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)。图 1 显示了环形光分布的直径(d),它取决于距离(l),并随着距离(l)的增加而增大。因此,光环宽度约为入射光束直径的一半。锥透镜的各种环形光束应用锥透镜主要用于光束整形和各种激光应用领域。其特殊用途还包括产生非衍射贝塞尔样光束。这里需要注意的是一个强度分布几乎恒定的区域,其长度由锥透镜的角度和直径决定。贝塞尔光束是非衍射光束,非常适合应用于医学、研究、测量技术和调整。具体而言,它们可用于光学镊子和薄片荧光显微镜。结合其他锥透镜或透镜,可产生各种光束轮廓,如准直环形光束和可变焦点环形光束。与激光扩束器、透镜或第二个锥透镜相结合的光学效果如下所示。1,将两个角度相同的锥透镜组合在一起,就能 ...
记录)。图中显示了两条叠加的示波器轨迹,其中485nm的强度通过RS232串行命令从100%调整到55%,而560nm的强度保持不变。485nm和560nm的脉冲时间间隔为0.25ms。图5.模拟光电二极管(APD)检测来自一台5光源的AURA光引擎(Lumencor, Inc., Beaverton OR)发出的5ms光脉冲。图中展示了10个脉冲序列,代表了每次数据采集中记录的150个连续脉冲。计算了150个脉冲序列中每个脉冲的积分光输出。对于555/28 nm输出,150个脉冲的方差系数(CV)在555/28 nm脉冲串中为0.23%,在635/22 nm脉冲序列中为0.20%。其他三个源 ...
旋取向图1b显示了在初级导带中具有两个可激发自旋态的半导体系统的稳态极化PL中可以观察到的三种机制的简单图。在没有磁场的情况下,线偏振光(σo)可以激发载流子种群。当这个种群松弛时,每个载流子都有相同的机会落在任意一个自旋状态,因为这些状态在能量上是简并的。这导致没有净自旋不平衡(无Polz),并表现为等量的圆极化发射(σ+(−))。当施加磁场时,由于塞曼效应,自旋能级被分裂,导致自旋能级在能量上分离(塞曼)。当这种情况发生时,更多的载流子将放松到能量较低的自旋态。这就产生了相反螺旋度的发射PL之间的强度差异。然而,这两个都不是自旋的取向是由偏振光和自旋的耦合驱动的。如果在没有磁场存在的情况下 ...
(b,d)中显示吸收系数k值随着时间的变化,与反射率R的趋势一致。在所测波长范围内的k值在沉积过程都有所降低,特别是在长波500-800nm的范围内zui为明显。当沉积时间为180s的时候,k的值大约从4.3降到1.5,在波长为300-500nm之间存在两个波包(330nm,400nm)。当沉积时间增加到360s时,在短波300-500nm的波包变得较明显(330nm,380nm),整体的k值都有所增加。当沉积时间增加到540s时,k的值大小恢复到沉积180s时,但是在500-800nm范围出现两个波包(510nm,670nm)。到720s的时候,在500-800nm范围只有一个大的波包,并且 ...
(b、f)中显示椭偏参数Delta值随着时间的变化与椭偏参数Psi的趋势一致。在长波500-800nm的范围内得到的不同时间的Delta值从Au衬底所对应120°减小到70°附近。当沉积时间增加到540s、900s、1080s时,约在540nm处出现较明显的峰位。Delta值同样显示出测试基底表面发生了改变。图4-5(c、g)是吸收系数α随不同沉积时将随波长的变化,和0s相比,整体上变化趋势相似,但是在数值及吸收波包上存在变化。在300-500nm波段不同沉积时间变化趋势及数值比较接近,且都在大约330nm处出现新的吸收波包。在500-800nm波段,540s、900s、1080s都在500- ...
