SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
芯片科普——DMD光刻机你知道一个芯片是怎样设计出来的么?你又知道设计出来的芯片是怎么生产出来的么?看完这篇文章你就有大概的了解。一、复杂繁琐的芯片设计流程芯片制造的过程就如同用乐高积木盖房子一样,先有要有白色底板作为地基:这些白色的底板部分在芯片制作中对应着的东西称之为晶圆。再层层往上盖一些其它积木,就可以搭出我们心中的乐高( IC芯片)。可以类比乐高玩具的制作,我们首先想到的是乐高玩具的建模软件,和零件制作模具。因此,IC芯片的设计者、也会有一些软件辅助规划,也有相关的专门技术负责制作芯片的零件。然而,工程师们在设计一颗 IC 芯片时,究竟有那些步骤?设计流程可以简单分成如下。现在知名的芯 ...
DMD作为滤波器在激光器中应用多波长激光器以其优异的性能被广泛应用于波分复用光通信、光传感网络以及微波/太赫兹产生等领域。可采用EDFA、半导体光放大器和拉曼放大器等多种增益介质来产生多波长,EDFA是常用的方法。然而,为了在室温下实现稳定的多波长工作,必须抑制EDFA的均匀谱线展宽和模式竞争。DMD空间光调制器是可考虑实现功能的器件。图1 DMD微镜阵列中的两个微镜工作方式用DMD在c波段调谐多波长。DMD选择16个波长波段,然后耦合成独立的EDF环,因此波长之间不存在模式竞争。在DMD上的倾斜微镜衍射行为与二维闪耀光栅相似,因此可以通过控制DMD衍射效率来改变这些输出波长之间的功率分布。波 ...
《DMD的激光功率处理》白皮书介绍(二)《《DMD的激光功率处理》白皮书介绍(一)》中提到DMD在不断拓展应用场景时面临许多挑战。而在脉冲激光系统中应用时,激光功率和其造成的数字微镜升温问题尤为重要。我们需要知道其中制约关系,防止在实际使用中损坏DMD器件。前文介绍了单个DMD微镜在不同脉冲激光条件下升温降温过程,并建立描述这一过程的物理模型。接下来的内容是将单个微镜的升温过程置于微镜阵列和基底环境中,以求得在DMD使用场景下应当遵循的一般使用条件。前文模型仅预测单像素温度上升模式,为确定总像素温度,必须知道阵列温度。阵列温度取决于特定的封装。在确定的输入光能量时,阵列温度一般与封装背面的陶瓷 ...
《DMD的激光功率处理》白皮书介绍(一)从历史上看,数字微镜器件(DMD)技术的主要应用一直是在显示系统中,在过去数年中,DLP嵌入式用户正在探索许多新的应用。其中许多应用都考虑将激光器与 DMD结合使用。激光使用连续和脉冲模式操作。脉冲操作的众多优点之一是,在脉冲期间可以达到非常高的峰值功率,并且平均功耗相对较低。这种工作模式可实现各种烧蚀模式(热和非热),适用于沉积、医疗和其他应用。过去依据稳态热模型来预测DMD阵列和像素的温度,并以模型为基础形成Vialux的DMD数据手册上最大照明功率密度规格。然而在考虑脉冲激光照明条件时,DMD的像素瞬态温度不能被忽视。大温差和高温会降低DMD的半导 ...
简介DMD的光学系统装调误差DMD超分辨成像系统成像质量,与压缩感知方法应用有关。压缩感知理论想要达成以最小化数据量达到正常数据量类似效果,与超分辨成像理念契合。然而最小化数据量也需要数据的精准性保证超分辨重建结果准确。所以作为产生信息的DMD超分辨成像光学系统,其装调误差就是必然要考虑的因素。分析光学系统的误差首先要建立DMD超分辨成像光学系统的成像模型,引入适当的偏心、倾斜、镜片间隔误差、离焦等装调误差,模拟实验过程产生的误差。然后得出重建结果的峰值信噪比(Peak Signal to Noise Ratio, PSNR),以此作为评价图像质量的指标。PSNR单位是dB,衡量图像失真程度的 ...
