荧光显微镜校准载玻片简介昊量光电新推出法国ARGOLIGHT公司生产的耐用型荧光显微镜校准载玻片,用于荧光显微镜的标定和光路对准。独创的显微镜标定技术和光路对准得益于将亚纳米级三维/二维图案嵌入到载玻片的技术,且图案不会别光漂白可以重复使用。这款强大的新工具可帮助载物台重新定位,测量探测器的功能,检验包括照明均匀性,系统的横向和轴向分辨率以及光谱形状,强度和寿命响应等等一系列参数。ARGOLIGHT荧光显微镜校准载玻片适用系统示例:每个Argo-POWER-HM载玻片包含多个荧光图案,荧光参数如下:产品规格:终身保修的荧光发光尺寸:75x25x6 mm,标准载玻片尺寸激发波长范围:连续波长25 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(七)- 当前在位监测装置设计3当前在位监测装置设计3.1真空镀膜系统集成在位椭偏仪测试装置可分为两类,一类是把设计的装置直接和椭偏仪的两个臂连接,另外就是把设计好的装置放置在两臂之间,不改变椭偏仪原始的任何设计。后者设计使用更方便简洁,有利于装置的更换。如图1-12所示,是报道过的椭偏仪在位测试的装置图。图1-12(a)是M.Magnozzi等设计一个实时在位光谱椭偏测量的高真装置。该装置是基于一个圆柱型管,在其两端有两个KF100法兰(见图1-12(a),左)。底部为KF100法兰(a)作为支撑样品的支架,安装有加热器和两个双动电偶;主体(b)容纳几个焊接 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(八)- 溶液的影响和固液界面的影响4椭偏仪在位监测电化学沉积的挑战椭偏仪在位监测电化学沉积的挑战主要分为:溶液的影响和固液界面的影响,以及装置的设计。4.1溶液溶液对实现椭偏仪在位监测电化学沉积薄膜主要会带来两方面的影响,第1种是溶液的扰动,比如在开放的溶液体系,溶液表面的扰动可能会对光产生多种散射机制,从而给测试带来困难。另外是溶液中浓度变化所带来的影响。当光波场频率很大且溶液的浓度不太大时,光学常数折射率及消光系数有如下关系式:由朗伯定律与光强度的定义得吸收系数β与消光系数k的关系为:又由比尔定律知,当溶液浓度足够小以至于分子间相互作用能被忽略时,溶液吸 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(九)- 光学模型的建立与数据的提取4.3在位测试装置目前的在位椭偏仪监测电化学沉积的关键在于系统的集成。实验室的椭偏仪光源为氙灯,可以进行全谱的测试,但是这也导致单波长的光强度较弱,因此装置设计中的光路设计尤为重要,另外是光斑的大小问题,光斑大小会随着测试角度的变化而变化。另外其设计需要满足电化学薄膜沉积的需求,又要同时满足椭偏仪测试的需求。如作为电解池它需要满足容电解液充足,且可以放置好工作电极、对电极和参比电极。椭偏仪的在位装置首先要满足透光,其次是保证工作电极易于调节入射光和出射光在同一光平面,需考虑溶液的光程,原则上越小越好,这样可以减小光的衰减,更 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(十)- 研究内容和意义5.研究内容和意义如下图1-19为用于分析梯度层的光学模型。当梯度层的光响应用多层结构表示时如图1-19(a)所示,其厚度dj和介电函数都是必需的。然而,由于存在大量的分析参数,使用这种光学模型进行椭偏谱分析通常比较困难。此外,该分析中的拟合误差随着分析误差的传播逐渐向顶层增加。但是在VSA中,复杂的底层结构用伪介电函数表示,只有厚度(d)和介电函数如图1-19(b)。因此,即使样品的介电函数在生长方向上不断变化,VSA的分析也可以相对容易地进行。图1-19用于分析梯度层的光学模型:(a)多层模型和(b)虚拟衬底近似(VSA)图1-20 ...
照亮未来:Electro Optics对Lumencor创始人Claudia Jaffe的专访Lumencor首席商务官Claudia Jaffe在Photonics West 2023获得由Electro Optic的Mark Elliott颁发的Photonics100证书Electro Optics:您和您的丈夫——现在是公司总裁——Steven在车库中共同创立了我们现在所知的Lumencor,它的灵感是什么?Claudia Jaffe:Steven是一位连续创业者,从研究生时期起,他就是自己的老板。他当时正从事显示技术的工作,而一些推动研究、诊断和治疗的蕞关键技术取决于专业的照明,而大 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(十一)- 工作电极的制备与椭偏仪在位监控2.1工作电极的制备实验中所用的工作电极为在Si(100)上磁控溅射100-200nm厚的Au,其制备流程如下:(1)清洗由于在生产保存与运输的过程中会使得硅片上残留无机、有机和其他灰尘颗粒污物,其对硅上的镀膜有着较大影响,故而镀膜之前需要对硅片进行清洗。清洗步骤:1.首先在丙酮中用超声清洗仪超声5-10分钟;2.然后用去离子水超声同样的时间;3.接着在酒精中超声清洗;4.zui后再用去离子水超声清洗。在完成以上步骤去除硅片表面的残留污染物后,将其置于鼓风干燥箱干燥即可。(2)磁控溅射由于金的晶格常数和硅的晶格常数存在 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(十二)- 光学常数的提取与COMSOL Multiphysics2.3光学常数的提取2.3.1建立光学模型通过椭偏测试得到包含整个池体的参数ψ和Δ,这时要想提取CU2O的光学常数及生长速率就需要进行建模拟合。首先把整个池体看成多层膜结构,光从空气中依次经过ITO、溶液、CU2O以及Au衬底,zui后反射回到椭偏仪的出射臂,zui终信息被接收。在物理层面将池体简化为四层膜的模型,即ITO/溶液/CU2O/(Au/Si),如图2-3(a)所示。根据拟合需要可以对结构模型进行调整,如:ITO和溶液混合层/CU2O/(Au/Si)的三层膜模型,如图2-3(b)所示。 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(十三)- 形貌及成分2.5形貌及成分2.5.1形貌分析表征样品的形貌常用的仪器是扫描电子显微镜(SEM),其原理是通过高能的电子束扫描样品表面激发出背散射电子、二次电子和X射线等信号,然后对接受到的信号进行放大并显示成像,实现对样品形貌等的监测。扫描电子微镜显具有操作简单方便,得到的图像清晰,zui大程度还原真实样品形貌等优点。通过扫描电子显微镜观察Cu2O薄膜,得到其表面形貌与颗粒尺寸等信息,从而对Cu2O薄膜有更加直观了解。2.5.2成分分析得到的样品薄膜通过X射线衍射谱仪扫描确定其成分。X射线是一种波长约为20到0.06Å的电磁波,利用原子内层的电子被 ...
椭偏仪在位表征电化学沉积的系统搭建(十四)- 在位监控装置的设计之前简要介绍了在镀Au的硅片基底上用电化学方法沉积Cu2O薄膜并进行椭偏测试的制备过程、表征方法和实验中所用的试剂及设备,对基底电极Au/Si清洗和制备过程进行了详细描写,接着介绍了形貌表征及电化学测试等手段,如:椭偏仪测试与建模拟合,X-ray进行对样品的物相分析,SEM可观察薄膜的微观形貌。这些测试可以分析出Cu2O薄膜的光学形貌等特点。而在椭偏仪在位监测中,装置的设计是重点,要考虑池体的大小、溶液的容量、光路经过的介质、电极的放置等问题,本章主要介绍实验装置的设计、改进以及对应的一些测试实验。3.1开放容器在开始设计装置之前 ...
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