拉曼在利用等离子体修饰改性二维材料中的应用引言：随着三维（3D）硅基互补金属氧化物半导体（CMOS）技术接近通道长度的小型化限制，二维半导体如过渡金属二卤化合物（TMDs，如二硫化钼和WSe2）、金属单硫化合物（MMC，如 InSe和GeSe）、元素半导体（如硅、锗和磷）和金属氧化物（MO，如氧化铜和氧化亚锡）被认为是下一代节能纳米电子的前途性通道材料。与此同时，随着越来越多的二维材料被发现，这些丰富多样的层状材料家族具有与硅相当或优越的电子特性，如晶格常数、带隙、有效质量、载流子迁移率、饱和速度和临界电场。由于这些优点，基于二维半导体的新型场效应晶体管（FETs）概念已经被提出和证明。以zu ...
“鬼光谱”突破高光谱取舍：PPKTP量子成像方案高光谱成像一直有个让人头疼的矛盾：想要光谱分辨率，就得牺牲空间分辨率，或者反之。而在量子成像领域，基于纠缠光子对“鬼成像”已展现出突破传统光学探测边界的潜力。而当量子关联从空间维度延伸至光谱 — 时间维度，高光谱成像也迎来了新的技术路线。近期，来自加拿大guo家研究委员会的研究团队提出一种量子关联高光谱成像技术（QCHSI）。该方案利用PPKTP晶体通过自发参量下转换（SPDC）产生高质量纠缠光子对，将量子鬼成像的关联测量思想与快照式高光谱成像结合，在不显著牺牲空间分辨率的前提下，实现了单光子级、高效率的快照高光谱成像。高光谱成像的传统瓶颈高光谱 ...
案例分享| PPLN驱动的宽带量子合成器：实现超快压缩光脉冲源的关键突破量子技术是英国和加拿大工业战略的重要组成部分，有望彻底改变数字shi界，扩展当前成像设备的能力，并利用量子计算解决复杂计算难题以促进新药研发。宽带量子合成器(Broadband Quantum Synthesizer, BQS) 便是其中之一，旨在推进超快量子光学的前沿，其目的是开发第1个超宽带压缩光脉冲封装源，这是对下一代传感、通信和成像量子技术至关重要的工具。核心目标BQS 计划的核心是开发持续时间低于100fs的压缩光脉冲，理想情况下低于40fs，实现 >3dB 的量子噪声降低。这些“压缩”光态是纠缠的光场，其 ...
瑞士光学黑马 Optotune，液态镜头颠覆工业成像在传统光学系统中，聚焦通常依赖于机械结构推动透镜移动来实现，这种方式不仅响应速度慢，还存在诸多限制：对焦依赖于物体距离、电机系统导致整体结构庞大复杂、维护和校准成本高昂，以及机械磨损带来的寿命问题。而 Optotune凭借自主研发的可调焦液体透镜技术，彻底打破了这些瓶颈。无需机械移动，即可实现快速、精准的焦点调节，为各种需要高速对焦的应用场景带来了颠覆性解决方案。与传统光学方案相比，Optotune的液体透镜不仅彻底省去了机械移动结构，更在性能上实现了跨越式提升：• 聚焦速度可达毫秒级，满足高速动态场景需求；• 结构紧凑坚固，适应各种复杂环境 ...
德国马普高分子研究所使用Moku:Pro实现基于NV色心的磁场测量量子信息科学研究面临的zui大困难之一是量子比特系统固有的不稳定性。量子叠加态本质上是脆弱的，因为来自局部环境的任何干扰，包括热激发、机械振动或杂散电磁场，都可能对量子态的相干性产生有害影响。这些噪声环境下的量子比特往往会产生更高的错误率，而主动纠错对于任何可能实现的大规模量子计算机来说都是一个严格的要求。相比之下，量子信息科学的另一个分支领域，量子传感，旨在将这一障碍转化为优势。由于量子比特对环境参数极为敏感，这也使其具备实现高灵敏度传感器的潜力。尽管像离子阱和中性原子这样的原子系统在电磁场测量、重力测量和加速度传感等领域展现 ...