个预热时间内显示了平均输出功率的漂移,导致了更强的变化(不包括这个时间跨度,相对波动低于0.15%)。图1所示。商业系统中红外超连续谱源的长期稳定性表现为(a)功率稳定性(Novae超连续谱发射器,8小时)和(b) Allan方差(NKT光子学,65小时)。为了从积分性能方面评估长期稳定性(即接近平均的极限),区分潜在的噪声源和强度波动类型,可以采用另一种测量方法。在光谱测量中,检测极限是积分时间加上仪器的长期稳定性的函数(例如,记录平均过程的平均值,例如使用脉冲平均或干涉图平均)。因此,可以使用艾伦方差的概念,其本质上是数据簇平均的双样本方差作为簇大小的函数,该概念首先被Werle用于光谱学 ...
cm的视场上显示硅器件的EL图像,捕捉到器件上的微小不均匀性,如图1、图2所示。这些不均匀性可能会影响器件的性能和效率,因此通过这些图像进行分析和评估对于改进太阳能电池的设计和制造至关重要。利用这些技术,研究人员和工程师可以迅速识别并解决潜在的问题,以确保生产出高效且可靠的太阳能电池。图1、1040 nm的高光谱数据中提取的硅器件的电致发光图。图2、1140 nm的高光谱数据中提取的硅器件的电致发光图。在美国guo家标准与技术研究院(NIST)的Behrang Hamadani博士[2]的论文中,使用了GRAND-EOS进行绝对EL测量,以研究太阳能电池的外部辐射发射率。这项研究旨在通过对太阳 ...
Moku 时间间隔与频率分析仪介绍及典型应用案例演示时间间隔与频率分析仪是Moku设备上集成的第14个仪器功能,具备了时间间隔分析仪、事件计数器和频率分析仪等多种测量功能。其时间测量精度达到皮秒级(优于20ps RMS)及亚皮秒的数字分辨率且存在无死区时间。广泛应用于量子光学、航空航天、生物成像及等需要精确时间测量领域的应用。时间间隔与频率分析仪如何捕捉事件、间隔和测量值Moku基于FPGA 技术结合高速的 ADC/DAC 的硬件平台开发时间间隔与频率分析仪,zui高测量频率到150MHz,可以用于精确测量事件之间的时间间隔。这些事件通常是时变电压信号或脉冲,当输入电压达到给定阈值时,仪器就开 ...
号。实验结果显示,该系统能够在复杂的干扰环境下准确地成像和测距,即使在有意的欺骗攻击和背景LiDAR系统的干扰下也能保持高精度和高信噪比。并且还通过更具体的测试场景如模拟多个LiDAR系统并行工作和环境光干扰,来验证量子LiDAR系统证明了其在实际应用中的可行性和优越性。实验和分析结果如下图所示:这些实验不仅验证了量子LiDAR在技术上的前瞻性,也为未来其它应用领域提供了重要的参考价值。量子LiDAR技术通过利用量子纠缠光子对的独特性质,显著提升了LiDAR系统在复杂环境中的性能。特别是在高干扰的环境中,如多LiDAR系统操作或强烈背景光的情况下提高对目标物甄别的能力。该实验中所应用的SPAD ...
形式在图像上显示,从而得到既包含空间分布又含有环境特性信息的成像结果。FLIM技术因其提供的是与荧光强度无关的寿命信息,因此在研究分子相互作用、细胞内pH变化、离子浓度等方面具有独特的优势。二、扫描式荧光寿命成像技术的应用扫描式荧光寿命成像技术(FLIM)的应用在生物学研究领域日益增长,尤其在探索细胞微环境、组织特性鉴定及分析活细胞、组织和生物体的新陈代谢和线粒体功能障碍方面具有独特价值。FLIM提供的信息不仅限于荧光强度,还包括荧光寿命,这是一种反映荧光分子激发状态持续时间的重要参数。由于荧光寿命信息与荧光分子的浓度无关,它可以用于功能成像,进一步研究分子功能、相互作用及其环境FLIM技术在 ...
