硅波导上使用锗的蛋白质聚集体的中红外吸收光谱电磁波谱2 ~ 25µm光谱范围对应的MIR区域与分子振动能重合。当MIR光通过样品时，分子间键通过吸收与基态和激发态之差相同的能量而被激发到更高的振动态。这使得在该区域使用指纹吸收光谱检测未知分析物以检测特定键。傅里叶变换红外光谱(FTIR)通常用于生物化学物质的分析，以确定分析信息。但是，由于MIR中吸水性强，通常不能使用长度超过10-20µm的比皿，较窄的比皿容易被真实样品堵塞。利用衰减全反射(ATR)光谱与FTIR相结合的方法克服了这一问题。然而，传统ATR元件中的离散反射次数受到严重限制，而使用光波导(本质上是更薄的ATR元件)大大增加了单 ...
OCT在无损检测中的应用举例光学断层扫描成像（OCT）利用红外光提供表面轮廓和次表面结构及均匀性的信息，提供比超声波检测更高的分辨率和更快的图像速度。该新型无损检测（NDT）技术无需接触或耦合介质，能够实时提供精确的信息，用于现场过程反馈和成品的高通量质量控制。光学断层扫描成像（OCT）在无损检测中的主要优势为：高分辨率：2.6-10.0 µm视频速率采集：每秒30张图像成像深度：高达5.8 mm非接触和非侵入性无需耦合介质3D成像和尺寸分析光学断层扫描成像（OCT）可检测的典型 材料所有介电材料涂料、玻璃、薄膜、涂层聚合物、硅胶、橡胶塑料（较浅深度，约2 mm）金属（仅表面特征）OCT在无损 ...
方阻（电涡流检测）在半导体行业中的应用1. 原理介绍1.1 电磁感应定律的工程应用涡流测试基于法拉第电磁感应定律的精确数学表达：在导体内部，电场强度与电流密度关系为：该方程的解给出趋肤深度公式：薄层近似理论当满足条件（t为膜厚）时，可建立方阻与阻抗的直接关联：其中：：空载线圈阻抗( K(k) )：第1类完全椭圆积分( k )：线圈几何参数比1.2 使用涡流测试进行质量保证涡流测试方法利用局部电导率变化来表征质量特性，例如厚度、片材电阻、材料均匀性或研究样品中的其他物理变化。复杂的涡流信号包含有关测试材料的各种信息，在许多情况下可以用简单或复杂的算法进行分离。应用的强大涡流电子设备提供从 10 ...
相位偏折测量系统：解锁复杂光学元件的纳米级检测在精密光学制造领域，复杂自由曲面的高精度测量一直是技术挑战的核心。它的难点主要体现在3个方面。➽复杂曲面、离轴结构、半透元件……传统设备“测不全”，形变盲区成良率隐患；➽纳米级起伏即可引发光路偏移，但多数系统分辨率止步于百纳米量级；➽依赖恒温避振环境，工业现场振动、温漂直接“劝退”高精度检测。如今，昊量光电推出的相位偏折术/相位偏折测量系统（Phase-MeasuringDeflectometry,PDM），以纳米级精度（RMS 10-15 nm）解决了复杂光学元件（如自由曲面、离轴非球面）的检测难题。相较传统检测设备，其成本更低、操作更简便（3分 ...
布拉格陷波滤光片（BNF）赋能超低波数拉曼测量(<10cm-1)在材料科学、生物医药和纳米技术等领域，低波数拉曼光谱（<10 cm⁻¹）是揭示物质超低频振动模式的关键工具。然而，传统拉曼系统的测量能力受限于瑞利散射光的干扰和滤光片带宽限制。布拉格陷波滤光片（BragGrate™ Notch Filter,简称BNF）通过革命性的光学设计，将低波数拉曼测量推向了全新高度，成为科研与工业检测的“利器”。为什么选择布拉格陷波滤光片（BNF） ?1、布拉格陷波滤光片（BNF）的核心技术优势：a)超窄带宽与高精度抑制布拉格陷波滤光片（BNF）基于体布拉格光栅技术，采用光敏硅酸盐玻璃（PTR） ...