《精准量子比特控制和读取》白皮书在上篇客户案例中，我们分享了德国马普高分子研究所团队如何利用 NV 色心构建高灵敏度的磁力计，案例展示了量子比特相干稳定性在实验中的关键作用。要进一步加深理解量子比特的基本与控制方法，我们推荐您阅读新发布的白皮书《量子系统与量子比特控制》，欢迎联系昊量光电索取完整版。文章首先介绍了以二能级系统为基础的量子比特模型，说明了如何用哈密顿量和时间演化来描述其物理特性。在此基础上，白皮书引入 Bloch 球这一几何化工具，使研究者能够更直观地理解量子态的相干演化过程，以及驱动场如何在旋转参考系中对量子比特实现精确控制。白皮书第二步部分重点讨论了几类用于表征和操控量子比特 ...
看“透”工业，还得OCT！——OCT技术在工业领域的创新应用探索光学相干层析技术（Optical Coherence Tomography,OCT）是一种三维成像技术，可以在散射介质中进行高分辨率成像，成像深度达毫米级，分辨率达到微米级，可以像CT一样透视透明/半透明以及高散射产品的表面信息及内部结构，类似“光学切片”的效果。该技术被大众熟知是在眼科领域的应用，近年来也逐步被引入到工业领域。OCT技术演进史OCT发展至今，可大致分为两代：第1代：时域OCT(Time Domain OCT,TD-OCT)；第二代：傅里叶域OCT(Fourier Domain OCT,FD-OCT)。TD-OCT ...
2109nm体布拉格光栅（Volume Bragg Grating, VBG）在半导体光刻中的应用引言：本文介绍了 2109nm 体布拉格光栅（VBG）在半导体光刻中的应用。首先介绍了 VBG 的基本原理、功能特点。重点讲述了RBG 光栅在激光波长基准源（Wavelength Reference）和光路热稳定性监测中、光刻系统滤波等方面的应用，深入分析了 2109nm VBG 在半导体光刻过程中所起的关键作用。讨论了其在提高光刻分辨率、改善光刻精度等方面的优势。同时，还列举了目前市场上主要的VBG厂商（品牌），比对了不同品牌VBG产品的优劣势，以及当前应用中面临的挑战和未来发展趋势。体布拉格光 ...
科研效率大提升！AutoRAM-C 全自动高精度共焦拉曼系统来啦做材料科学、半导体或能源研究的科研人们，是不是还在为拉曼测试效率低、数据重复性差、操作复杂而头疼？别担心，一款能解决这些难题的 “科研利器”——昊量AutoRAM-C 系列全自动高精度共焦拉曼系统，重磅登场！振镜技术：微秒级响应，刷新扫描速度天花板传统拉曼扫描依赖机械载物台移动样本，不仅速度慢，还容易因振动影响数据精度。而 昊量AutoRAM-C 系列搭载的振镜技术，彻底改变了这一局面！它采用响应速度极快的电流计式反射镜，能在微秒级时间内改变激光束方向，实现无接触、无振动扫描，精度更是达到亚微米级别。更重要的是，振镜扫描是昊量SM ...
X射线荧光光谱技术在涂层厚度分析中的应用在现代工业生产中，产品质量的管理是企业竞争力的重要体现，而涂层厚度的精确测量是保证产品性能和耐久性的关键环节。涂层厚度分析仪作为一种优的检测工具，利用X射线荧光光谱（XRF）技术，实现了对镀层、膜厚和涂层的无损检测，广泛应用于各类行业。本文将深入探讨涂层厚度分析仪的工作原理、应用领域、相关专li（申请号202211107941.6）、科研成果、实验数据，并结合实际分析图片，为读者呈现一个全面、深入的技术解析。一、工作原理与技术基础X射线荧光光谱技术是一种基于物质发射特征X射线的分析技术。当样品受到X射线照射时，其内部原子会发生激发并返回基态，释放出具有特 ...
或 投递简历至: hr@auniontech.com
