SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
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芯片科普——DMD光刻机你知道一个芯片是怎样设计出来的么?你又知道设计出来的芯片是怎么生产出来的么?看完这篇文章你就有大概的了解。一、复杂繁琐的芯片设计流程芯片制造的过程就如同用乐高积木盖房子一样,先有要有白色底板作为地基:这些白色的底板部分在芯片制作中对应着的东西称之为晶圆。再层层往上盖一些其它积木,就可以搭出我们心中的乐高( IC芯片)。可以类比乐高玩具的制作,我们首先想到的是乐高玩具的建模软件,和零件制作模具。因此,IC芯片的设计者、也会有一些软件辅助规划,也有相关的专门技术负责制作芯片的零件。然而,工程师们在设计一颗 IC 芯片时,究竟有那些步骤?设计流程可以简单分成如下。现在知名的芯 ...
Microlight3D是一家生产用于工业和科学应用的高分辨率微尺度2D和3D打印系统的专业制造商。智能UV打印(SP-UV)系统,是该公司新产品。这是一种配有一个385 nm的紫外LED光源,基于DMD(Digital Micromirror Device)的全新无掩模光刻系统,因此SP-UV可以兼容所有标准的微电子光刻胶,包括微流体应用中不可或缺的i-line光阻剂SU-8。这一特点为半导体加工领域的开发人员,在光刻胶材料的选择上提供了更加广阔的空间。DMD无掩膜光刻机SP-UV的优势之一是对DMD光学投影技术的应用。这一技术在提高直写精度和速度的同时,提供了四种不同的直写分辨率。搭配Mi ...
光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上,然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。其中光刻系统被称为光刻机,带有图形的石英板称为掩膜,光敏记录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。具体光刻流程如下图所示 光刻技术是集成电路制造、印刷电路板制造以及微机电元件制造等微纳加工领域的核心技术之一。进入21世纪以来,随着电子信息产业的高速发展,集成电路的需求出现了井喷式的增长。使的对掩膜的需求急剧增加,目前制作掩膜的主要技术是电子束直写,但该制作效率非常低下,并且成本也不容小觑,在这种背景下人们把目光转移到了无掩膜光刻技术。 备受关注的无掩膜光刻技术大概可以分为两类 ...
为什么Microlight3D双光子聚合激光直写技术能实现67nm超高分辨率3D打印?Microlight3D是一家生产用于工业和科学应用的高分辨率微尺度2D和3D打印系统的专业制造商。MicroFAB-3D光刻机是该公司于2019年推出的第一台紧凑台式双光子聚合系统,一经推出便得到客户的广泛好评。 MicroFAB-3D基于双光子聚合激光直写技术,可在各种光敏材料上制造出蕞小尺寸可达67nm的二维和三维特征结构,兼容各种聚合物,包括生物兼容性材料、医用树脂和生物材料,为微流控、微光学、细胞培养、微机器人或人造材料领域开辟了新的前景。双光子聚合激光直写,也称双光子3D打印,基于“双光子吸收效应 ...
喜报!昊量光电喜获法国Microlight3D DMD无掩模光刻机独家代理。上海昊量光电设备有限公司自2023年1月1日正式成为Microlight3D公司SMART PRINT UV系列DMD无掩光刻系统的中国区独家代理商,此次获得Microlight3D的授权,体现了Microlight3D对上海昊量光电设备有限公司市场销售的专业度及售后技术支持力量的高度认可。我们将一如既往的为国内广大用户提供更为优质的服务。Microlight3D成立于2016年,在格勒诺布尔阿尔卑斯大学(Université Grenoble Alpes,UGA)进行了长达15年的3D微型打印技术研发。格勒诺布尔阿尔 ...
慕尼黑上海光博会将于2024年3月20-22日在上海新国际博览中心(上海市浦东新区龙阳路2345号)举办,届时我们将携前沿光电产品及技术解决方案在W4馆4420亮相,展品涵盖生物显微、半导体检测、激光医疗、光纤传感、精密光谱、机器视觉、偏振测量、光束匀化、光束偏转等热门应用领域,本次慕尼黑上海光博会除了前沿技术产品亮相,还有超赞的干货演讲等活动,欢迎大家提前扫码预约哦↓诚邀各位新老客户拨冗莅临展位洽谈交流!W4馆4420· 主题演讲日程预览 ·· 展位活动详情 ·· 展品应用速递 ·PPLN晶体,显微镜LED光源,LED点光源,MEMS扫描镜,AOTF,AOM,调温式热封机VTS,混频器,隔震 ...
