会产生明显的色差问题。直到 2013 年，电子科技大学物理电子学院和中科院微电子所改变聚焦成像系统，研制了基于全反射聚焦光学系统的深紫外（DUV）宽带光谱椭偏仪。该椭偏仪采用基于离轴抛物面镜和平面反射镜的全反射式光学系统实现宽光谱（200-1000 nm）测量，离轴抛物面镜用于产生或聚焦准直 光束，平面反射镜用于改变光束方向并补偿由离轴抛物面镜反射引起的偏振态变化，解决了色差问题。2016 年，合肥工业大学和中国科学院微电子所在深紫外宽带光谱仪的基础上增加快速旋转补偿器式的椭偏结构，该结构实现了宽光谱成像，将光谱范围拓宽到深紫外波段，横向分辨率约为8. 77μm×4. 92μm，并减小了系统误 ...
出的光经过消色差透镜和单色仪会聚至光纤，通过光纤的光经过准直透镜变为一束平行光，该光束经过起偏器和旋转补偿器后入射样品，样品的反射光经过旋转补偿器、检偏器和成像透镜后进入CMOS相机。相机上各像素接收的光束对应的Stokes向量可以表示为式中：Mp、MA、、和MS分别为起偏器、检偏器、旋转补偿器和样品的Muller矩阵；和表示旋转补偿器1和2的相位延迟量；R(ε)为各光学元件的旋转矩阵，其中ε可以表示入射面与双旋转补偿器的快轴方向的夹角 C1、C2，也可以表示入射面和起偏器、检偏器的透光轴方向的夹角P和A；Sin为入射光束的Stokes向量，为[1000]T。将上式展开，可得对应像素采集的光强 ...
类型。一、消色差物镜这是应用zui广泛的一类物镜，一般只要对轴上点校正好色差和球差，并使之满足正弦条件而达到对近轴点消彗差即可，因此只能用于中低档的普及型显微镜中作一般观察之用。下面几种典型的消色差物镜，由于其结构型式有利于带球差的校正，仍为人们所广泛采用。1）单组双胶合低倍物镜 见图下图1，这是可能实现上述像差要求的zui简单结构，能承担的zui大相对孔径为1:3，因此数值孔径只能达0.1~0.15，相应的倍率为3~6倍。图12）里斯特型中倍物镜 如下图2所示，由二组双胶合镜组组成。它能达到的数值孔径为单组的二倍，即0.2~0.3，相应的倍率为8~20倍。它是更复杂的其他型式物镜的基础。图2 ...
上，由于中心色差就会使透射率减少，石英玻璃的这种现象已经得到改善；氟化锂则表现出轻微的潮解特性。对于紫外波段使用的光学元件，减轻重量会利于光刻工艺。对于用KrF准分子激光器(波长248nm)、 ArF准分子激光器(波长193nm)和F?准分子激光器(波长157nm)作光源的，一般选用卤化物晶体作为谐振 腔窗口材料，由于折射系数均匀性和变形相关的问题而使用石英玻璃来减轻镜头重量。由于色差校正无法 用一种玻璃材料进行，所以提出了几种方案，包括一个具有标准具、棱镜衍射光栅和光学反射镜组合系统的高频窄带准分子激光器。3.滤光片滤光片是光路中的重要组件之一，主要用来实现提取、增强、减弱特定光线或图像以达 ...
)，并且以消色差方式运行。非常好的光学性能（均匀性 > 95%）可实现均匀照明，从而激活分子。此外，FFI 设置可实现无边界拼接成像，图像重叠zui小 (5%)。定量荧光成像的平场照明 项目介绍：高斯轮廓的不均匀光照使得基于激光的宽视场荧光显微镜的定量分析具有很高的挑战性。许多因素，包括光源和照明光学有助于均匀性。当需要几百微米或毫米尺度的大视场时，这些特性尤其困难。获得一个图像网格，使边界重叠，并在后处理中将图像拼接在一起。如果光照不均匀，zui终拼接的图像在每个单独的图像周围都有暗淡的边界。因此，细胞和组织样本的测量是不可靠的。非均匀光照的另一个缺点是分子的不均匀激活。那些zui靠近 ...