塑料研究领域显示出巨大的应用潜力。随着塑料使用量的持续增长,微塑料的环境污染问题日益严重。传统的微塑料检测方法往往耗时且效率不高。FLIM技术提供了一种高效的解决方案,能够通过分析微塑料的荧光寿命来快速识别和分类这些污染物。FLIM技术的核心在于使用荧光寿命作为区分不同物质的依据。荧光寿命是指材料被激光激发后,发出荧光持续的时间。在FLIM设备中,一个特定波长的激光被用来激发微塑料样本。样本吸收激光能量后发出荧光,荧光的衰减过程被高速SPAD探测器捕捉,通过分析这些荧光衰减的时间特性,可以区分出不同种类的塑料。这一技术的关键优势在于其非侵入性和高时间分辨率,能够在不破坏样品的情况下进行快速识别 ...
S光谱清楚地显示了大量元素的存在,即Si、Ti、Al、Fe、K、Mg、Ca、Cd、Co、Cr、Mn、P、Sn、Sr、V、W、Na、Pb、Cu等。图3[3]土壤样品在200 ~ 350nm区域的光谱显示重金属谱线LIBS技术通过采集待测样品的光谱指纹,分析其元素组成;you秀的分析方法,离不开you秀的激光器设备,昊量光电推出调Q纳秒激光器适用但不局限于激光诱导击穿光谱(LIBS)技术。下面对纳秒激光器产品进行详细的介绍:1.Q1激光器Q1激光器,其中主要特点为重复频率可调0-10/20/50Hz,激光在10Hz脉冲重复率下可产生高达40mJ的脉冲能量,在50 Hz脉冲重复频率下可产生高达10 ...
图中的等值线显示锥形光纤收集到的zui大光子数。比例尺,500µm。e, NA-0.66 锥形光纤在pbs -荧光素溶液中的光子收集的等距线(顶部色条,每个像素的光子数;停留时间,3.2µs);等值线在10、20、50和100光子处绘制。比例尺,500µm。f,上,远场成像系统示意图。L1、L2、L3,成像镜;BPF,带通滤波器;NBF,近红外阻断滤波器;sCOMS,科学互补金属氧化物半导体。底部,纤维输出小关节的远场图像显示,当光源沿着锥形光纤移动时,直径增加的环。比例尺,0.3 2π/λ。g, 锥形光纤在距离锥尖d处采集的点状光源荧光的横向矢量分量kt。a-d的实验重复了至少10次,得到了 ...
下发现的映射显示出均匀的空间行为(未示出),我们在这里观察到轻微的空间变化。在接触点和样品边缘附近的映射显示zui小值,在(1.167±0.010eV)之间的映射显示zui大值。zui大值和zui小值的差值在系统误差范围内,但可以在7±2meV下相对评估。尽管发现了轻微的空间变化,但我们注意到与同时测量的1.15V开路电压很吻合,验证了接触处Δµeff/q≈V的假设。这种空间变化可以用电接触下的暗区或细胞边缘的重组引起的侧移来解释。在 IPVF 开发的光谱和光度绝对校准程序的帮助下,可以确定样品表面每个点在每个波长上发射的光子的绝对数量。这一独特功能使研究人员能够直接从聚光图像中获得细胞的准费 ...
表征;背景中显示了完整记录的三维光束演化(伪颜色),以供参考(径向不对称是由于用于避免过饱和的球面镜造成的);对子午面进行分析(输入光束轮廓为高斯分布)。在大多数应用情况下,能够很好地表征和量化激光束质量的一个实用参数是M2因子。它本质上表明了实际光束与理论衍射限制光束(衍射限制高斯光束的M2因子为1)的差异有多大。光束质量因子具有明确的实际意义,例如,任何采用映射方法的高光谱无像差显微镜的分辨率都可以通过将理论衍射限制分辨率与所利用光源的M2因子相乘来估计。确定M2因子的程序由ISO标准11146定义。它涉及到光束焦散的测量(在一个瑞利距离内至少五个光束位置[ ZR ]和距离腰部超过两个瑞利 ...