昊量光电参加第24届中国国际光电博览会 (CIOE 2023)——展位号 4号馆 4B182+185第24届中国国际光电博览会将于2023年9月6日-9月8日在深圳国际会展中心举办,此次上海昊量光电设备有限公司将为您集中展示高能量纳秒激光器、266nm单纵模连续激光器、飞秒激光器、TDTR、3Ω、Neta、LIV测试系统&功率计积分球、应力测量仪、大尺寸偏振元件(偏振片波片)、光栅、多波长激光干涉仪、FDD空间光调制器、DMD空间光调制器、CBG/RBG、特种光纤/锥形光纤、红外相机、匀化光纤、光纤束、光子晶体光纤、傅里叶红外光谱仪、六轴位移台、拉曼光谱模组、Moku、DMD无掩膜光刻 ...
高功率多波段UV-LED点光源---光波导传输,光固化等应用昊量光电新推出用于紫外光固化工艺的模块化光谱组合的高功率多波段UV-LED点光源。模块化理念,基于UV-LED技术、VIS-LED技术和NIR-LED技术,高功率多波段UV-LED点光源可以把365nm-1050nm间1-5个LED模块集成到一台光引擎中,实现光谱组分的灵活定制,具有优良的光固化能力。这款高功率多波段UV-LED点光源采用触屏设置,操作简单,且具有非常稳定的输出和很长的使用寿命,广泛的应用在汽车自动化装配、医疗以及半导体制造等领域图1光纤耦合UV-LED点光源-ALE/1高功率多波段UV-LED点光源-ALE/1(以下 ...
昊量光电邀请您参加MicroFAB-3D双光子聚合打印系统网络研讨会!会议主题:MicroFAB-3D双光子聚合打印系统研讨会直播时间:2022年10月13日(星期四) 下午4:00主讲嘉宾:Dr. Louise Colin(Technico-sales Engineer)会议亮点:1、基于双光子3D打印机的产品介绍和功能介绍;2、DMD无掩模光刻系统产品介绍及设备展示;3、现场demo演示;4、参会人员提问环节。产品介绍:microFAB-3D是一款基于双光子聚合激光直写技术的超高分辨率3D打印系统,最小特征尺寸<200nm,加工的物体高度最高可达20mm,打印速度可至5mm/s,表面粗糙度 ...
昊量光电参加第24届中国国际光电博览会 (CIOE 2023)——展位号 4号馆 4B182+185第24届中国国际光电博览会将于2023年9月6日-9月8日在深圳国际会展中心举办,此次上海昊量光电设备有限公司将为您集中展示高能量纳秒激光器、266nm单纵模连续激光器、飞秒激光器、TDTR、3Ω、Neta、LIV 测试系统&功率计积分球、应力测量仪、大尺寸偏振元件(偏振片波片)、光栅、多波长激光干涉仪、FDD空间光调制器、DMD空间光调制器、CBG/RBG、特种光纤/锥形光纤、红外相机、匀化光纤、光纤束、光子晶体光纤、傅里叶红外光谱仪、六轴位移台、拉曼光谱模组、Moku、DMD无掩膜光 ...
尊敬的客户您好:我公司将于2021年3月17-19日参加慕尼黑上海光博会,诚挚的邀请您和您的客户莅临我们展位参观。会议信息如下:时间:2021年3月17-19日地址:上海新国际博览中心(上海市浦东新区龙阳路2345号)展位号:W5馆 5240 展位展位平面图如下所示,届时欢迎大家前来参观。重点展品:1. 920nm,4W光纤飞秒激光器(双光子)(全新样机免费试用)简介:920nm最高输出功率可达4W,超宽色散预补偿范围,超紧凑,高稳定性!可在复杂光路中保持脉冲宽度,为绿色荧光团(GFP)和钙指示剂(例如GCaMP)的双光子成像提供更高的亮度和对比度。试用预约中!2. Minus K 负刚度隔震 ...
昊量光电NEOARK 产品培训为了更好的了解产品,及后期产品服务的能力,上海昊量作为NEOARK在国内的代理商前往日本NEOARK公司接收了深入产品技术培训。培训内容包括磁学产品、DMD无掩膜光刻机及相关激光器等设备的安装,使用的培训,并且对相关领域的销售中常见的技术问题进行交流。部分培训内容包括:对磁学产品进行了系统的培训,主要针对如下三款磁学测量设备的结构,安装,调试,及使用,并现场测量多个昊量工程师带来的样品。①MOKE 磁性测量设备磁性测量系统采用高聚焦激光,激光光斑大小仅为1μm,可以进行微区的 磁性检测。一机可以进行极向克尔效应和纵向克尔效应的测量。克尔角的分辨率可以达到0.001 ...
昊量光电与日本NEOARK公司建立全面合作伙伴关系日本NEOARK 公司于2016年8月16日与上海昊量光电设备有限公司在磁性材料测量、磁畴观察、激光器等领域建立全面合作伙伴,昊量光电设备有限公司全权负责NEOARK公司在中国地区的所有市场、销售以及售后服务方面的工作。NEOARK 公司是世界上著名的磁光克尔测量系统、磁光克尔显微镜及相关的光学设备的制造商。研发的产品精度高、定制性强等特点,可以很好的满足工业和科研等方面的需求。目前NEOARK 产品主要可以分为以下几类:MOKE磁性测量和磁光克尔显微镜 Moke磁性测量和磁畴观察系统主要用于磁性材料磁性检测以及静态/动态磁畴的观察,磁性测量采 ...