布置(以消除色差):使用焦距750 mm的金色球面镜。使用合适的带通光谱滤波器限制光谱范围(中心波长为4µm或2500 cm- 1500 nm带宽，Thorlabs FB4000-500)。使用固定在20厘米扫描台上的辐射热计阵列(FLIR玻色子，640x480 px)记录不同位置的光束轮廓;根据ISO标准11146，扫描范围涵盖必要的瑞利距离。图2上图2。通过M2表征(4µm中心波长，500 nm带宽)获得的中红外超连续谱束在不同位置的分布:(a-c)靠近焦点位置(a,b为特意像散光束的长、次轴);(d)在准直器后直接测量的超连续谱激光源的实际出射光束(归一化，辐射热计未进行现场校正)。超连 ...
512)，消色差，震动不敏感等特点。半导体技术在现代社会中扮演着越来越重要的角色。随着半导体器件尺寸的减小和集成度的提高，对检测技术的要求也越来越高。紫外波前传感器作为一种高精度的光学检测手段，在半导体检测领域发挥了越来越重要的作用，应用范围也越来越广泛。工作原理：昊量光电推出的紫外波前分析仪基于四波剪切干涉的原理。四波剪切干涉技术克服了传统哈特曼传感器的局限性，可以直接检测汇聚的激光，同时获得相位时需要的像素点大大减少，从而具有高分辨率、高灵敏度和宽动态范围，消色差等优势。AUT-SID4-UV-HR紫外波前分析仪由高分辨率的相机和二维衍射光栅构成，激光通过光栅后，待检测的激光波前分成四束， ...
真，场曲率;色差-波前色差，横向和轴向色差等。2. 通过物镜、针孔单元和D7干涉仪的精确线性运动来测试视场。3. 检测精度如下表所示：3.畸变校正1. DifroMetric软件导出/导入数据传输为标准光学设计软件(ODS)。2. 物镜的测量像差可用泽尼克条纹系数表示。3. 实测像差系数CFZM可与设计系数CFZD进行数据比较，DifroMetric和光学设计软件之间可交互作用。4. 比较的结果有助于选择参数包括-气隙，或其他参数，这对于在装配过程中对待测件位置的调整有重要作用。4.D7系统的优点1. 测试介观物镜不需要参考镜。2. 测试介观物镜可在全光谱范围VIS + NIR下进行。3. D ...
nm波段，消色差，具有2nm RMS的相位检测灵敏度，能够精确测量紫外光波前的细微变化。SID4-UV-HR 紫外波前分析仪非常适合紫外光学元件表征（DUV光刻、半导体等领域）和表面检测（透镜和晶圆等）。193nm 紫外波前传感器（512x512 高相位分辨率）在半导体/光刻机行业中具有重要作用。该传感器具有高分辨率，消色差，对震动不敏感，高灵敏度（2nm RMS）等特点，可以为半导体制造和光刻机技术提供关键波像差数据，有助于提高生产效率和产品质量，推动行业的发展。在光刻机行业中，高精度的波前传感器是关键组件之一。它可以实时监测和校正光刻机光学系统中的误差，从而提高光刻质量和成品率。这款新的紫 ...
束的能力和消色差而脱颖而出。该技术于2004年由Phasics在市场上推出，现在因其性能和易于集成而获得国际认可。图2SID4波前传感器图3 棋盘格网栅三、190-400nm紫外波前传感器四、400-1100nm可见光-近红外波前传感器五、900-1700nm短波红外波前传感器六、3-5 µm＆8-14 µm中红外波前传感器关于生产商：PHASICS成立于2003年，提供光学计量和成像解决方案，从独立的SID4波前传感器到全自动测试台、Kaleo MTF、MultiWAVE，以及全模块化计量解决方案Kaleo Kit。这一系列波前测量系统和定量相位成像解决方案基于创新的高分辨率波前传感技术。P ...
或 投递简历至: hr@auniontech.com
