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时间门控拉曼：破解荧光干扰，重塑生物制药表征新范式生物制药表征的 “荧光困境”：曾让精准分析望而却步在生物制药研发与质控中，拉曼光谱的优势早已深入人心 —— 极高的分子特异性无需复杂样品预处理，无损非接触的测量模式适配生物溶液与高含水量体系，灵活的采样配置更能无缝对接自动化流程。但行业内共识明确：荧光发射是拉曼光谱技术面临的主要挑战，这一痛点长期制约着技术落地。许多小分子药物、生物分子本身具有极强的荧光背景，传统连续波拉曼光谱技术下，荧光信号会完全掩盖微弱的拉曼信号，导致这类关键分子的拉曼光谱 “无法测量”；更棘手的是，细胞外囊泡（EVs）等生物标志物的来源区分，也因荧光干扰陷入 “无谱可依” ...

利用波长可调量子级联激光器对痕量化学物质表面进行高速和大面积扫描如图1所示，波长可调的MIR激光器照亮感兴趣的目标，反射光被相机捕获。随着激光波长的调整，相机同步捕捉反射光的图像。对原始超立方体进行处理以校正背景热辐射和照明激光束的强度模式，以生成代表目标表面反射率的超立方体。然后对反射超立方体进行分析，并与光谱特征参考库进行比较，以生成检测图，该检测图可以识别目标表面上的任何化学污染并绘制空间图。如图所示，也可以检测到可能存在于光束路径中的气体的存在。图1图2外腔量子级联激光器(ec - qcl)用于对目标的照明。这些都是基于Block Engineering的Mini-QCL™，如图2所示 ...

PCBA上的涂层厚度测量在pcb制造过程中，通常采用保形保护涂层来保护电路。根据规格要求涂不同的涂层。涂层范围从简单的水溶性防尘涂层(通常< 20μm)到专门的疏水涂层(<1 μm)。MProbe 40可以直接在PCBA上测量涂层厚度，以避免使用测试片的成本和不准确性。测量可以在PCBA的不同区域进行，包括SMT元件表面，以验证涂层的均匀性和厚度。测量通常使用40 μm或20 μm的可见或可见-近红外范围(400-1000 nm)的测点进行。实例1 测量PCB表面的水溶性涂层图1 涂覆PCB的反射光谱图2 PCB测量区图3 测量结果:18.4µm涂层和0.6µm界面层图4 PCB上 ...

东南大学利用Moku:Pro跟踪MEMS应用谐振频率并稳定输出信号幅值简介与挑战微机电系统（MEMS）利用硅的电学和机械特性，将机械结构和电子结构集成在一起，用于检测加速度、旋转、角速度等。MEMS设备的核心组件包括一个垂直悬挂于设备运动方向的质量块，在其框架内驱动方向上共振。通过测量框架在感应方向上的运动，可以检测到由旋转运动引起的科里奥利加速度。图1：一个质量块悬挂在可水平移动的中心框上。通过测量框架的运动，可以感知科里奥利力的大小和方向。MEMS器件之间通常存在差异，这会给其特性测量和精确旋转测量带来挑战。对这些设备进行表征和内部测量需要多种仪器来完成。例如，使用频率响应分析仪检测共振、 ...

任意波形发生器在电光调制器、量子光学和脉冲激光二极管中的应用概要现在，光学、光子学和激光技术应用越来越流行。新一代的科学家们正在汽车、医疗、航空航天、国防、量子和激光传感器等领域开辟新天地。这些领域的应用挑战不断增加。昊量光电的任意波形和函数发生器帮助工程师应对这些挑战，生成各种类型的脉冲、信号和调制，满足不同应用的需求。以下是一些AWG应用的示例：产生高振幅和高速脉冲来直接驱动电光调制器；产生不同类型的信号和脉冲以推动量子光学的研究；产生脉冲来驱动脉冲激光二极管。1. 电光调制器集成光波导能够像光纤一样引导光沿特定路径传播。该波导由一个折射率高于周围材料的通道组成。图1：集成光波导光通过通道 ...