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术,兼容多种高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件,MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽,为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性,可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性:较高的直写精度和分辨率(<200nm)(已有客户使用此设备实现低 ...
DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种光刻胶和基材。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状,而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术,投影出具有微米分辨率的图像,无掩模光刻机SmartPrint无需任何进一步步骤,就能直接从数字掩模光刻出您要的图。无掩模光刻机SmartPrint主要应用是MEMS, 微流体,二维材料,自旋电子学,生物技术和微电子等领域光刻表面微纳图案。主要特性:兼容SU-8、i、h、g线、AZ系统和宽带光刻胶等SmartPrint-UV ...
高精度紫外波段偏振态测量(斯托克斯参数测量)系统(180nm-200nm)深紫外偏振态测量仪 光刻机偏振态测量仪 193nm偏振态测量仪Hinds公司长期以来致力于偏振态测量研究,在紫外波长(180nm-200nm)范围内基于双PEM(光弹调制器)的偏振测量系统为量化光的斯托克斯参数提供无与伦比的精度与灵敏度。该科研级高精度stokes测量系统可实现每秒超100组标准化斯托克斯参数集获取。一次测量生成4个斯托克斯参数。该系统在光学元件表征、光学系统光束输出表征、天文学、光纤制造、光源和激光质量控制等方面具有广泛的应用。该系统采用了Hinds公司自研光弹性调制器(PEM)技术,提供 ...
SID4-UV-HR 紫外波前传感器/波前分析仪【SID4-UV-HR简介】随着光波波前探测技术的发展,各种波前传感器应运而生。从测量原理上可以分成两类:一类是根据几何光学原理,测定波前几何像差或面型误差,主要有Shack-Hartmann 波前传感器,曲率传感器和Pyramid 波前传感器等;另一类是基于干涉测量原理,探测波前不同部分的干涉性,来获取波前信息,主要有剪切干涉仪波前传感器和相位获取传感器等。剪切干涉仪波前传感器不需要精确的参考标准镜;它们结构简单,抗干扰能力强,条纹稳定。它是测量光学元件和光束波前质量的一种很好的替代传统干涉仪的方法。作为低可至波长250 nm的高分辨率波前传感 ...
SID4-UV 紫外波前传感器/波前分析仪【SID4-UV波前分析仪简介】随着光波波前探测技术的发展,各种波前传感器应运而生。从测量原理上可以分成两类:一类是根据几何光学原理,测定波前几何像差或面型误差,主要有Shack-Hartmann 波前传感器,曲率传感器和Pyramid 波前传感器等;另一类是基于干涉测量原理,探测波前不同部分的干涉性,来获取波前信息,主要有剪切干涉仪波前传感器和相位获取传感器等。剪切干涉仪波前传感器不需要精确的参考标准镜;它们结构简单,抗干扰能力强,条纹稳定。SID4-UV波前分析仪是测量光学元件和光束波前质量的一种很好的替代传统干涉仪的方法。SID4-UV波前分析仪 ...
超紧凑纳米压印机光刻技术实际上是一种精密表面加工技术,它借助于一定波长的激光光源以及选择性的化学腐蚀和刻蚀技术把设计的微纳图案转移到硅基板上。但是随着集成电路功能和密度的提升传统的光刻技术已经难以满足当前对线宽越来越小的需求。但是打破衍射极限的大型光刻设备又很昂贵。为了摆脱光学衍射极限和克服高成本的限制,一种操作简单,成本低廉的纳米压印技术产生了。纳米压印的技术核心是充分利用机械能将刚性模板上的图案转到抗蚀剂上,之后再借助溶脱、剥离、刻蚀等将图案转移到基板上。到目前为止压印技术已经发展出来多种类型,典型的包括热塑压印技术、紫外固化压印、微接触纳米压印、激光辅助纳米压印和滚轴式纳米压印技术等。上 ...
高损伤阈值、超大通光口径、高消光比金属线栅偏振片美国Meadowlark公司的超大口径线栅偏振片提供了损伤阈值高、宽带宽和超大口径的偏振解决方案,可提供325-450nm,450-1000nm,1000-2000nm三种工作波长范围,在此基础上可提供1 mm-200 mm的通光口径和10KW/cm2,CW,1540 nm的损伤阈值,在200℃的工作温度下,仍可以提供和二向色性偏振片一样的性能。keyword:起偏器,Polarizer,检偏器,Analyzer,偏振片,偏振器,超宽带线栅偏振器/起偏器/偏振片,超大口径线栅偏振片/偏振器/起偏器,高损伤阈值线栅偏振片/偏振器/起偏器,Versa ...
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