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为什么Microlight3D双光子聚合激光直写技术能实现67nm超高分辨率3D打印?Microlight3D是一家生产用于工业和科学应用的高分辨率微尺度2D和3D打印系统的专业制造商。MicroFAB-3D光刻机是该公司于2019年推出的第一台紧凑台式双光子聚合系统,一经推出便得到客户的广泛好评。 MicroFAB-3D基于双光子聚合激光直写技术,可在各种光敏材料上制造出蕞小尺寸可达67nm的二维和三维特征结构,兼容各种聚合物,包括生物兼容性材料、医用树脂和生物材料,为微流控、微光学、细胞培养、微机器人或人造材料领域开辟了新的前景。双光子聚合激光直写,也称双光子3D打印,基于“双光子吸收效应 ...
Microlight3D是一家生产用于工业和科学应用的高分辨率微尺度2D和3D打印系统的专业制造商。智能UV打印(SP-UV)系统,是该公司新产品。这是一种配有一个385 nm的紫外LED光源,基于DMD(Digital Micromirror Device)的全新无掩模光刻系统,因此SP-UV可以兼容所有标准的微电子光刻胶,包括微流体应用中不可或缺的i-line光阻剂SU-8。这一特点为半导体加工领域的开发人员,在光刻胶材料的选择上提供了更加广阔的空间。DMD无掩膜光刻机SP-UV的优势之一是对DMD光学投影技术的应用。这一技术在提高直写精度和速度的同时,提供了四种不同的直写分辨率。搭配Mi ...
。图2:法国Microlight3D公司DMD无掩模光刻系统结构图3、DMD无掩模光刻相比传统光刻有什么优点?借助DMD无掩模光刻成像的效率是传统光刻无法比拟的,其光刻成像过程完全受计算机控制,因而便于更改数字虚拟掩膜,并且DMD的成本较低,可以循环使用,极大的简化了传统光刻的流程,也大大降低了光刻加工的成本。4、Smartprint UV无掩模光刻系统有什么优势?Smartprint UV无掩模光刻系统源自法国Smart Force Technologies (SFT)公司,广泛应用在微尺度2D打印的各个领域。SFT公司于2019年被法国高分辨率2D&3D打印系统制造商Microli ...
光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上,然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。其中光刻系统被称为光刻机,带有图形的石英板称为掩膜,光敏记录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。具体光刻流程如下图所示 光刻技术是集成电路制造、印刷电路板制造以及微机电元件制造等微纳加工领域的核心技术之一。进入21世纪以来,随着电子信息产业的高速发展,集成电路的需求出现了井喷式的增长。使的对掩膜的需求急剧增加,目前制作掩膜的主要技术是电子束直写,但该制作效率非常低下,并且成本也不容小觑,在这种背景下人们把目光转移到了无掩膜光刻技术。 备受关注的无掩膜光刻技术大概可以分为两类 ...
光电喜获法国Microlight3D DMD无掩模光刻机独家代理。上海昊量光电设备有限公司自2023年1月1日正式成为Microlight3D公司SMART PRINT UV系列DMD无掩光刻系统的中国区独家代理商,此次获得Microlight3D的授权,体现了Microlight3D对上海昊量光电设备有限公司市场销售的专业度及售后技术支持力量的高度认可。我们将一如既往的为国内广大用户提供更为优质的服务。Microlight3D成立于2016年,在格勒诺布尔阿尔卑斯大学(Université Grenoble Alpes,UGA)进行了长达15年的3D微型打印技术研发。格勒诺布尔阿尔卑斯大学创 ...
尊敬的客户您好:我公司将于2021年3月17-19日参加慕尼黑上海光博会,诚挚的邀请您和您的客户莅临我们展位参观。会议信息如下:时间:2021年3月17-19日地址:上海新国际博览中心(上海市浦东新区龙阳路2345号)展位号:W5馆 5240 展位展位平面图如下所示,届时欢迎大家前来参观。重点展品:1. 920nm,4W光纤飞秒激光器(双光子)(全新样机免费试用)简介:920nm最高输出功率可达4W,超宽色散预补偿范围,超紧凑,高稳定性!可在复杂光路中保持脉冲宽度,为绿色荧光团(GFP)和钙指示剂(例如GCaMP)的双光子成像提供更高的亮度和对比度。试用预约中!2. Minus K 负刚度隔震 ...
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