薄膜铌酸锂电场传感器（本文译自Thin film lithium niobate electric fieldsensors（Seyfollah Toroghi ,Payam Rabieia)）1介绍电光电场(E-field)传感器在许多应用中都需要，例如天线近场表征，太赫兹信号检测，加速器中的带电粒子束表征，电网监测，和射频消融手术。电光方法是测量电场的zui佳方法之一，电场会导致电光晶体的折射率变化。然后可以用精确的测量设备检测到这种变化。由于电光材料是一种介电材料，它不会干扰或散射电磁场。此外，由于光纤电缆用于传输信号，任何附加的布线都不会吸收噪音，因此，探头可以在非常嘈杂的环境中使用， ...

薄膜铌酸锂电光太赫兹传感器本文译自Thin‑film lithium niobate electro‑optic terahertz wave detector（Ingrid Wilke, Jackson Monahan, Seyfollah Toroghi, Payam Rabiei & George Hine )）亚皮秒太赫兹频率电磁辐射脉冲的自由空间电光采样对于时域太赫兹波谱学、时域太赫兹成像、光子时间拉伸测量、近场太赫兹波显微镜和时域太赫兹量子光学具有重要意义。测量方式需要0.1-10THz带宽的电光检测方案，太赫兹波谱和成像的检测阈值为~ 1V/cm，加速器和非线性太赫兹波谱 ...

光刻胶厚度测量应用本文旨在通过烘焙样品和两个部分烘焙的光刻胶样品来阐明测量过程。光刻胶测量使用500nm-1000nm 波长范围进行，以尽量减少吸收的影响。步骤 1. 确定光刻胶的光学常数许多光刻胶已在材料库中定义。在这种情况下无需执行任何操作光刻胶规格表包含有关色散参数的信息。它们以柯西系数的形式列出——这3个系数可以确定材料在不同光波长下的折射率(R.I.)。可以创建新的柯西材料并指定特定光刻胶的柯西系数如果光致抗蚀剂的柯西系数不可用–使用类似光致抗蚀剂的柯西系数作为起点。步骤 2：创建胶片堆栈Filmstack 代表物理样本的模型- 它定义了基材和材料层。如果3000nm 的光刻胶沉积在 ...

BLOCK的MEMS迈克尔逊干涉仪经过三年的实验和详细分析，Block MEMS确定了微型迈克尔逊FTIR传统结构中的重大成本挑战，并得出结论，只有通过迈克尔逊核心的整体结构，而无需外部手工或校准，才能合理地实现具有成本效益的检测设备。迈克尔逊干涉仪是一种复杂的机械装置，对其元件之间的光学关系有严格的限制。目前，很少有方法能够以可重复和可靠的方式实现所需的干涉公差，其中包括光刻。首先考虑的是光谱分辨率要求。在红外和拉曼光谱方面的丰富经验以及有毒物质的检测算法使得在STP环境下对这些相对较重的分子进行实际的工程选择。在迈克尔逊干涉仪中，随着运动镜的运动范围增大，分辨率也随之提高。考虑到所需的光谱 ...

高分辨率微型FTIR光谱仪由大型线性行程MEMS弹出式反射镜实现1．光学质量为了在中远红外光谱区域达到所需的反射率，静止和移动的镜子都需要涂上大量的金属，特别是金(Au)。过去，在氢氟酸(HF)中释放之前和之后，确定了典型晶圆级镜面金属化的两个主要技术挑战:(1)由于与必要的粘附促进剂相关的额外残余应力，镜面曲率大幅增加;(2)电子电偶腐蚀，在HF水中，金和多晶硅之间的电极电位差导致多晶硅镜面优先腐蚀，从而产生显著的结构不稳定和晶粒结构扩大。图1为了应对这些挑战，ChemPen™开发了一种可替代的释放后金属化技术，该技术消除了高压粘附层的使用，进一步为电子电偶腐蚀提供了基本解决方案。使用定制的 ...