DMD在太赫兹全息图重建中应用简介DMD对泵浦光空间调制形成纹样,投射到硅片上,共同组成光调制系统。不同纹样区域硅片对太赫兹光的透射率不同。接收器件探测经过样品产生的全息图信息。由于DMD高速成像的特点,光调制系统可在短时间调制多组太赫兹光,足够的全息图信息用于重建样品空间模样,大大缩短全息重建耗时。太赫兹成像方案光调制部分:这部分由高电阻硅片和DMD器件组成高速光调制器。硅片曝光区域产生载流子,局部改变硅片的复介电常数,形成高导电区域,降低太赫兹透射率。DMD微镜阵列控制硅片曝光区域图样,形成不同太赫兹透射率区域。DMD高速变换图样,整个光调制器可对光束进行动态编码。接收器部分:应用单像素成 ...
DMD在双光子激发显微镜中应用时间聚焦是一种高度并行的激光激发技术,广泛应用于细胞动态成像、光遗传学和微制造等领域。虽然时间聚焦多光子激发显微镜能在宽视场成像,但在轴向分辨率方面传统点扫描多光子显微技术更占优势。一种改进方式是采用线扫描的工作方式,将光线聚焦到线中来对激发平面进行图形化,提高轴向分辨率。而使用DMD可以有效实现对光的快速空间调制,在激发面形成动态图样。同时由于DMD的图样可编程性,可以控制线宽,也可以同时照明多条线,并快速扫过样品。这有利于实际实验中平衡照明区域和轴向分辨率的不同需求。上图为实验装置示意图。激光束经过反射光栅衍射,通过两个凸透镜将经过衍射的光束投射在DMD的微镜 ...
何为DMD?DMD即“Digital Micromirror Device”数字微镜器件,是一种基于MEMS技术的微反射镜阵列单元,单元数量可达百万量级,是一种电子输入、光学输出的微机电系统 (MEMS),开发人员可借助该系统执行高速、高效及可靠的空间光调制。图1:DMD单个工作单元图示1、何为无掩模光刻?无掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技术。在传统光刻过程中,需要采用光学照射掩模版的方式将图案转移到掩模版上;而在无掩模光刻中,对目标图案的转印不需要掩模版,而是通过电子束或光学的方式直接在基片上制作出所需要的图案,这种方式避免了传统方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺点。2、何为DMD ...
D光源,基于DMD(Digital Micromirror Device)的全新无掩模光刻系统,因此SP-UV可以兼容所有标准的微电子光刻胶,包括微流体应用中不可或缺的i-line光阻剂SU-8。这一特点为半导体加工领域的开发人员,在光刻胶材料的选择上提供了更加广阔的空间。DMD无掩膜光刻机SP-UV的优势之一是对DMD光学投影技术的应用。这一技术在提高直写精度和速度的同时,提供了四种不同的直写分辨率。搭配Microlight3D的“快速切换”物镜系统,仅需2秒就能完成分辨率切换。Microlight3D首席执行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技术可以与 ...
DMD是一种微光学电子机械系统(MEMS),它包含一组有±12度倾斜状态的高反射率的铝正交微镜阵列。拥有极高的刷新频率和可编程的显示控制,可以实现对投影区域光能量的调制。这些DLP芯片通常用于高速工业、医疗和高级显示应用。光学作为一种微光学机械电子元件,它有两个稳定的微镜状态(对大多数当前的DMD来说是+12°和-12°),这是由像素在工作中的几何结构和静电控制决定的。不上电时,DMD微镜处于平坦状态,上电以后,可以实现双稳态运行,两种偏转位置决定了光的偏折方向。按照惯例,DMD作为空间光调制器,正(+)状态是向照明方向倾斜的,称为“打开”状态。类似地,负(-)状态偏离了光照,称为“off”状 ...
美与不平凡。DMD(Digital Micromirror Device)数字微镜系统芯片也许能算得上这样一个角色,一块只有指甲盖大小的镜片,看似普普通通,但你可别太小瞧它。图一:DMD芯片模组出身名门DMD芯片由德州仪器(TI)公司研发,德州仪器公司目前全世界最大的模拟芯片公司,被誉为是推动因特网不断发展的半导体引擎。起初,为了获得更高品质的显示,1987年,Larry Hornback博士用他天才的智慧、高超的工艺水准和极为严苛的品质精神设计了DMD芯片。使得DMD在MEMS(Micro-Electro-Mechanical-System)微机电系统领域成为当之无愧的科技之光。图二:DMD ...