和i-t图所显示的结果相对应。图3-13不同电解液沉积结果图,(a)1M醋酸钠电解液;(b)1M醋酸钠加5mM醋酸铅;(c)1M醋酸钠加10mM醋酸铅在不同的沉积条件下同时进行了椭偏仪的监测。图3-14为不同条件下的椭偏结构模型,其中Au/Si基底上测得的数据,其物理模型如图3-14(a)所示;在池体中加入去离子水后的数据,其物理模型如图3-14(b)所示;1M醋酸钠溶液和5/10mM醋酸铅溶液的数据,其物理模型如图3-14(c)所示;1M醋酸钠溶液的数据,其物理模型如图3-14(d)所示。图3-14不同条件下的物理模型图:(a)Au/Si基底;(b)池体中加入去离子水;(c)池体中加入1M醋 ...
。以下三张图显示了典型金属多层体系的畴图像和磁化过程,证明了这一事实。所有图像都是在纵向克尔效应下获得的,使用标准显微镜设置,即设置分析器和补偿器以获得良好的对比度,而不考虑层选择性。在图1中,对13 nm金属材料覆盖的自旋阀层堆栈的散列钴膜的磁化过程进行了成像。尽管有覆盖层,铁磁薄膜中的畴仍然清晰可见。另一层铁磁性的NiFe/Co双分子层在较低的深度被光传输,对克尔信号的贡献更强。然而,在施加磁场时,它的强度几乎降低了两个数量级,因此在显示图像的过程中是饱和的。图1.克尔显微镜上的旋转阀曲径的GMR传感器应用。如图所示,层堆栈由“自由”铁磁双层组成,该双层由来自另一“钉住”铁磁层的非磁性夹层 ...
量表示。图b显示了从顶部的透视图,以说明两束光离开偏振分束器的正交偏振方向。c平面内和平面外磁化分量与k矢量方向的关系对比。反射光被同一个物镜收集,并通过一个可旋转的四分之一波片来补偿椭圆度,zui后进入汤姆逊偏振分光器。为了zui大限度地提高灵敏度,分离器设置在45◦的入射(未干扰)偏振。分路器提供两束正交偏振方向的光束(图1b),击中一对象限光电二极管。每一对相对的象限分别沿着样本的x轴和y轴的投影对齐。两束是相等的强度为未受干扰的45◦偏振的情况下,而任何样品诱导的偏振旋转导致相等但相反的强度(45◦是zui敏感的角度对小的偏振变化)。通过适当地组合八个光电二极管象限的输出,可以同时检测 ...
b)中的插图显示了显微镜的衍射面。在这里,可以查看和调整光圈,以满足极性克尔效应(居中的虹膜光圈)或纵向和横向效应(位移的狭缝光圈)的要求。消光交叉的方向取决于偏振器设置,由(P)表示,分析器(A)和zui终补偿器被调整为zui大消光。图像形成路径分别显示在(c)中。光学显微镜的横向分辨率是由物镜的数值孔径和光的波长决定的。根据瑞利判据,可以分辨的两个物体之间的zui小距离为其中λ为光的波长,N A = n0sinα为数值孔径,α为物镜开孔角的一半(即物镜接受的试样锥光角的一半),n0为物镜与物镜之间介质的折射率(空气为n0= 1;浸没油N0≈1.5)。α和n值越高,物镜收集的衍射光阶数越多, ...
后,差值图像显示了区域图案的显微图,可以通过平均和数字对比度增强来改善,而不受地形对比度的影响。通常需要在不同方面研究相同的域,例如在Kerr和voight对比度条件下或使用不同的分析器和补偿器设置以获得深度选择性。这可以通过组合实验来实现:在创建了特定域模式的正则差分图像之后,在不同对比度条件下存储相同模式的图像作为参考图像,然后从相同对比度条件下获得的饱和状态图像中减去该图像。这样就得到了两幅具有相同域图案但对比度不同的图像。对于层选择成像来说,组合技术是必不可少的。图1.实验设置宽视场克尔显微镜。图像处理和函数生成器通常在计算机中实现。平面内任意方向的磁场可以由一个可旋转的电磁铁施加。样 ...
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