为高功率CO₂激光器应用选择合适的调制器——AOM VS EOM在快速发展的微电子制造领域，对过孔钻孔的更高生产效率和精度的需求从未如此之大。这转化为市场对更复杂制造工具的需求，例如高精度声光调制器（AOM）和电光调制器（EOM）。在这两种类别之间的选择完全取决于应用以及对您系统而言关键的性能参数。Gooch & Housego（下文中简称G&H）是AOM和EOM解决方案的供应商，确保客户能为他们的高功率CO₂激光器应用选择z佳技术，无论是使用EOM进行强力切割和钻孔，还是使用AOM进行高速、精密钻孔。了解过孔钻孔过孔钻孔是印刷电路板（PCB）制造中的一个关键工艺，通过在板上创 ...
光纤传感器-组件及其制造摘要：在本文中，我们对当今用于检测物理参数的干涉测量传感器的特性和局限性进行了详尽的研究，指出了这种新兴技术的主要优点和应用，并提出了一种制造干涉测量光纤传感器的新技术。Lopez Dieguez博士描述了光纤传感器的主要组成部分：1.宽带光源，不仅可以覆盖可见光范围，而且可以覆盖近红外范围。这种特性有多种选择，如SLD、led或超连续光谱激光器。2.无源元件，如用于制备光纤的接头。3.绝缘体可以消除可能发生的反向反射。4.环行器以顺时针方向将信号导向特定的光纤。5.偏振控制器。6.波分复用器将两束不同波长的光束组合在一起。7.光纤耦合器将光束分成两个光路。8.探测器必 ...
拉曼在利用等离子体修饰改性二维材料中的应用引言：随着三维（3D）硅基互补金属氧化物半导体（CMOS）技术接近通道长度的小型化限制，二维半导体如过渡金属二卤化合物（TMDs，如二硫化钼和WSe2）、金属单硫化合物（MMC，如 InSe和GeSe）、元素半导体（如硅、锗和磷）和金属氧化物（MO，如氧化铜和氧化亚锡）被认为是下一代节能纳米电子的前途性通道材料。与此同时，随着越来越多的二维材料被发现，这些丰富多样的层状材料家族具有与硅相当或优越的电子特性，如晶格常数、带隙、有效质量、载流子迁移率、饱和速度和临界电场。由于这些优点，基于二维半导体的新型场效应晶体管（FETs）概念已经被提出和证明。以zu ...
看“透”工业，还得OCT！——OCT技术在工业领域的创新应用探索光学相干层析技术（Optical Coherence Tomography,OCT）是一种三维成像技术，可以在散射介质中进行高分辨率成像，成像深度达毫米级，分辨率达到微米级，可以像CT一样透视透明/半透明以及高散射产品的表面信息及内部结构，类似“光学切片”的效果。该技术被大众熟知是在眼科领域的应用，近年来也逐步被引入到工业领域。OCT技术演进史OCT发展至今，可大致分为两代：第1代：时域OCT(Time Domain OCT,TD-OCT)；第二代：傅里叶域OCT(Fourier Domain OCT,FD-OCT)。TD-OCT ...
2109nm体布拉格光栅（Volume Bragg Grating, VBG）在半导体光刻中的应用引言：本文介绍了 2109nm 体布拉格光栅（VBG）在半导体光刻中的应用。首先介绍了 VBG 的基本原理、功能特点。重点讲述了RBG 光栅在激光波长基准源（Wavelength Reference）和光路热稳定性监测中、光刻系统滤波等方面的应用，深入分析了 2109nm VBG 在半导体光刻过程中所起的关键作用。讨论了其在提高光刻分辨率、改善光刻精度等方面的优势。同时，还列举了目前市场上主要的VBG厂商（品牌），比对了不同品牌VBG产品的优劣势，以及当前应用中面临的挑战和未来发展趋势。体布拉格光 ...
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