膜技术;例如DMD无掩膜光刻技术、激光直写、干涉光刻技术、衍射光学元件光刻技术等。 其中DMD无掩膜光刻技术是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术,因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似,区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜,其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中,并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角,并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射到基片表面,并通过控制样品台的移动实现大面积的微结构制备。设备原理图图下图所示。相对于传统的光刻设备,DMD无掩膜光刻机无需掩膜,节约了生产成本和周期并可以根据自己的需求灵活设计掩 ...
万像素超高速DMD空间光调制器上海昊量光电最新推出的ViALUX4.0Mpix超高速DMD空间光调制器V-9001VIS采用TI 2015年10月7日推出的DLP9000X芯片组。DLP9000X芯片组由DLP9000X DMD数字微镜和DLPC910组成,与上一代芯片组DLP9000相比,ViALUX V-9001VIS其数据带宽增加了5倍达到60 Gbps。ViALUX 4.0Mpix超高速DMD空间光调制器V-90001VIS在充分利用DLP9000X芯片组的高带宽基础上,还在硬件驱动电路中集成了高达64GBit的片上内存和高速USB3.0数据接口。DLP9000X芯片组使用类似于DLP ...
DMD精微反射镜面是一种整合的微机电上层结构电路单元 (MEMS superstructure cell),它是利用CMOS SRAM记忆晶胞所制成。DMD上层结构的制造是从完整CMOS内存电路开始,再透过光罩层的使用,制造出铝金属层和硬化光阻层(hardened photoresist) 交替的上层结构,铝金属层包括地址电极 (address electrode)、绞链(hinge)、轭 (yoke) 和反射镜,硬化光阻层则 作为牺牲层 (sacrificial layer),用来形成两个空气间 (air gaps)。铝金属会经过溅镀沉积 (sputter-deposited) 以及电浆蚀刻 ...
继到数字微镜DMD上。为图像编码,利用DMD调制:DMD每一个编码像素会沿表面法线整转 +12°(“ON”)或 –12°(“OFF”),并将入射光反射到两个方向之一。用互补图案掩膜产生的四个反射光束由相同的立体镜物镜收集。收集到的光束通过两个管透镜,并由一对平面镜和一个直角棱镜调整光路,入射条纹相机,形成四个水平对齐的图像。由条纹相机捕获时间处理的图像数据。DMD两个像素的工作示意图(+12°、-12°)实际测量时,在CCD和条纹相机前加偏振片,可收集偏振信息。最终系统一次采集六个原始信息图像。并由这六个原始信息图像还原被测现象的五维数据信息。您可以通过我们的官方网站了解更多的产品信息,或直接 ...
传振. 基于DMD的InAs/GaAs量子点外腔激光器的性能研究[D]. 曲阜师范大学, 2014. ...
机强度分布的DMD(数字微反射镜),从而不再需要参考光路,只需要用一个单像素相机就可以完成测量。DMD或者振幅型LCOS为压缩感知的鬼成像(compressive ghost imaging)的核心器件。4、时间反转技术 时间反转技术(Time Reversal)是由声学领域发展而来的一种新型的成像技术。其基本原理为:用一台换能器将接收到的声音信号转化为电信号,然后对这个电信号进行混频处理,可以得到一个时反信号,最后对该信号用换能器向外发射,实现原始信号的共轭,同时在目标方位上完成空间聚焦。 在2008年,国外的团队使用铌酸锂晶体(LiNbO3)进行了相关的实验。首先他们利用铌酸锂晶体(LiN ...
字微镜阵列(DMD)、多量子阱空间光调制器以及声光调制器等。还可以用紫外光刻来制作特定的衍射光学元件来调制光场。现在用的较多的是由计算机寻址的液晶空间光调制器实现全息元件,通过改变全息元件就可以使得所形成的光阱作动态变化。在计算机出现之前,需要采用激光全息的方法形成有限形状的全息图。目前在计算机的辅助下,可以实现任意形状的全息图。不过,每实现一种新设计的光阱,都需要重新计算相应的全息图。随着计算机速度的不断刷新以及新的算法的出现,在一般的科研实验室已经可以很容易实现任意形状的全息光镊。原则上全息光镊可以产生任意形状、大小、数量的光阱。通过改变捕获光的相位分布,可以使捕获粒子在光阱中按设定的路线 ...
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