刻有什么优点？借助DMD无掩模光刻成像的效率是传统光刻无法比拟的，其光刻成像过程完全受计算机控制，因而便于更改数字虚拟掩膜，并且DMD的成本较低，可以循环使用，极大的简化了传统光刻的流程，也大大降低了光刻加工的成本。4、Smartprint UV无掩模光刻系统有什么优势？Sm ...
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